TA的每日心情 | 擦汗 2020-1-14 15:59 |
---|
签到天数: 1 天 [LV.1]初来乍到
|
EDA365欢迎您登录!
您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册
x
HFSS使用WAVE PORT的时候端口所在面应该使用什么边界条件?" V; v3 h/ z/ w6 R/ S4 c
! j& O5 o" Z4 ^2 v7 p) {+ v' g' v) o
8 b6 U0 b. E7 F. H9 n
因为之前尝试使用LUMPER PORT端口,辐射边界是包围电路的air腔体0 {! c! |9 S3 h( g9 L: d0 K* @
6 I7 O& B, P* M9 A: X在使用WAVE PORT,腔体也使用辐射边界的时候得出的S参数跟LUMPER PORT的S参数差异不小6 E" C7 r5 O8 |9 k6 z7 }# M
, N: p( G4 U7 L1 H! ^
( V( x; b* v+ ?( V, E3 H$ P8 F% q8 v: _7 N& s. p
[% \4 B; f7 J
/ x* M' ?0 w0 ]请问使用WAVE PORT的时候端口所在面是否应该使用辐射边界?这种差异是因为所在端口处的辐射效应引起的吗?这样的结果是否是准确的* B o( ]$ I& ^9 R# p- M- K
) J9 }$ [) e+ N$ F" Z$ w8 S& r
, @: n6 c9 x, _7 B& K
8 w" N" b' Z6 ?( ]& A因为看hfss的一个full book里面的一个via模型,也是按WAVE PORT设置的,电路板的边界与空气腔体全接触,使用的也是辐射边界
" I5 Z1 L. h% t% ?4 {, L6 C$ G
5 i) `' k: T1 P. j; E, m/ G
: o8 j5 q3 O& }$ e. {+ u2 D5 o2 P5 O7 S; x% ~8 m: a
另外,好像是有PML边界的时候不允许使用端口所在面
8 t5 s. [& K; Y/ e# H& ^) I5 L+ I& }8 L$ d7 n3 R
它跟辐射边界有什么区别么?8 d4 k9 ?! N% v; n
& a1 |; A" C; m# d+ V, ]
t) u1 V) Z9 z& y2 I; }: i& ~4 L- \; w# m- x
希望有经验的朋友指点指点,一直比较困惑
9 b: s3 i* X6 J |
|