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[仿真讨论] 现在的仿真工具是如何考虑介质粗糙度的呢?

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  • TA的每日心情
    擦汗
    2020-1-14 15:59
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    [LV.1]初来乍到

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    1#
    发表于 2012-3-17 22:22 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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    本帖最后由 mengzhuhao 于 2012-3-17 22:47 编辑
    - I, V" B) ?& D! Y( y! s$ k& _& S4 ?1 D+ H: K
    现在的仿真工具是如何考虑介质粗糙度的呢?/ a2 A0 F* V  E5 Q' U
      {! b4 o( P/ r# e( h
    理论上介电常数在1GHz里面的值比较稳定,频率更高的时候就会发现变化了3 Q2 M* q& \# a  M2 I0 {/ e
    ( I7 U9 _. D) Q9 k) I: Y8 d- {4 ?) S
    那么现有的工具都是如何考虑类似的情况呢?8 L0 ]5 C# Q6 C. [8 D% L$ W  D
    9 O6 a/ q0 S! f5 ^9 v+ ~' z
    像仿真工具里面使用的介质是不是都是按理想介质考虑的??

    该用户从未签到

    2#
    发表于 2012-3-18 10:08 | 只看该作者
    介质粗糙度是个什么东西?

    该用户从未签到

    3#
    发表于 2012-3-18 17:09 | 只看该作者
    表面粗糙度本来就是一个统计的概念,按照统计学原理进行设置,很多软件都有这个功能
  • TA的每日心情
    擦汗
    2020-1-14 15:59
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    [LV.1]初来乍到

    4#
     楼主| 发表于 2012-3-18 20:46 | 只看该作者
    是不是应该是 铜箔粗糙度呢?5 W, V& U/ G" w& g8 W# U  W

    * `( x$ j, `5 t9 K( X介质的介电常数在高频的变化情况是不是也是一个考虑因素呢?

    该用户从未签到

    5#
    发表于 2012-3-19 09:38 | 只看该作者
    我想楼主表达的是铜箔的表面粗糙度;
    1 ^5 H  |' C! V频率对介电常数的影响很小,基本上不考虑,而介质损耗,是必须要考虑的,在板材特性里有一个介质损耗正切系数。

    该用户从未签到

    6#
    发表于 2012-3-19 17:08 | 只看该作者
    铜箔粗糙度的研究,需要考虑很多因素,如:粗糙度的形状,单面粗糙还是双面,VPL的铜箔,普通蚀刻之后会变粗糙,需要特殊的蚀刻药水===....仿真方面需要EDA软件商,大力升级!
  • TA的每日心情
    擦汗
    2020-1-14 15:59
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    [LV.1]初来乍到

    7#
     楼主| 发表于 2012-3-19 18:35 | 只看该作者
    shark4685 发表于 2012-3-19 17:08 2 @7 f; i; U8 E  k) {2 c& Y
    铜箔粗糙度的研究,需要考虑很多因素,如:粗糙度的形状,单面粗糙还是双面,VPL的铜箔,普通蚀刻之后会变粗 ...

    2 y( `: O. Q: E% R) ?说的很全面哦 稍微理解了些 牛

    该用户从未签到

    8#
    发表于 2012-3-19 20:45 | 只看该作者
    没接触过仿真,听不懂啊。有待学习
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