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本帖最后由 dreams5678 于 2022-9-22 08:44 编辑
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《半导体制造技术》是最详尽最完整介绍半导体前端工艺和后端制程的书籍,作者是美国人Michael Quirk。看完本书,相信你对整个芯片制造流程会非常清晰地了解。从硅片制造,到晶圆厂芯片工艺的四大基本类——薄膜制作(Layer)、图形光刻(Pattern)、刻蚀和掺杂,再到测试封装,一目了然。 全书共分20章,根据应用于半导体制造的主要技术分类来安排章节,包括与半导体制造相关的基础技术信息;总体流程图的工艺模型概况,用流程图将硅片制造的主要领域连接起来;具体讲解每一个主要工艺;集成电路装配和封装的后部工艺概况。此外,各章为读者提供了关于质量测量和故障排除的问题,这些都是会在硅片制造中遇到的实际问题。- S4 s q7 }7 Z
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第1章 半导体产业介绍 7 \8 l8 k7 i! t. ~/ ]# l2 H
5 u2 S2 H% p0 N$ S b第2章 半导体材料特性
5 q# A& ^9 [$ ^' g1 o2 Y& o0 U' m
3 f6 o( J% ~2 y4 t; ~2 p% P第3章 器件技术 # v8 U7 ~/ e4 d4 q4 X" ^3 E, @
* b# l! |6 d- t3 u: S第4章 硅和硅片制备 7 X) ?7 B' P3 Z8 r4 l+ \3 K+ K
; Z! R4 N. b8 H f# f$ G0 a第5章 半导体制造中的化学品
* _9 T' t+ T( E3 ^/ v+ I2 H2 m* d3 Z: X6 u5 s
第6章 硅片制造中的沾污控制
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3 F: g- P9 T. H+ f( c第7章 测量学和缺陷检查
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) q& T0 N$ g6 K9 ^$ K/ k第8章 工艺腔内的气体控制
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" F5 R# ?" y) z# v第9章 集成电路制造工艺概况 . J% O1 g# h; }( t
& u" Q2 x# E6 y) N* m, m第10章 氧化 7 K5 s; l5 l. M; l- w; w/ ]
- b& p1 r8 ~; P第11章 淀积
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第12章 金属化 ( W' R; Q$ h/ B6 z9 x" ?6 t- a
- G/ w7 m: K3 B5 B+ \: `
第13章 光刻:气相成底膜到软烘
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- P8 l. U$ [% B9 L, g第14章 光刻:对准和曝光
- L; t" e* j6 F# d0 N# H' F* }$ P9 H8 X% q) ]. x% Q6 h2 M
第15章 光刻:光刻胶显影和先进的光刻技术! R# q! u' D. e+ w; `( r1 k
5 _3 U9 S/ Q' X3 ?' r5 n 第16章 刻蚀
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第17章 离子注入 3 q3 e, G% d8 k7 x
7 |! v, q0 e0 p3 n& |5 ?! }8 f7 \第18章 化学机械平坦化
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- A6 L' B( l5 h( E! h第19章 硅片测试
7 E+ k5 L8 S$ j; j( r# i {5 I! I; M2 a, U& T- b8 f3 X: N
第20章 装配与封装
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本书详细追述了半导体发展的历史并吸收了当今最新技术资料,学术界和工业界对《半导体制造技术》的评价都很高。* Y3 [: m4 J" X5 k
2 W- f) b; @+ Q' g; l: l; M! y注:附件下载后,改后缀:001.zip → zip.001,解压,压缩工具7z |
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