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3 化学镀镍金工艺流程1 G9 r! ?% k& ?; f& d1 Q1 M" u
# |8 a) _' j- @4 z; L1 x; Z% ~作为化学镀镍金流程,只要具备以下6个工作站就可满足其生产要求:+ c; a% U! G6 ~" p* T
) R( @% I" t9 q7 Z除油(3~7min)→ 微蚀(1~2min)→ 预浸(0.5~1.5min)→ 活化(2~6min)→ 沉镍(20~30min)→ 浸金(7~11min)2 F, c+ G# J, `: i# H
3.1 安美特(Atotech)公司的化学镀镍金Aurotech工艺流程4 i( Q2 W" w2 f5 a5 r& q* K0 X7 e
Aurotech 是安美特公司开发的化学镀镍/金制程的商品名称。适用于制作阻焊膜之后的印制电路板的裸铜区域(一般是焊脚或连接盘的导通孔)进行选择性镀覆的化学法。+ Y3 k6 W1 }0 u% X; l" b" ~' u0 w v% H/ _! x8 M7 O/ G- f0 ?
Aurotech 工艺能在裸露的铜表面和金属化孔内沉积均匀的化学镍/金镀层,即使是高厚径比的小孔也如此。Aurotech 还特别用于超细线电路,通过边缘和侧壁的最佳覆盖达到完全抗蚀保护,同热风整平相比较,Aurotech 没有特别高的温度,印制板基材不会产生热应力变形。此外,热风整平对通孔拐角处的覆盖较差,而化学镀镍/金却很好。* e4 t. @' A5 n0 m2 M1 b
与有机可焊涂层相比较,除了熔焊性能之外,Aurotech 镀层还具有好的搭接焊、接触导通和散热功能。Aurotech 的工艺流程及操作参数见表1。% }' r! d! m1 J {9 Q% B+ v+ w% o
" j$ Q$ m( j) h T
* o+ E, \7 Z% L% m表1 Aurotech 之工艺流程及操作参数
e2 ^9 \! t: S2 F 工序号 工序名称 药品名称 配制浓度 PH值 温度 处理时间
' \* _% `5 J0 u9 W8 w1 酸性清洁剂 CupraprosH2SO4(d=1.84) 100ml/L10ml/L <1 35~40°C 4~6¢
/ `2 k/ P9 P/ [% n3级逆流水洗 自来水 3~4¢) v% a1 @# A1 E8 L# o
; P& L$ H* F8 T2 微蚀 Na2S2O8H2SO4(d=1.84) 100g/L20ml/L <1 25~35°C 2~3¢9 |9 Z' }9 o1 n6 I0 H( I7 o$ U( v3 h( s
3级逆流水洗 自来水 3~4¢; m) ^4 f; y, m; b; ]
3 预浸 H2SO4(d=1.84) 50ml/L <1 22~32°C 3~5¢7 F# t4 h0 L; ]+ W( w8 E p! r
活化 Aurotech-activatorH2SO4(d=1.84) 200ml/L50ml/L <1 23~25°C 1~2¢0 Q" \6 E0 l4 a
3级逆流水洗 去离子水 3~4¢
, r) T3 F1 E" p- ^1 H" T4 化学镀镍 Aurotech CNN Mod配制液Aurotech CNN A 补充剂浓NH3水 150ml/L60ml/L15~20ml/L 4.8~5.3 82~90°C 20~30¢0 V0 N* M* l( m# Z& c% j I
化学镀镍 备用槽 . E1 @; \7 y) s$ q; f- n' I5 y/ q$ _0 I+ Q
3级逆流水洗 去离子水 3~4¢6 g4 v. h2 Y* ~( i
2 B( v/ W* t# s5 化学浸金 Aurotech SF配制液Aurotech 起始液K[Au(CN)2](Au68.3%) 238ml/L2ml/L3g/L 4.0~5.0 72~80°C 10~15¢
( ?, g3 u- w9 F) W回收 去离子水 1~2¢9 x% g* i: f3 Y+ d6 c) F
2级逆流水洗 去离子水 2~3¢, W5 w y! |( C; F& P6 Q4 S U# V0 w* q( s# }% O$ u& q+ F- m
热水洗 去离子水 0.5~1¢% i: I) d# e+ J. t3 s0 Z! H, E- }6 I" U& E. n
烘干/ }2 f1 Y8 o/ z
/ j t8 D( y: X. E& }& _2 t3 _" G8 ^
- ?) q4 O0 K* B; l% Z4 l* x( J) ?5 S; c" X# e8 c
4 化学镀镍/金之工艺控制, B: p4 W: ?* t+ B; m- \- U: g: f4 h' a
4.1 除油槽
3 p: h/ c1 i8 D- L- e* J一般情况下,印制板化学镀镍/金采用酸性除油剂来处理待加工印制板,其作用在于去除铜面之轻度油脂及氧化物,达到铜面清洁及增加润湿效果的目的。它应当具备不伤阻焊膜、低泡型及易水洗的特性。' W9 W6 ?- b8 K9 s: J$ \4 N* ^
4.2 微蚀槽% Z. o3 N* V; F; l. A$ E( k- C
: B& _: G: m. d3 o# Q7 ?; E$ W4 j微蚀的目的,在于清洁铜表面之氧化及前工序遗留残渣,保持铜面新鲜及增加化学镀镍层的密着性。常用的微蚀液为酸性过硫酸钠溶液,参见表1。
2 _8 x5 w% t5 E4 |# T' p; o& M4.3 预浸槽
& F* k* Q8 u2 L0 [0 j* ~ ?% R预浸槽在制程中没有特别的作用,只是维持活化槽的酸度以及使铜面在新鲜状态下(无氧化物),进入活化槽。3 a" [& x* b6 g% m/ [$ ?% }# W1 q8 q% a
4.4 活化槽
+ V, E F$ K4 w; N& m" B# N( P活化的作用,是在铜面析出一层钯,作为化学镀镍起始反应之催化晶核。如前所述,其形成过程为Pd与Cu的化学置换反应。
7 Y& T4 V% }+ q/ B3 J1 K工艺控制需关心的问题有:钯槽稳定性问题、活化槽硝槽处理问题、增加后浸处理问题和活化后水洗问题。5 h1 ~% N; q& h8 ^& z7 X) @
4.5 化学镀镍槽# m; p# W! N$ W
" W2 b6 S3 e3 D6 R化学镀镍是通过在Pd的催化作用下,NaH2PO2水解生成原子态H,同时H原子在Pd催化条件下,将Ni2+还原为单质Ni而沉积在裸铜面上的过程。0 H1 a( d+ z: M' C* \! S! ]# T
工艺控制需关心的问题有:磷含量问题、溶液PH值控制问题、镍槽寿命控制问题、溶液活性与稳定剂关系问题、溶液负载量(Loading factor)问题、镀镍槽的配制问题、程式选择问题和槽内壁镍层之去除问题。2 x+ n, _( L# Q6 [$ U7 t9 I9 x7 d" e& v$ N" F
4.6 化学浸金槽
a7 l5 H# E1 e" d9 T! v7 W1)金槽之Au络合剂、PH值、SG、温度、浸渍时间要控制好。$ Y6 H _( Z$ F# T- `
6 Q7 j2 U+ d0 Y) w: x& ?+ ?0 v+ C 在一般情况下,浸金槽的浸渍时间设定在7~11分钟,操作温度控制在80~90℃,可以根据客户的要求,通过调节温度来控制金厚。
S3 y9 R! s$ D5 ^6 v 2)沉积速率与浸金厚度问题2 M& A# E. `! p$ Y6 Q
以励乐公司“RONMERSE SMT 药水”为例,其沉积速率一般控制在0.05μm/ 5min,使金层厚度最小为0.03μm,最大为0.12μm,此金层能防止镍底不被氧化。
) D) C/ T( {, ~# z$ W 3)使用寿命问题
" h6 @( _$ }! ]: c 由于化学浸金是一个置换式反应过程,随着金不断在镍底基上沉积,其反应速度逐渐下降,因而需注意浸金液的寿命,对于励乐公司“RONMERSE SMT 药水”体系,大约在3MTO,超过它要及时进行更换。( o D! v6 `; v, c4 e& j+ _2 Z7 v: M* I$ j; M
4)金回收处理问题
6 ?( z1 G" @8 |) w: E: r4 N% e* M- Z为了节省成本,金槽后需加装回收水洗,同时还能减轻对环境的污染。0 F# [4 l, U8 C( `7 i' i3 ~, }0 F3 S% w0 K$ q' D/ z$ M9 ^: B3 D @
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: }, o! A i p7 Q+ p# h5 化学镀镍/金可焊性控制
: S7 p( K4 A, o- Y; O 5.1金层厚度对可焊性和腐蚀的影响9 a. \; u. R' }, C7 F) c& J
在化学镀镍/金上,不管是施行锡膏熔焊或随后的波峰焊,由于金层很薄,在高温接触的一瞬间,金迅速与锡形成“界面合金共化物”(如AuSn、AuSn2 、AuSn 3等)而熔入锡中。故所形成的焊点,实际上是着落在镍表面上,并形成良好的Ni-Sn合金共化物Ni3Sn4,而表现固着强度。换言之,焊接是发生在镍面上,金层只是为了保护镍面,防止其钝化(氧化)。因此,若金层太厚,会使进入焊锡的金量增多,一旦超过3%,焊点将变脆性反而降低其粘接强度。( m" d( O' s' ~4 N: ^
据资料报导,当浸镀金层厚度达0.1μm时,没有或很少有选择性腐蚀;金层厚度达0.2μm时,镍层发生腐蚀;当金层厚度超过0.3μm时,镍层里发生强烈的不可控制的腐蚀。" n% t# ]7 Q( K7 \# {, m0 M- c
5.2镍层中磷含量的影响, g- _$ v9 a0 C+ V
化学镀镍层的品质决定于磷含量的大小。磷含量较高时,可焊性好,同时其抗蚀性也好,一般可控制在7~9%。当镍面镀金后,因Ni-Au层Au层薄、疏松、孔隙多,在潮湿的空气中,Ni为负极,Au为正极,由于电子迁移产生化学电池式腐蚀,又称焦凡尼式腐蚀,造成镍面氧化生锈。严重时,还会在第二次波峰焊之后发生潜伏在内的黑色镍锈,导致可焊性劣化与焊点强度不足。原因是Au面上的助焊剂或酸类物质通过孔隙渗入镍层。如果此时镍层中磷含量适当(最佳7%),情况会改善。1 u( U7 s2 D/ n: q% H2 ~
5.3镍槽液老化的影响* o5 C$ M5 E' L3 U' \1 R
7 U. ?0 i {& m" H' x6 y 镍槽反应副产物磷酸钠(根)造成槽液“老化”,污染溶液。镍层中磷含量也随之升高。老化的槽液中,阻焊膜渗出的有机物量增高,沉积速度减慢,镀层可焊性变坏。这就需要更换槽液,一般在金属追加量达4~5MTO时,应更换。6 G4 O. D) b8 w" ^" l. o) G/ ]2 L# [8 l
5.4 PH值的影响7 L' n' G; a3 ?$ s, ~2 T. f
过高的PH,使镀层中磷含量下降,镀层抗蚀性不良,焊接性变坏。对于安美特公司之Aurotech (酸性)镀镍/金体系,一般要求PH不超过5.3,必要时可通过稀硫酸降低PH。, v4 x/ `, _4 Y+ h3 w9 K& B' O
5.5稳定剂的影响+ E% w. E; }+ V3 |2 v1 j f0 s }! s! Y( V
稳定剂可阻止在阻焊Cu焊垫之间的基材上析出镍。但必须注意,太多时不但减低镍的沉积速度,还会危害到镍面的可焊性。 q9 N h1 r5 c0 z q) P( C4 ^9 N& e; H
5.6不适当加工工艺的影响0 x6 H% n' c" I2 J
* u9 F9 m* {7 q7 n& O7 w# K( t0 Z8 O 为了减少Ni/Au所受污染,烘烤型字符印刷应安排在Ni/Au工艺之前。光固型字符油墨不宜稀释,并且也应安排在Ni/Au工艺之前进行。. |, m2 _; w% G- P8 l& c
做好Ni/Au之后,不宜返工,也不宜进行任何酸洗,因为这些做法都会使镍层埋伏下氧化的危险,危及可焊性和焊点强度。, M3 ^( g# y6 G/ D& \, |
5.7两次焊接的影响& F% s1 Q/ V- g) B1 K7 l9 P8 K8 q
对低档卡板只做一次焊接,一般不会有问题。但如笔记型电脑的主板、手机或PC等高档板,一般需两次焊接。
/ P: B$ {) H8 e第一次焊接后,助焊剂残余会浸蚀镍层。第二次焊接的高温会促使氧化甚至变黑,其固有强度变坏,无法通过振动试验。遇到这种情况,只能从槽液管理上入手进行改进,使镀镍层具有更好的抗蚀性能。% b. U. o) ?4 ?( G4 i! }! P, j' c& B
: d4 |6 s& E$ J4 H6 a9 z; c, j1 X* E/ z7 W7 U
6 化学镀镍/金与其它表面镍金工艺
# ~4 V6 B9 |. u5 k5 [ 化学镀镍/金除了通常所指之化学镀薄金外,应打金线等需求,又派生出化学厚金工艺;出于耐磨导电等性能要求,也派生出化学镀镍金后的电镀厚金工艺;针对HDI板BGA位拉力要求,也派生出选择性沉金工艺。 i! B& @7 |: C4 N1 Z
) L. R* x* c0 v9 w; g' s( z1 e5 i6.1 化学厚金工艺% k1 ~( f. @" v" k( d
3 d5 w& o; b" I- q1) 工艺流程
& o6 L$ T z- U+ B% S 除油®水洗®微蚀®水洗®预浸®活化®水洗®沉镍®水洗®化学薄金®回收®水洗 ®化学厚金®回收®水洗®干板6 |, m; Z* f' ^9 i# j" \9 t
2) 化学厚金之特点
( I' p; e6 G. m# Q 化学厚金是指在还原条件下,金离子被还原为金单质(还原剂同化学镀薄金),均匀沉积在化学薄金上面,在自催化作用下,达到所需要的厚度。% r3 S! | v9 @( R8 V( u* k3 ^9 p# Y0 J! A4 ^2 ^, R1 M, c
一般情况下,印制板化学厚金的金厚控制在20μin左右。某些情况下,也有超过30μin金厚的。1 B) b8 X `- d8 w- M4 z
% s/ R$ c" }4 h0 |& P3)工艺控制: |- C$ x. S/ k3 Z% I* T
, B! C, ]0 Z: W( ?+ B8 Z9 W: k 化学厚金最重要的是成本问题,所以,反应速度的控制尤为重要。络合剂、还原剂、稳定剂以及温度,是影响反应速度的重要因素。1 I7 B% }/ f7 g7 D' J+ t
6.2 沉金金手指电镀工艺
# G9 e6 r' L& N% C0 `1)工艺流程7 z* e1 q3 f' L* {) g0 M9 ~
' r, ^: S& O t" Z0 ^- {& g$ G; m# C阻焊膜®沉镍金®干板®包胶纸®电镀金®去胶纸
3 R A( ?4 f2 _. \$ O( O, l其中,电镀金为如下工艺流程:
1 E. K' t! L. |酸洗®水洗®刷磨®水洗®活化®水洗®镀金®回收®水洗®干板
5 g2 K) R9 E5 ]. o4 K3 K1 S6 u2)沉金金手指电镀的特点& h8 p2 \# ]1 I3 h: l7 \# D) [1 P+ \8 o6 _9 Z9 ~! h& |
沉金金手指这种类型的板,在制作过程中,先将整板的露铜部分,包括金手指部分进行化学镀镍金。然后,单独将金手指按客户要求之厚度进行电镀金。" p6 E+ Q8 i$ C# m* E6 P% t. \
这种工艺流程简单,性能可靠,既能满足客户元件粘贴要求,又能满足插接性能。
' {( C6 j1 V( p- Q# |& @5 ^3)工艺控制% t, \. o1 T% ?. X5 E& b, E
包蓝胶纸时,一定要防止药水渗漏,避免金药水污染。此外,电镀厚金前,一定要将被镀表面磨刷干净,否则会引起分层。刷磨时,不可吝啬沉金层的浪费,刷磨效果越好,电镀金层的结合力越牢固。6 }& d; x$ m* W2 S" C2 s
6.3 选择性沉金工艺4 ~. q; j: I5 j2 ^5 }
( `' g- t$ `! [7 e/ l8 ~" E1)工艺流程* X1 L% V) i- L+ s
* r1 R* H/ F8 u) Q阻焊膜®干菲林®曝光®显影®干板®沉镍金®褪菲林®干板®有机保焊涂敷3 E" U6 j& R2 g% B4 E3 X1 G. o/ h
0 z, U% S9 P& i8 S! l) X" U8 u2)选择性沉金的特点9 y$ g5 {3 r: n& A+ Z' Y2 O
# j7 [/ O q3 k6 ^7 Z8 w/ Q% | 选择性沉金既具有元件粘贴平整的特点,又具有良好的装配焊接性能。同时,针对HDI板BGA位等小型Pad位采用有机保焊涂覆(如Cu106),避免因Pad位太小而造成镍金拉力不足的缺点。而且,选择性沉金的成本低于整板沉金,是一种很有发展潜力的工艺。) Z3 N2 z! u1 j1 Y2 R
3)工艺控制$ U5 y8 O9 V# P, ^ z7 H. S. |! N3 F& A1 [0 O
干菲林是专用于沉镍金的类型,它不但应具有耐高温药液能力,且须具备良好的掩孔能力。由于沉镍金疏孔的局限性,其表面对微蚀药水非常敏感,极易造成镍层腐蚀。所以,在有机保焊涂覆制程中,微蚀率应在保证铜面清洁的前提下,控制的越低越好。能够采用贴红胶纸的制板,最好能象喷锡板那样,贴红胶纸加以保护。3 P2 x% A; z \2 i. J/ s
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