找回密码
 注册
查看: 374|回复: 2
打印 上一主题 下一主题

湿法去胶出现杂质

[复制链接]

该用户从未签到

跳转到指定楼层
1#
发表于 2022-11-28 13:29 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

EDA365欢迎您登录!

您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册

x
在CVD长SiO2,光刻RIE后,去胶时部分区域像元周边出现彩色杂质,紧贴着一圈。试过O2等离子轰击,无明显改变。3 g7 h2 F3 h5 w9 X

1 F% p( H7 j- f! D7 o请问有谁遇到过这种情况吗?
5 C9 B& s# F- b- v# r
  • TA的每日心情
    开心
    2023-1-11 15:38
  • 签到天数: 1 天

    [LV.1]初来乍到

    2#
    发表于 2022-11-28 14:58 | 只看该作者
    有图吗,是不是胶呀
  • TA的每日心情
    开心
    2022-12-5 15:27
  • 签到天数: 1 天

    [LV.1]初来乍到

    3#
    发表于 2022-11-28 16:50 | 只看该作者
    试试先轰击再湿法去胶
    您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

    本版积分规则

    关闭

    推荐内容上一条 /1 下一条

    EDA365公众号

    关于我们|手机版|EDA365电子论坛网 ( 粤ICP备18020198号-1 )

    GMT+8, 2025-6-1 22:48 , Processed in 0.093750 second(s), 23 queries , Gzip On.

    深圳市墨知创新科技有限公司

    地址:深圳市南山区科技生态园2栋A座805 电话:19926409050

    快速回复 返回顶部 返回列表