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IGBT属于复合器件,有MOS器件高速开关和低电压驱动特点, 可以承受高电压和大电流,并且关断延迟时间短,在工业控制领域有广泛的应用,比如高频焊接,逆变器,交流电动机调速, 变频器,电动汽车, UPS,智能家电等。但IGBT 容易损坏,在应用时要注意保护。
4 P3 [: A$ s. h* t: ~! d/ f& qIGBT的失效模式
+ j; Y* T1 H2 k判断IGBT的失效模式一般是根据失效特征,结合器件的结构,模拟结果等进行判断。
) s& P9 F' C: \7 V; j- O+ y- V- c, t7 k: [" j" I
1. 过电应力(过压/过流)
/ h4 e9 p, F5 {9 O. M2 YIGBT运行超出安全工作区,异物引起短路,地线及电源系统产生的电浪涌,烙铁漏电,仪器或测试台接地不当产生感应电浪涌等,都可以引起电过载失效。
3 k f0 t) f# f! b- E6 i3 d对于静电损伤,不仅有PN结劣化击穿,表面击穿等高电压小电流型失效模式,也有金属化,多晶硅烧毁等大电流模式。6 g# C; U; W [ ^
3 M: b: x& H' O: r/ R
Gate –emitter过压: F' q9 @& t0 }% ~: c# }7 _& ]* a
典型特征:芯片表面出现比较浅的熔化区域,或者在栅极的pad附近出现较小的熔化区域,这种过压的原因很可能是ESD损伤,如果熔化烧毁的区域较大,则不是ESD的典型特征。
2 x" l- P: b& W% k- i, l+ Y; l
( h( o; c2 ^2 ]0 g$ g8 UCollector –emitter过压/ v5 e. s4 \& \, `0 t
典型特征:在保护环(guard ring)与IGBT单元之间出现点状熔化区域,或者是在保护环上出现熔化区域。4 j) ^ m( K6 Y6 V! G% T! `
7 Q% b( Y& o: G2 T5 Q$ J5 L; i( H8 O超出反偏安全工作区(RBSOA)% u2 ^6 _" T/ g! S2 b! T. q
典型特征:在芯片表面的IGBT单元上出现一个较深的,由于熔化而产生的洞,一般是由于关断电流过大,或者IGBT在较高的结温下工作而击穿。! ~+ q: J$ D% @3 i" I8 U
9 d) h6 }: f1 H
反向恢复二极管(FWD) 超出SOA w2 j0 @ N: g2 w5 B% P# m4 z! x
典型特征:二极管的阳极区域出现由于熔化产生的洞。
( L M6 V2 B5 \8 H+ E- ~* F4 v6 M0 W2 H
2. 过热损伤:8 c M) M) F5 Z+ G# S
超出IGBT 承受范围的温度,导致焊料,芯片表面保护层,以及铝层熔化。
* q( b+ ~4 S! Q典型特征:IGBT上出现较多的分离的,大面积的铝层熔化,芯片下方的焊料有熔融再
) h3 N# ^; |/ T% h6 Q流的痕迹, 如球状焊珠。1 K/ k# h0 @, V5 ~! ?
/ j D) M% _! p* u$ C
3. 机械损伤:
" Y4 b% u6 f, V2 t5 M振动失效:
7 C. ]+ Z8 j0 [/ G典型特征:焊线断裂,并伴有焊线熔断。
3 }) M5 A- {' l& o安装损伤:; i i% A! g4 d4 N: a* l
典型特征:基板上有机械损伤痕迹,陶瓷基片上出现裂纹。
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+ l/ E- c* t9 K% |8 S( u, N4. 器件本身缺陷:5 Z+ ~& N% ?7 A& _) K
绝缘失效:
: J; S: c& g+ D$ u典型特征:在硅胶覆盖的铜基材之间出现跳火痕迹,有可能是由于硫的引入生成硫化铜,通过生长使得相邻的铜材之间短路,降低耐压,最终产生跳火现象。原因可能是器件生产过程中的污染引起。7 t. j. Y, j2 R7 z. M
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5. 器件老化:" [9 D R. J5 r. d+ B, A
典型特征:铝线脱落,焊接区域出现分层,一般是由于器件达到了设计使用寿命极限。
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