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1.双面板制程/ h2 Q) s8 y# a! y
开料→钻孔→黑孔→镀铜→前处理→贴干膜→对位→曝光→显影→图形电镀→脱膜→前处理→贴干膜→对位→曝光→显影→蚀刻→脱膜→表面处理→贴覆盖膜→压制→固化→沉镍金→印字符→剪切→电测→冲切→终检→包装→出货
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1.单面板制程2 O: H0 x. q1 {$ p' R! p
开料→贴干膜→对位→曝光→显影→图形电镀→脱膜→表面处理→贴覆盖膜→压制→固化→沉镍金→印字符→剪切→电测→冲切→终检→包装→出货
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" _- F" G3 c5 ~2 \7 b工艺详解:9 r* L. K7 y, C
开料:将来料铜箔裁切至合适的尺寸0 l& y0 h2 S! M9 m
钻孔:根据Layout 图纸,利用钻头在铜箔上钻孔) g, F4 o- G9 q6 B
黑孔:将石墨和碳粉通过物理的作用在孔壁上形成一层导电膜,然后直接通过电镀的方式在钻孔壁形成铜+ t4 H$ B, ]4 E0 j
沉镍金:FPC漏铜表面增减镀金是为了增强FPC导通性、焊接性能、抗氧化性,但为了防止金层向铜层渗透,导致渗金,需要先在铜表面镀一层镍用作隔离,镍太厚硬度高,柔软性差,太薄强度差,容易脱落% E, ?; k' X$ c0 o: L4 B
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