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器件一旦坏了,千万不要敬而远之,而应该如获至宝。
: T! H2 B' n4 r$ S# R" G 开车的人都知道,哪里能练出驾驶水平?高速公路不行,只有闹市和不良路况才能提高水平。社会的发展就是一个发现问题解决问题的过程,出现问题不可怕,但频繁出现同一类问题是非常可怕的。
- [( K" X8 q8 }! S2 Z 失效分析基本概念
0 h6 s4 T$ G% D E; _ 定义:对失效电子元器件进行诊断过程。: R1 o: c) }, \3 g; A# z4 Z) L C
1、进行失效分析往往需要进行电测量并采用先进的物理、冶金及化学的分析手段。7 T& Q. f9 Y" [
2、失效分析的目的是确定失效模式和失效机理,提出纠正措施,防止这种失效模式和失效机理的重复出现。
2 X8 p, J) ~/ Q' @ 3、失效模式是指观察到的失效现象、失效形式,如开路、短路、参数漂移、功能失效等。
- R _" u ~7 J- V% f; F1 v 4、失效机理是指失效的物理化学过程,如疲劳、腐蚀和过应力等。
6 B; U) U& k0 a* I' |- c 失效分析的一般程序! q" h& W, K# L1 r# _
1、收集现场场数据
0 G2 y+ p( M# I5 m+ {
2、电测并确定失效模式% W- w- J- y1 a& v& u$ I
3、非破坏检查 4、打开封装0 L( T. a5 n* K. U% n) i- z
5、镜验% j! G+ r q! o( g) d
6、通电并进行失效定位4 e8 u7 Z: K) Z0 {; ~
7、对失效部位进行物理、化学分析,确定失效机理。
, D4 L7 k P" b4 ~" D 8、综合分析,确定失效原因,提出纠正措施。
; X* D! |9 p1 k/ Q" j 1、收集现场数据:' v) d) N: f7 I) x b1 \. Y/ o
2、电测并确定失效模式. J/ t- \% H, _3 A& V0 w( _
电测失效可分为连接性失效、电参数失效和功能失效。
. X8 B3 c( D y3 K ^ 连接性失效包括开路、短路以及电阻值变化。这类失效容易测试,现场失效多数由静电放电(ESD)和过电应力(EOS)引起。* e: i) w. C3 v( E x3 A8 T' O" {/ B
电参数失效,需进行较复杂的测量,主要表现形式有参数值超出规定范围(超差)和参数不稳定。
2 V! t6 V: ]0 B$ J! k* g; l( t 确认功能失效,需对元器件输入一个已知的激励信号,测量输出结果。如测得输出状态与预计状态相同,则元器件功能正常,否则为失效,功能测试主要用于集成电路。- G4 e3 u) h/ a7 N$ ~7 q% k- g
三种失效有一定的相关性,即一种失效可能引起其它种类的失效。功能失效和电参数失效的根源时常可归结于连接性失效。在缺乏复杂功能测试设备和测试程序的情况下,有可能用简单的连接性测试和参数测试方法进行电测,结合物理失效分析技术的应用仍然可获得令人满意的失效分析结果。: S2 |6 m" h; k
3、非破坏检查
6 k" S, n3 d5 k& f% n2 b X-Ray检测,即为在不破坏芯片情况下,利用X射线透视元器件(多方向及角度可选),检测元器件的封装情况,如气泡、邦定线异常,晶粒尺寸,支架方向等。
3 }4 D3 C# {+ b; L& L' ]( N4 @- P
适用情境:检查邦定有无异常、封装有无缺陷、确认晶粒尺寸及layout
3 _! n" Y# y* u6 ^ @2 L6 Q 优势:工期短,直观易分析
- ^2 e: t. @- ~) f2 T& F+ t 劣势:获得信息有限
i' ~+ A: b) g% e+ a" n" i& z ] 局限性:. I/ f$ u* D+ U
1、相同批次的器件,不同封装生产线的器件内部形状略微不同;
& m4 C# t/ f: Y# ~ 2、内部线路损伤或缺陷很难检查出来,必须通过功能测试及其他试验获得。; V4 H, `& G7 J( {) b* x, M5 g0 J
分析:
. ]( t; ^! U8 d( v5 W( E5 c X-Ray 探伤----气泡、邦定线
X-Ray 用于失效分析(PCB探伤、分析)
* Z8 i7 F: N7 {/ G7 p7 V
(下面这个密密麻麻的圆点就是BGA的锡珠。下图我们可以看出,这个芯片实际上是BGA二次封装的)
5 t$ J, h& u- q8 z, w6 e) T5 i# A 4、打开封装
. m0 Q/ }4 X. y' _ 开封方法有机械方法和化学方法两种,按封装材料来分类,微电子器件的封装种类包括玻璃封装(二极管)、金属壳封装、陶瓷封装、塑料封装等。
3 m0 k, R, j8 }- ]0 z
机械开封+ z- E4 b; t% u. A
化学开封! ^8 e8 ^: \$ Y9 f" P
5、显微形貌像技术0 u' D8 p% C& H1 d
光学显微镜分析技术
8 P6 X6 q$ q ~% r! g* G 扫描电子显微镜的二次电子像技术. W V0 Q: V* R6 K* V2 Y# ` P! l
电压效应的失效定位技术
5 ~1 p) W5 D4 s% x 6、半导体主要失效机理分析
* c2 p: @. p# U& S5 ^) V7 d
电应力(EOD)损伤
# L V" T6 C/ X3 R4 k9 @8 ^ 静电放电(ESD)损伤
* U& J- z. D/ w& t 封装失效
$ |6 V4 [3 L' S 引线键合失效# D& ?3 U( n; H
芯片粘接不良& j" C& l, k# O7 G
金属半导体接触退化* w% U; E* w1 T$ q) K7 o
钠离子沾污失效
4 ~+ K# C, r/ S' V 氧化层针孔失效
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