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碳化硅MOSFET和IGBT应用中的降额标准有什么差异?

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 楼主| 发表于 2025-1-27 16:00 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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碳化硅(SiC)MOSFET与绝缘栅双极晶体管(IGBT)在应用中的降额标准差异主要体现在温度敏感性、开关损耗特性及导通电阻变化等方面。以下从关键维度对比两者的降额策略差异:0 v  J% _! C- ]

/ L: G& O/ l. ~5 z% C1 T倾佳电子杨茜致力于推动SiC碳化硅模块在电力电子应用中全面取代IGBT模块,助力电力电子行业自主可控和产业升级!
/ q% U  B. e4 E2 o
5 q  x9 L3 I5 H  A1 \$ A倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三个必然,勇立功率半导体器件变革潮头:" O' R( S/ ]( C' b; {

7 }5 l/ ]0 @( Z2 O. h倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET模块全面取代IGBT模块的必然趋势!, T$ n# W6 m" S! ]
倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET单管全面取代IGBT单管的必然趋势!
4 W3 O1 z& a2 \5 Y5 r- k2 |: n) K倾佳电子杨茜咬住650V SiC碳化硅MOSFET单管全面取代SJ超结MOSFET和高压GaN 器件的必然趋势!
( A, C' O$ H8 u9 ?  W& Z4 e" |! ~5 h0 b
6 c+ N1 L& j  @1 K2 Z
---' N3 B3 }  L5 v/ T! B* T
  E: Z7 Y! A( U# N/ @4 J+ t
### **1. 温度降额:高温稳定性差异**  ' _; T, s* ]4 D! n1 V1 o
- **SiC-MOSFET**:  * s" K  [! y# M( T! a+ L, i
  - 其导通电阻(\(R_{ds(on)}\))随温度升高的变化幅度较小。例如,在150℃时,SiC-MOSFET的导通电阻增幅比硅基MOSFET低约50%,因此高温下的功率降额需求更低。  % J/ Z( H! y, q) U/ k( R3 {
  - 无IGBT的“尾电流”问题,开关损耗在高温下几乎不增加,无需因温度升高额外限制开关频率或电流容量。  ! p+ Z9 q2 q' g* l1 O
& @0 y+ ?! D0 o  y( w* O* Q
- **IGBT**:  
% F4 u* V# |! ^" B+ J- N  - 高温下导通压降(\(V_{ce}\))显著增大,且关断时的尾电流随温度升高而加剧,导致开关损耗增加。例如,IGBT在150℃时的关断损耗可能比室温时高20%-30%,需通过降额降低电流或电压以控制温升。  
! f9 \/ A# Q* K  - 通常需设置更严格的温度降额曲线,例如额定结温(\(T_j\))的80%作为实际运行上限。5 ]) [2 x+ t+ I, S; @
6 R- {7 x- ~. s- u
---4 x3 ?# s* a8 R, M8 @% e
. M* R. t5 L1 T1 Q
### **2. 开关损耗与频率降额**  
+ M. n: s3 {7 w) d1 R- **SiC-MOSFET**:  ( R4 u1 q) \* J) C" t7 ]* d* T
  - 开关损耗仅为IGBT的10%-20%(如与SBD配合时关断损耗降低88%),支持更高开关频率(MHz级)而无需大幅降额。  
8 W5 C8 K% _# ?9 B" w  - 高频应用中,可通过优化驱动电阻(\(R_g\))和封装设计进一步减少损耗,降额主要针对寄生参数(如电感)而非频率本身。  # M# t2 Q$ C3 I

2 O0 g5 Q  M' r) y: Y: c- **IGBT**:  3 y# k" [# F% s# u; |6 m1 G9 r
  - 开关损耗较高且随频率线性增长,尤其在关断时因尾电流导致损耗陡增。例如,在20kHz以上应用中,需将电流或电压降额30%-50%以控制温升和可靠性。  
: y, Q6 m5 a6 ?1 j  ~  - 高频场景下通常需牺牲效率或功率密度以满足降额要求。% R1 `1 f! K. a

% ], W  `& F/ y, k( Q---
( c% \; C+ W) \1 b- i0 g0 f* j: U6 R0 Z' W" I5 O# g, U' D/ V1 I' Z
### **3. 导通特性与电流降额**  ' ]% m0 P0 |; O  A& h; \
- **SiC-MOSFET**:  
4 g& y2 R. k  x8 v: }! W  - 导通电阻(\(R_{ds(on)}\))在低电流区呈线性特性,低负载时效率优势显著。例如,在10%额定电流下,其导通损耗比IGBT低50%以上,因此低功率运行时无需额外降额。  8 W( ?0 W. i& k! l  Q/ y
  - 多芯片并联时需考虑参数分散性,但通过均流设计可减少降额需求。  0 F& X& q4 d5 p+ `) [) R: K6 C

7 o3 D+ T5 |7 U5 y# I7 E# A- **IGBT**:  3 j- n: W! E& C$ U0 i( C0 W) |, M+ j0 s
  - 低电流区域导通压降(\(V_{ce}\))非线性显著,导致效率骤降。例如,在额定电流的20%以下时,IGBT效率可能下降5%-10%,需通过降额限制最小工作电流。  
+ ?6 L) i$ U, N& |, i  - 大电流应用中,导通压降随电流增大而上升更快,需根据负载曲线动态调整电流限值。, W2 V+ E6 B" {0 q! c
9 W/ E% p, c0 O  L
---
  y; s# R$ P2 n0 O. y8 r6 G0 k/ {* ?0 I1 {6 \3 _
### **4. 电压与可靠性降额**  ! w: x( ?+ J7 o+ P/ y6 k& ], ~' F
- **SiC-MOSFET**:  - W2 p. }* K- T7 x2 G
  - 耐压能力(如650V-1700V)与动态特性优异,雪崩能量耐受性高,通常仅需10%-15%的电压降额(如650V器件按600V设计)。  
1 j- A1 c+ D. E+ `: n/ J  - 栅氧可靠性通过工艺优化提升(如均匀性≤0.5%的栅氧化层),进一步降低电压降额需求。  
; i+ {* m+ }2 @- W
$ x  j  i9 Q/ q* A; w- **IGBT**:  
& Q" N5 n; y( l) {# W  - 高压应用(如1200V以上)需更保守的电压降额(20%-30%),以避免动态雪崩击穿风险。  
+ [) v* v, M/ j. j% b) y  p/ i  - 反向恢复电荷(\(Q_{rr}\))较高,需结合FRD(快恢复二极管)降额使用,增加系统复杂度。
8 B) M. z& |. f; v' l/ m- \- R4 e
% i- j4 H$ z! y: r---
. j6 M! _, R- e4 P" |3 ~. b
3 g. H* c' i+ _9 E( F### **总结**  
9 z6 _# {* w7 z9 M) tSiC-MOSFET凭借高温稳定性、低开关损耗及线性导通特性,其降额标准较IGBT更为宽松,尤其在高频、高温及宽负载范围场景中优势显著。而IGBT因结构限制需在温度、频率及电流等多个维度实施更严格的降额策略。实际设计中需结合具体应用场景(如新能源汽车、光伏逆变器)和可靠性目标,制定差异化的降额方案。
+ A; o6 q4 Y$ K/ ~3 o; q3 h" `1 y
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  • TA的每日心情

    2019-11-20 15:16
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    [LV.1]初来乍到

    2#
    发表于 2025-2-5 10:29 | 只看该作者
    SiC-MOSFET凭借高温稳定性、低开关损耗及线性导通特性,其降额标准较IGBT更为宽松,尤其在高频、高温及宽负载范围场景中优势显著
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