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随着等离子体加工技术运用的日益普及,在PCB 制程中目前主要有以下功用:
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(1) 孔壁凹蚀 / 去除孔壁树脂钻污
: y8 C* `; E. A: }4 i# x. h. n5 W 对于一般FR-4多层印制电路板制造来说,其数控钻孔后的去除孔壁树脂钻污和凹蚀处理,通常有浓硫酸处理法、铬酸处理法、碱性高锰酸钾溶液处理法和等离子体处理法。+ ~" V, O, G3 \: c
但对于挠性印制电路板和刚-挠性印制电路板去除钻污的处理上,由于材料的特性不同,若采用上述化学处理法进行,其效果是不理想的,而采用等离子体去钻污和凹蚀,可获得孔壁较好的粗糙度,有利于孔金属化电镀,并同时具有“三维”凹蚀的连接特性。/ R0 F4 |3 B' j$ b6 |
(2) 聚四氟乙烯材料的活化处理! A, A2 Y( z) Y
但凡进行过聚四氟乙烯材料孔金属化制造的工程师,都有这样的体会:采用一般FR-4多层印制电路板孔金属化制造的方法,是无法得到孔金属化成功的聚四氟乙烯印制电路板的。其的难点是化学沉铜前的聚四氟乙烯活化前处理,也是为关键的一步。
: f# R- w3 L5 d0 _# k4 P: U 有多种方法可用于聚四氟乙烯材料化学沉铜前的活化处理,但总结起来,能达到保证产品质量并适合于批生产的,主要有以下两种方法:
" [9 C" U! A8 U8 S0 e (A) 化学处理法. U- P1 @ U1 f+ m$ y0 K
金属钠和萘,于非水溶剂如四氢呋喃或乙二醇二甲醚等溶液内反应,形成一种萘钠络合物。该钠萘处理液,能使孔内之聚四氟乙烯表层原子受到浸蚀,从而达到润湿孔壁的目的。此为经典成功的方法,效果良好,质量稳定,目前应用广。) U) ]2 G0 p# D; f; q$ g7 S
(B) 等离子体处理法
& @4 u* ^& w6 s2 H, P7 Y( n9 v7 p 此处理方法为干法制程,操作简便、处理质量稳定且可靠,适合于批量化生产。而化学处理法的钠萘处理液来讲,其难于合成、毒性大,且保质期较短,需根据生产情况进行配制,对安全要求很高。
1 ^5 F+ y6 }1 z; s3 v 因此,目前对于聚四氟乙烯表面的活化处理,大多采用等离子体处理法进行,操作方便,还明显减少了废水处理。
0 l! U/ U4 b) i3 e( b (3) 碳化物去除- w: j( k2 Q* j+ m
等离子处理法,不但在各类板料的钻污处理方面效果明显,而且在复合树脂材料和微小孔除钻污方面更显示出其优越性。除此之外,随着更高互连密度积层式多层印制电路板制造需求的不断增加,大量运用到激光技术进行钻盲孔制造,作为激光钻盲孔应用的付产物——碳而言,需于孔金属化制作工艺前加以去除。此时,等离子体处理技术,毫不讳言地担当其了除去碳化物的重任。
4 C( `# ^- l. [ (4) 内层预处理
" r7 Z8 \- v" w0 T7 b, W 随着各类印制电路板制造需求的不断增加,给相应的加工技术提出了越来越高的要求。其中,对于挠性印制电路板和刚-挠性印制电路板的内层前处理,可增加表面的粗糙度和活性,提高板内层间的结合力,这对于成功制造也是很关键的。. q6 W$ {: k9 r7 E2 j
在此方面,等离子体处理技术又显示出其独特的魅力,且不乏各类成功的范例。另外,在阻焊膜涂覆前,用等离子体对印制电路板面处理一下,还可获得一定的粗糙度和高活性的表面,从而提高阻焊膜层的附着力。
) j6 Y- G9 z. P/ X0 a' j (5) 残留物去除: ?( A0 V: y! E# P- G
等离子体技术在残留物的去除方面,主要有着下述三方面的作用:% x$ I' U1 D; ~& I1 i5 K
(A) 在印制电路板制造,尤其在精细线条制作时,等离子体被用来蚀刻前去除干膜残留物/余胶等,以获得完善高质量的导线图形。如果,一旦于显影后蚀刻前,出现抗蚀刻剂去除不净,会导致短路缺陷的发生。; [7 h, s. G1 ^
(B) 等离子体处理技术,还可用于去除阻焊膜剩余,提高可焊性。
% s' X; Q/ C" p# H3 P (C) 针对某些特殊板材,采用图形蚀刻后电镀可焊性涂覆层时,由于线路边缘蚀刻不净的铜微粒的存在,会造成阴影电镀现象,严重时将导致产品报废。此时,可选用等离子体处理技术,通过烧蚀的方法将铜的细小微粒除去,终实现合格产品的加工。 % L! w1 {; m; Q j, S+ u) g
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