概念:电容:无论空间有多远,任何两个具有电压差的导体都存在一定量的电容。+ I5 }7 `8 s/ K6 A2 k% M
C:表示的是电容量,即存储的电荷与电压的关系的比值。当电压越大,可存储的电荷越多。
7 n7 C- M, n; m) O影响电容量因素:两个导体距离、两个导体重叠的面积、两个导体重叠面积之间的介质。( y7 v _& |4 Z7 F+ H
距离越近、重叠面积越大、介质介电常数越大,则电容越大。
5 E. e( J9 O3 ?1 Y8 R8 p理解:减少互容的方式根本上为三条:1.拉开距离;2,减少空间上的重叠面积;3.选择低介电常数的板材;基本上PCB设计所采用的方式为1和2.
2 _. u4 M2 L4 Q r+ o% z% n) Q6 o 电容中的电流( v' ^/ r- K% a4 S. f" @4 k% Z: A' X& a
流经电容器的电流 I= dQ/dt=C*dV/dt
9 t6 i5 N$ [% o9 RI:表示流过电容器的电流;
. ~" C, ^7 f1 {+ ld Q:表示电容器上电荷的变化量;
4 @. R4 h C( f* ndT:表示电荷变化经历的时间;
- {# ?( S9 S y; m9 ZDv:表示电压变化值;0 N; R: l8 p5 A2 ~ a. Z S ?+ ?
Dt:电压变化所经历的时间。3 w/ Q( T2 M) ?) D- t9 Q
理解:其实电容除了漏电流的存在,本身并不流过电流。以上所说的电流,只不过为了计算方便而采用的数学值。从原理上考虑,因为异相相吸,在正电荷聚集的地方,肯定会有负电荷聚集。而负电荷的运动,造成了负极的电流流动。(负电荷的聚集造成了使流过电容的频谱呈-90相位)。从表面上看,就像电流流过电容器一样。但是理想电容器本身不消耗能量,所存储的能量,在外界适合的时候会向外送出,这时电容器负极也会将所聚集的负电荷释放。一收一放,就把能量传递过去了。' G! F- Q1 ~7 U( n5 Y' B8 C K+ h
平行板电容! {+ X0 Z! Q( N4 v! ~: N# a0 |, H
公式:C=E0Er*A/H C= (ε_r ε_0 A)/H C:电容量; E0空气介电常数;Er 介质相对介电常数;A,平板面积。
5 `2 M, w* O" E, XH平板间距。 t/ Z- V& l" ?; ?! ^4 T7 P3 h1 [. R
由于板周围存在边缘场,实际电容要大于近似值,当平行板间距与板厚想当时,板周围的边缘场产生的电容量与平行板近似预测的电容量相当。
3 b2 H f+ f1 B. t& u4 D, R理解:考虑边缘场,就要从电场和磁场角度来考虑,由于板并不是理论上的厚度为0的理想状态,所以板的边缘肯定也会发出磁力线向周围空间扩展,当四边的磁力线被底板接收到时,就相当于增加了底板所接收的电场磁场。变相的增加了聚集电荷的能力,所以电容增加了。 u9 H( u! D0 D( F; ^5 H
但这个值不好计算。& M' }3 x& x$ p# ?1 ?* \
&……*%……&***去耦电容的计算:……&%……&%¥¥%( W, \& k7 X, K k
δt=C*裕量*V^2/P t:表示电压下降量达到电源电压裕量的时间,单位秒;' t# {3 B5 n& y _, ]' B2 A
C表示去耦电容量,单位为F; 裕量:芯片的电源电压与最小供电电压的比值;
( l, U# p$ B1 f% L6 e; T; XP表示芯片的平均功率;V表示电源电压。# J0 ^( l; `3 e
理解:本公式可以计算去耦电容的值,对于经验用法上的10UF去耦电容,可以省略了。直接用这个来计算所想要的确切的值,留出足够的裕量,那么一个小功率的芯片完全可以采用5UF或1uF 来去耦,即可以降低成本又可以减少PCB板上的空间。
1 _% m. `9 Q* K4 yT 所表示的时间需要参考电源芯片,即电源芯片的反应时间。
. B* D$ w# N5 h: D. I6 P) B( ~通过上面的公式,即可以设计选型电源芯片的型号。/ n" e4 v8 O0 q& D" _$ B
单位长度电容。
^8 Y- h: Y1 L8 ~9 @9 y: m单位长度电容是形容单位长度传输线的电容量。公式:C_L=C/L9 v4 K% h, |6 J" {$ t3 C( T
CL:单位长度电容 单位PF/in ;(单位可自己设定);
J7 W, j" O3 ~C:传输线与返回路径之间的电容量 ; L 传输线长度。7 [$ \, A% J. Q% W0 {
, K B# M9 C! H0 g
同轴电缆计算公式:CL=(2πε_0 ε_r)/(ln(b/a)) a:内部信号导体的半径;b:外部返回导体的半径。9 L* l' B! ~5 T2 y& ]
微带线计算公式C_L=(0.67(1.41+ε_(r )))/(ln{(5.98*h)/(0.8*w+t)})≈(0.67(1.41+ε_(r )))/(ln{7.5(h/w)})
; k- r! r5 b& B/ l3 r! o1 F% F; pCL:单位长度电容,单位为PF/in; ε_(r ):表示绝缘材料的相对介电常数;
; ^1 n4 b! [) [: e9 mh:表示介质厚度;单位为mil;w表示线宽单位为mil;
+ t7 n& [& N1 C% m t表示导体厚度单位为mil。/ |; Q7 F8 T" Z: O6 K1 D
带状线计算公式C_L=(1.4ε_(r ))/(ln{(1.9*b)/(0.8*w+t)})≈(1.4ε_(r )))/(ln{2.4(b/w)})
& z2 U$ w, A6 X& g9 ~+ t" S9 ZB:表示介质厚度;其余同上。, k! u6 a) x' F/ ]( ^9 Q- D; k. O
经验公式:微带线线宽如果是介质厚度的两倍即(w=2h)介电常数为4,则单位长度电容Cl=2.7pf/in 。这时微带线近视50欧姆特性阻抗。
3 b: o6 G! V* u$ k6 r6 O+ P1 v带状线:如果介质厚度是线宽的2倍,即b=2w;单位长度电容为3.8pf/in ;相当于特性阻抗50欧姆。
# Y% c- N2 C1 x7 a* Y p经验法则:50欧姆特性阻抗单位长度电容大致为3.5PF/IN 。
( N2 [8 E! v. M& g理解:特性阻抗的经验算法,只是大概。如果要是要求高精度,最好是实际测量,其次是计算。因为公式也是近视的。特别是板材的介电常数,随着制造工艺而有所不同。理论上裕量足够的情况下可直接采用理论算法来估计。
1 |( n; K( c4 x$ l- E理解:微带线经常因为刷阻焊,或者由于蚀刻。导致介电常数和介质厚度都不是常量。所以特性阻抗仅仅能预估计。如果想要精确的阻抗控制,那传输线必须走带状线,否则制造不出完美的50欧姆特性阻抗的微带线。
% i; ~. x6 C3 h. ~$ F' L ?理解:电容量的值跟下平面接收电力线的多少有直接关系,与介电常数有直接关系。如果按照电磁场方向来看,即可完美理解电容量的变化。
3 ^6 B" y6 f+ I% t% E( L/ S* m9 M; n. K$ s/ k: r/ u9 k
小结:# w: F; L0 K6 o, R/ T6 d5 U0 u
1.电容是对两导体间存储电荷能力的度量。# E4 [* p' U, J9 Q* P( X
2.电容量是对流动电流大小的度量。
- P# H+ e6 X7 S7 D- K6 ^, E% T3.导体间的电压发生变化时,便有电流流过电容器。
$ c+ ^2 T, M3 j: U% t, J4.本章的公式都为近似值,若要求精度为10%到20%就不应使用近似。
" Y0 p- v" x3 h/ Z+ G; y5.一般来说,导体间距越大,电容量越小;导体间重叠的面积越大,电容量也越大。
& m6 i# H# d1 [1 ?& Y4 L1 u6.介电常数是材料固有特性,它反映的是材料使电容量增加的程度。
! n- }* N/ G$ M7.电路板上的电源平面和地平面间是有电容存在的,但这个量非常小,两平面的作用是提供低电感回路,而不是提供去耦电容。- T: r+ t& b2 T. I) F& i
8.若要求精度优于10%,就不应该使用IPC的带状线和微带线公式;, t1 I$ d/ X" S) Z
9.用二维场求解器,可以用来计算均匀传输线结构的单位长度电容。其精度优于1%;4 m5 m0 ^: y2 Y$ H
10.若微带线的厚度增加,单位长度电容也将增加,但增加的幅度非常小。
2 O) f# _+ C+ l5 N- |11.当微带线的涂层厚度与线宽一致时,电容量将增加20%;, V5 A# d6 V& H( O
理解:IPC的公式精度为10%,在设计时能满足至少15%的精度。) P* h Y8 K/ N; H1 ^, T
微带线涂层假设不够厚时,电容量增加的并不是很严重。
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