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目前世界上芯片的产能超过70%是12寸(300mm)晶圆,而第一条12寸Fab线迄今已近二十年,为什么我们还看不到下一代18寸(450mm)晶圆厂呢?
) L# A% X% G9 l$ j 一、
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首先,我们先看看为什么下一代非得是18寸,而不是14寸或者16寸呢?这是个有趣的问题。
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- n$ X' s$ _+ B6 t) y( ~在90年代,仍认为自己执半导体牛耳的日本人,曾组织了一个超级硅晶研究所,试图直接从200mm晶圆提升到400mm。
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9 I' b2 N$ T7 f日本人成功拉出了一米多长的400mm晶棒,认为技术上可以实现450mm,但需要一口大锅,但还真没这么大的锅。) R8 p+ I% w" Y! X
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拉晶炉底下是个石英锅(坩埚),用来融化多晶硅碎块。做一口纯净无比的二氧化硅大锅,却是个高超的技术活。
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- x- s( j) C& @) W同时,为了拉450mm的晶棒,锅里大概要放一吨的硅块,比煮300mm的汤重一倍,而且提拉的也会多用十几小时。% L9 o9 }( z, ~6 R0 Y
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如何让这一大锅像熔岩一样的硅浆糊一直控制在稳定的温度下,硅棒提拉和旋转速度也都极其稳定,成为比300mm更大的挑战。. L0 {' f' b+ M% E3 S( E0 P
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后来,还不断有各种用小锅不停加料的方法被设计出来。
3 |$ |0 x( A3 t- B7 R! x; n( ]虽然都不容易,但半导体届对这点困难表示不屑一顾。" n5 v6 ^7 F! G) ?& L
' d; v: S. \: r" K6 W! N0 _因为 200mm x 1.5=300mm 所以 300mm x 1.5=450mm7 p' ` @& B; L0 D
- l% j1 f5 x' }6 x就这样。
E6 h8 i, @2 l二、
* i3 r' _& P3 ^历史上更大的硅片都使得单位面积芯片成本显著降低,不过究竟是怎么降低的,却是个复杂的问题。7 V/ ^# v& M7 c' c w% Q
4 L8 V. ?6 j9 P% D4 D2 V. L( g芯片生产流程中,设备成本和时间成本是两大核心要素。
& D I: d, s5 O( g( k3 C7 J450mm晶圆的面积是300mm的2倍多,那么生产效率也可以是两倍吗? . M+ T# \; i9 ?* ~2 X% V# Q2 @6 h
很遗憾,并不是这样算。 , D9 e( E! l" U
更大的晶圆并不能节省光刻和测试等工艺的时间,只能节省晶圆装载、蚀刻、各种清洁打磨等时间。- e8 {1 k& b. D
# O2 @, d2 f3 r/ l; k; j1 \6 b那么增加的设备成本能否真的转换为更高的生产效率呢?
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答案是:不知道。
% h" `" r& `, _300mm晶圆厂制造成本中光刻据说已经占了一半,这个比例远高于200mm厂。 * Z0 _) O& l+ j1 X! I b
SEMI曾预测每个450mm晶圆厂将耗资100亿美元,但单位面积芯片成本只下降8%。
3 k6 { u* M0 _) W三、
+ r/ h7 o, _' ]" F" C: t因为450mm晶圆涉及到整个产业链上下游的巨大变化,总投入是千亿美元量级的,半导体业界再也没有一家牛到能够独家制订标准和承担风险。 H* \' F9 l0 m/ j# {# y* `- C
这时还是需要产学研加上政府引导。
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2011年新上任的纽约州州长Andrew Cuomo力主搞了个大政绩。
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1 E( N& ^" s" W6 }+ NCuomo成功邀到芯片五强(IBM、英特尔、格芯、台积电和三星)在纽约州大幅度研发下一代芯片技术,大家表态投资44亿美金推进450mm,这就是全球450联盟(G450C)。
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这个联盟的关键基础是纽约州立大学理工学院(SUNY Poly)的实力和IBM微电子大本营多年在该州的耕耘,还有纽约州承诺的政府补贴。
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/ v( k" H' ?5 p* C+ u) u& rCuomo还拉着尼康共同出资3.5亿美元搞出450mm浸入式光刻机。$ e0 \- ]7 Y# n: `5 Y b: G
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欧盟在更早时间搞过一个EEMI450的合作计划,以色列也搞过一个Metro450。7 Z2 e/ d( K* r; S) l
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然而所有的合作都没有使450mm成功。
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$ L# t/ p q, ~0 K- r无心硬件的IBM把半导体部卖给了格芯,但格芯并没有足够的钱去搞450mm这么大的工程,最后白白损失了一大笔之前的投入。 & W6 L3 N* _! q9 A+ y
缺钱也许是后来格芯放弃7nm研发的一个原因吧。IBM一直是SOI技术的倡导者,格芯算是继承了遗志。
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英特尔其实是最积极推进450mm的公司。但事不凑巧,G450C期间(2011-2016)刚好是英特尔搞14nm Broadwell的时间。 , e/ n+ N( J; @' {
被用到极限的DUV光刻机和复杂的FinFET使得英特尔当时良率非常低,路线图各种延误。解决不了技术问题,分心去上450mm晶圆意义也不大。
4 x2 |0 `. U# o5 DASML也正在EUV光刻机中挣扎,光源效率等问题一直拖后量产的时间表。资金压力使ASML率先宣布退出450mm合作。6 c5 a" ?6 ~, P$ a
1 l9 J& M$ R# n6 a8 D! m) f; s/ k虽然有尼康光刻机支持,但是如果450mm整体良率和效率并不能显著提升的话,成本并不会比300mm低。
! }$ j7 T4 B) f1 ?- i% V! F8 m' S从过程看,三星和台积电似乎是最不积极的。当时它们还在搞20nm,做450mm大哥的代价估计它们都很清楚。6 _9 u& A: Q# q, S5 D
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当初300mm晶圆厂上马的时候,大概有七、八家芯片巨头步调一致,这使得风险均摊了。
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( u% O5 \; J' X8 @- r( U; DSUNY Poly的CEO在2016年因丑闻下台,英特尔又一直陷在10nm的泥潭里,没有公司再愿意牵头,G450C联盟彻底瓦解。
+ s, l3 A: W/ @9 l7 v6 |% P& S% DCuomo州长倒是一直连任到今天,看来会搞经济的领导在哪里都受欢迎。
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$ d8 v* z% A# O" |错过了唯一一次时机,不再有领头羊公司搞450mm晶圆,450mm的经济性是否存在变成了无法知道的谜。
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且不说是否有合适的经济模型来模拟450mm的各种设备成本增加,以及各种生产效率和使用率,每一步的良率都是极其不可预测的变量。 j) ]5 a* s7 @' A6 u1 y( W
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根据450mm晶圆厂的上百亿美元投资水平,能玩的只剩英特尔、三星和台积电三家了。而很明显,这次它们步调一致地把钱投到EUV。
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. d7 N. p; p [& J历史上的规律是在新的晶圆尺寸上开发新的制程技术,比如200mm厂大多还停留在90nm。但目前我们完全看不到300mm厂上技术研发停止的迹象。 M2 q' h" F+ Q7 K
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目前在300mm上开发新一款7nm芯片的初始成本可能已经有3亿美元,那么在450mm上估计数字更恐怖。
3 B& Z; Z) U" {目前市场上PC已经饱和,手机也接近饱和,新的应用如 IoT等还相对较弱。在整个半导体业不景气时,巨额投资月产几万片450mm的晶圆厂,如何消化产能也是个很现实的问题。
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也许,真的要等到摩尔定律走到物理极限和遍地都是机器人的时代,我们才有机会重新看到450mm的启动。
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