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[仿真讨论] 硅谷动态

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发表于 2012-5-9 13:06 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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本帖最后由 stupid 于 2012-5-9 13:12 编辑
7 S( o& i' d4 @5 @3 s, v
& p: |; e/ V$ ?4 Q4 {混合信号电路设计进入28nm“分界区”
$ \+ X; }6 R  ]4 j; B5 Z* v
+ _5 o+ ]  {- Y8 x4 A& k  Berkeley设计自动化(BDA)公司CEO Ravi Subramanian(见图1)在主题演讲中阐述了混合信号电路特征在纳米技术时代的挑战。他指出,混合信号电路设计进入了28nm“分界区(Twilight Zone)”,7点理由如下: 2 J9 ^: P$ G4 M+ x8 c
# {4 X& B7 _9 Q7 h; D6 G2 }1 Z' H

' Y# `3 U0 I  ^% f图1 Berkeley设计自动化公司CEO Ravi Subramanian, V* B" B) \5 V2 Z
5 Z% G+ A+ ^- }2 w
  1.随着工艺节点的发展,器件建模愈加复杂。90年代初的BSIM3(加州大学伯克利分校仿真晶体管模型)只有一些基本模型,后来的BSIM4增加了RF模型(包括基板阻抗和热噪声)、广泛的与布局布线相关的寄生参数模型、栅致漏极漏电(GIDL,gate-induced drain leakage)和栅极介电隧道电流等。此外,模型还增加了Verilog-A,及其他无源器件、二极管、受控源器件等基本元件。BSIM4.7模型的出现进一步证明了建模的复杂度。 " V1 c8 w, ]) {9 ~' T' Z

) R" W( v% l& }( y2 v  Subramanian解释道,当提高晶体管内部的精度时,等效电路方程会相应增加。例如,若每个MOS管内增加3个节点,等效电路方程增加11倍,这意味着仿真时每个晶体管的计算增加了11倍。可以想见,对于100个晶体管,仿真时间可能从1小时增加到11小时。 6 ?" g0 j5 Q8 p2 W' z; H3 j

$ s9 s6 G$ ~( D# p1 o; R1 [  2.对于后布局仿真,寄生效应引起的巨大破坏性在增长。其表现为,一项简单的设计中,数据库容量要增加10-20%,甚至高达3-4倍。
- W6 o9 {. a5 q! h1 y- Z4 b, F6 x% _9 g/ Q% i# ?2 x/ r/ x( k
  3.在纳米CMOS工艺时代,器件噪声从以前的三阶、甚至四阶效应,已发展成为目前的一阶效应,严重影响了电路性能的提升。为此,要保证电路性能不降低,需在功耗或占位面积方面进行折中设计。 7 A" e  r' y/ d' g3 F' V
9 B( ?* Z5 {: W1 C; o2 z8 g  a6 R
  4.从最佳器件模型到最差器件模型,及过温和过压状态下,电路性能的变化,即corner spread问题。它会随着芯片工艺尺寸的减小而增加。 ( Z0 v& \8 F1 L8 y8 Z) D
- k0 ~( x8 F% y( V$ p0 V5 b- c+ B
例如,在通常的锁相环VCO设计中,若晶体管采用65nm制造工艺,从慢corner spread曲线(慢晶体管性能)到快corner spread曲线,某个给定信号的运行变化范围是1.5倍;而对于22nm工艺,从慢corner spread曲线到快corner spread曲线,某个给定信号的变化范围将达2.5倍。因此,设计中需要容纳这样的变化率,以满足设计规范。
$ e! L. k2 Q, [2 u% ~( Q3 Q4 \$ f8 I: I1 a
  为解决corner spread问题,要通过严格的设计规范进行控制。用低阈值电压器件缓解corner性能的较大变化,但由此带来的最大缺点是漏电流增大。高阈值电压器件可解决漏电流问题,但只适于数字电路。这两点要做到均衡很不容易。90nm到45nm,45nm到28nm的IP重用也很困难。
  o# U6 @) {& d$ s- o8 E- E6 m* s# r+ R  ^2 x8 n' G. S  I  i2 ?
  5.低压混合信号设计能实现低功耗,需大胆标定芯核电压,I/O供电较为可取。在设计中,对于输出级,稳压器要从NMOS转成PMOS,用附加电路解决输出匹配和电源噪声问题。I/O电路的新发射极架构包括电压模式驱动、混合电压模式和电流模式,但电压模式下,数据率会降低,抖动将增大。
9 g1 m, {/ w5 V$ v2 ~
! T8 Y4 e6 s; I) Q+ b6 W2 y  6.28nm时代的设计规则也更加复杂,就连一向受业界景仰的模拟设计师也不太容易熟练地驾驭。设计布局要认真考虑,器件类型和尺寸都有更严格的限制。
, T7 J& m. R1 r/ O% b7 g0 J: r( G9 V. ~- Y3 |
  7.目前,复杂的模拟电路和数字电路将同时在新纳米工艺节点上出现。28nm工艺的ASSP大批量生产中,混合信号电路的良率会出现主要瓶颈。要保证高设计良率(DFY),需要知晓制造和可靠性方面的工艺特性。例如,电迁移;HCI(MOS器件的热载流子注入)、PMOS器件的NBTI(负偏压温度不稳定性)效应;NMOS器件的PBTI(正偏压温度不稳定性)效应。 , b: n# w" ~2 q, C: V3 b

0 T; \7 S8 r/ _& U; A9 ?# a/ E  同时,要注意两种失配对设计良率的影响。来自制造变量的器件局部变化所引起的统计失配,及来自布局的系统性失配。前一种失配需要先进的Monte-Carlo仿真,而后者需要新的布局方法。
+ Q, s! g* c& D0 E
- n7 U6 ?1 t4 C- C  28nm与40nm的特征要求比较,28nm与65nm的DAC SFDR(无寄生动态范围)分别如图2和图3所示。 9 _' F) }' N0 N8 u5 B4 P1 r

3 p! A- E7 T+ |# W
5 K* R2 g. {0 ?图2 28nm与40nm的特征要求比较(红色字为28nm特征,分别比40nm提高20和10倍)
, Y" ?* L' a. z1 B3 I2 J: O6 T7 T
( f. _7 }3 F& s% V9 y/ x2 g4 e2 o8 D图3 28nm与65nm的DAC SFDR(17MHz时,红色字为28nm的SFDR值)
- i5 R' p! [6 u2 u# `& S; N$ A5 K  m2 }$ v3 }* w2 ~' c
对于nm定制化设计,BDA公司提供AFS(模拟FastSPICE)平台,及28nm精确检验(Accuracy Validation)噪声分析工具,其流程见图4。 6 x/ }* F  X; C! q3 R# s! a

6 z0 t* u8 t6 t# V0 s' d/ t # b6 j0 i; Q8 Q1 w3 m7 `
图4 BDA公司的28nm精确检验(Accuracy Validation)流程
; o' {& [3 `! s) E  `4 d% G
+ f7 `# x+ p. Y8 `0 Q% `9 j带虚拟外设的仿真平台
( {/ D! ]7 _9 x4 e8 j- `2 K8 w; u, H4 _! e; ]! G* `
  mentor Graphics针对SoC设计验证开发出了带VirtualLAB外设的下一代仿真平台Veloce2。最多支持20亿逻辑门的设计,与上一代平台比,在同样的占位面积和功耗下,Veloce2把性能和容量提升了2倍,即生产力提高了4倍。具有快速编译能力,完全可视化调试和存储器建模。
5 L: o( c' \2 U+ t" d0 f3 o1 b& z; u3 I
  “这主要因为Veloce采用了全定制化仿真芯片Crystal2。65nm工艺的Veloce2可与45nm的竞争仿真器媲美。与最接近的竞争产品比,功耗降低了75%,每逻辑门的占位面积减小了2/3,5年内可节省50万美元的成本。”Mentor仿真部门营销总监Jim Kenney(见图5)表示。
  K/ W7 [. Q& p  o9 O( L* R
& f% x5 R0 ~- Q( B- ?2 R7 R
* b* K, W, J; u2 G4 G  V7 c图5 Mentor仿真部门营销总监Jim Kenney$ p+ z' _2 j6 ~2 ~5 N
  与成本高且缺乏灵活性的ICE(电路内仿真)比,VirtualLAB为验证工程师提供了与Veloce平台相联的基于Linux软件的外设,能同时支持多位设计师,而ICE需通过硬件加速适配器与仿真器进行物理外设连接(见图6)。这种虚拟实验室环境可验证高端CPU、网络交换机或路由器、数字机顶盒、平板电脑、智能手机和数字相机等复杂电子系统的嵌入式软件和SoC。 8 o. E: h2 |3 E: F
2 Y- F8 E* O$ C+ M4 b
+ X0 Y; g6 ?) K# g
图6 Mentor Veloce2的VirtualLAB以太网与ICE仿真的比较(中间黑盒子为Veloce2)' g. X5 u! U+ o3 B' r3 X2 L
  VirtualLAB以MHz级的仿真速度运行RTL代码的硬件设计。由于集成了USB、以太网、PCIe等主要外设的RTL模型,开发工程师可在任何硬件制造出来之前,在目标环境中检验硬件和嵌入式软件。 $ U# z  I0 r4 ]
( [7 ~# H! V' _0 Y5 S
  此外,VirtualLAB可让仿真器在数据中心环境中工作,与多个项目或不同地区高效地共享资源。其外设适于多媒体音视频、GbE、USB、PCIe、SATA和SAS等多数主流协议。
: M4 p: E( Q$ c: t5 Y% i; Y
, t- V9 a5 W0 ?, `& S精于功率分析:一招鲜吃遍天 ! i8 I. x4 a2 D  O# x
1 i% q% l2 |. `/ q
Apache(阿帕奇)设计公司在2011年被ANSYS收购后,开始以芯片、封装、板级到整个系统方面的新思维,考虑电源、信号、散热及噪声的影响。当然,会继续保持其功率分析的强项。
3 i4 t& |5 B9 n) B/ Y1 ~' w
) x/ Z# }% z8 P2 u  w* k1 m  F  ANSYS副总裁、总经理兼阿帕奇总裁Andrew T. Yang(见图7)指出,移动计算和网络芯片、CPU、GPU等均出现了多核化倾向,而功耗是芯片性能的一项关键指标。降低功耗面临着3个复杂挑战: ' L# X6 E& @/ w7 m- _6 A6 {) x( o# D
3 Q' J' e* L+ ^* ^' l7 b& o% l
  1.保持供电与功耗的均衡,否则,功率预算的缺口会很快拉大,大概为每2年增加2倍; ! F# ]4 M5 V7 @( @' ^
- P0 r- g- C, q
  2. 一旦功率确定后,由于功率预算的限制,有必要在正确的位置与恰当的时间,提供合适的电量。 7 Q3 t' T- B' R% m# i6 Q

/ R9 Y/ L& ^3 z( z/ N: v  3.降低系统噪声,包括交调噪声、基板噪声、热噪声、EMI等。
$ ]4 [) C/ x- x: x( I! `
  ^: e3 u5 m7 x; q: b 4 Z/ }) k1 b' }8 v3 d# v
图7 ANSYS副总裁、总经理兼Apache(阿帕奇)总裁Andrew T. Yang/ A6 B8 N# o; Q7 M; i5 F: j; o$ a
  他还称,在电路设计的各阶段里,功率分析工具尽早给出功耗的准确数据,设计师就可更好地进行功率管理。否则,功耗问题将浪费宝贵的面积。 ) k& n) B* M1 Z& g( q

1 Z+ j1 T& `2 A! D* q  阿帕奇的最新技术成果是20nm以下功率签发(sign-off)的第4代RedHawk-3DX工具,针对3GHz以上工作频率、几十亿逻辑门的高端芯片设计。并以3D IC工艺支持芯片和封装的仿真。
, u( d5 q8 C  T0 E2 z4 V
; z" C3 E$ c4 _$ i  RedHawk-3DX通过强化逻辑处理能力,提高了动态功率分析的精度和覆盖范围。基于矢量和无矢量模式的事件与状态传送(event-and-state-propagation)技术利用功能激励(functional stimulus)和统计概率确定设计的开关状态。快速的事件传送引擎使用RTL级功能激励执行周期精确电压暂降仿真。强健的无矢量模式状态传送引擎可在无实际输入激励时,使能时域瞬态分析;还包括排除与传统动态(activity-based)传送方法相关的触发率估计不足的专利技术。RedHawk-3DX还支持灵活的混合激励模式,当电路设计的其余部分使用无矢量方法时,一些功能块可以用RTL或门级矢量。 ! ~( l1 e3 T; W# I
) P( g) {2 a/ z5 R2 c" Q
  对功率和信号电迁移(EM)分析的20nm以下设计要求需要更精确可靠的签发方案。RedHawk-3DX通过电流感知、金属拓扑感知和温度感知EM检测,及支持代工厂复杂的20nm工艺 EM规则,推进了EM建模技术的发展。
7 s1 W. w9 p& q( L. A5 [
, w3 A* W1 C' a2 V  RedHawk-3DX用分级提取方法和重架构的瞬态仿真引擎,在不影响签发精度的情况下,最多可使速度提高40%。ERV(extraction reuse view)技术优化了设计的绝大部分,同时,可让所选的关键功能块保留全部布局细节,并在充分考虑封装影响时,进行整个芯片的仿真。这对多核设计很有效。 ) i# T9 i$ g3 C7 w6 F* s
. `6 B3 X* ^6 a( i: d. `/ ^+ Q
  此外,RedHawk-3DX能够创建精准的LDO行为模型,以便整个芯片的静态和动态仿真。其对3D IC的延伸可进行并发的和基于模型的多芯片(multidie)仿真。
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