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EDA365欢迎您登录!您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册  5 D1 ~5 |7 G, ^8 j  r( u# l' e! X: K6 T问题点
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 ( h4 z8 k- q1 s% \  D: {    产品有8组网口与光口,测试时发现第八组光口与芯片间的信号调试不通,导致光口8调试不通,无法工作,其他7组光口通信正常。
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 6 A3 l# @1 P) `* I7 s# L1、问题点确认:
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 根据客户端提供的信息,确认为L6层光口8与芯片8之间的两条差分阻抗线调试不通;( k0 a) X, @8 i
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 2、客户提供的叠构与设计要求6 o* l, a3 C& ~" t% S
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 改善措施
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 影响阻抗信号因素分析:
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 线路图分析:客户L56层阻抗设计较为特殊,L6层阻抗参考L5/L7层,L5层阻抗参考L4/L6层,其中L5/L6层互为参考层,中间未做地层屏蔽,光口8与芯片8之间线路较长,L6层与L5层间存在较长的平行信号线(约30%长度)容易造成相互干扰,从而影响了阻抗的精准度,阻抗线的设计屏蔽层不完整,也造成阻抗的不连续性,其他7组部分也有相似问题,但相对较轻微。; J: k7 N3 ~8 @$ m/ ^$ Z- A
 L56层存在特殊设计(均为信号层,存在差分阻抗平行设计、相邻阻抗层间未设计参考地层),客户端未充分考虑相邻层走线存在的干扰,导致调试不通问题。 0 {$ r: R% n' n
 
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 q( U) g, {% m    与客户沟通对叠层进行优化,将L45、L56、L67层结构进行了调整,介质层厚度分别由20.87mil、6mil、13mil 调整为5.12mil、22.44mil、5.12mil,将而L4、L7间的参考地层间的距离拉近,L56层互为参考且屏蔽不足的线路层距离拉远,减少干扰。& A3 e! l1 V* I5 i  P& n. o: K3 M; B3 R
 优化后的叠层结构:
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 优化后的阻抗匹配:
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 3 L# p2 S2 P+ w+ I; M6 X6 q% N改善效果, f* G% r0 I. c9 v% `1 n0 w
 
 8 }$ x$ V  f( ?! v    通过调整叠层结构,拉大L56层相邻信号层之间的距离,串扰造成的系统故障问题得到解决。8 A5 E& r4 k! o) Z/ u  i
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