亚微米CMOS工艺制程技术流程

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1. 衬底选材
+ n$ W; a8 k2 l- ~0 x1 g& A2. 清洗
0 \+ a- k) N4 _. e1 @3 S# w; |3. 生长初始氧化硅
4. 晶圆刻号
5. 清洗
6. 第零层光刻处理
7. 第零层刻蚀处理
8. 去光刻胶
9. 去除初始氧化层

1 p& ^, w4 B* o8 m
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fantasyqqq

CMOS工艺

瞪郜望源_21

不错不错，很是专业和深度，内容全面丰富，学习下