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黑镍现象
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前言
8 h/ d6 p0 X6 w9 c/ [8 P黑镍的生成主要是因为在浸金过程中,镍层表面遭受过度氧化反应。大体积的金原子不规则沉积,及其粗糙晶粒之稀松多孔,造成底下镍层持续发生『化学电池效应』(Galvanic effect),进而使得镍层不断发生氧化,导致在金面下生成未能溶解的镍锈持续累积而成。5 N) \4 y+ A( |0 G% l& A0 p$ \
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6 N7 X7 x; L6 R1 _黑镍对焊接的影响
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3 C- U1 y5 D! N$ C; j' B! N* w/ l1.案例背景
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▷ 客户产品过SMT后发现某电容焊点强度过低(推力<0.3kgf), 焊点断裂,不良率约为30%, 客户要求分析失效原因。! n( P* e) }0 N: ?' S; o2 x7 i
▷ PCB为化镍浸金板,电容表面处理为镀镍镀锡。4 V2 ~/ x! l6 ]1 ]+ l: L* r
▷ 断裂通常发生在右端焊点。, C G8 s% ?; o! b1 L0 K: Q0 Q6 y
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2.分析方法简述
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2.1 原因分析-断口分析(推力:0.25kgf)
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▷ 对脱落样品的断口进行分析,发现断裂主要发生在焊点PCB侧富P层附近。* t0 x0 M1 r! {! L+ ?
▷ PCB端左右两侧断口形貌存在明显差异,右侧断口发现有明显的“泥状”腐蚀裂纹。7 l7 G, l. S* O# t0 P D3 h# v) K
2.2 原因分析—电容原物料分析6 Z- h: u8 {! X3 e3 o& W
2.2.1 表面成分分析
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2.2.2 沾锡能力测试
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2.2.3 切片+EDS分析
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# L" y. [9 v! N' v小结:1.对电容左右两端进行表面成分分析,未发现异常元素;; L9 f9 t$ a; r0 H6 n# \
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2.电容左右两端的沾锡能力正常。
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4 S0 d- x6 i4 b, v# N+ f2.3 原因分析—PCB原物料分析
3 G& R/ i* q1 A# ]* ^9 n: l切片分析+膜厚量测
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● PCB原物料发现有较严重的“黑镍”现象,其中右侧Pad明显比左侧严重
# a! j/ X d/ L! x4 ^. w● 镍层厚度在正常范围之内/ O( G" G' p, l& j: Q$ m4 j7 s5 A
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* i+ y5 G) W1 E2 ^' }小结:PCB镍层P含量约为9wt%,在正常范围之内(6-10wt%)6 x8 P3 S5 W6 X+ |: O& m# e
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# x! d8 e6 X( j. Y2 P/ {2.4 原因分析—未脱落样品焊点分析
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▷ NG样品焊点内生成的IMC普遍较厚,部分区域達4.2μm 。同时生成了厚度近0.4μm的富P层,以及连续的Ni-Sn-P层。过厚的IMC及连续的Ni-Sn-P对焊点强度不利。) P8 p. \7 i. H( _% m4 s
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▷ 右侧Pad焊点内有严重的黑镍,导致局部区域焊接润湿不良。在黑镍上方同时发现有大量的Au富集(AuSn4),AuSn4易产生“金脆”,对焊点强度不利。' {* d9 G: e. W* r- Q0 v
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4 {0 D6 \: J* w5 N& i& D- t# o* B▷ 在部分区域黑镍造成了较严重的腐蚀裂纹,部分腐蚀裂纹达到了Ni层的一半。在NG样品的断口上,可以轻易发现这些腐蚀裂纹。
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3.结论1 [' k: ~/ _1 N+ z3 j4 u& R
1.焊点断裂主要发生在PCB侧的富P层附近。不良批次的PCB有严重的“黑镍”现象,其中失效位置的右侧Pad明显严重于左侧,导致右侧焊点更容易失效。
, p& G9 X6 ?) @9 x4 x" A2.黑镍导致焊点部分区域出现不润湿,并在部分区域产生了较严重的腐蚀裂纹,影响焊点强度。8 T3 w/ T6 Z2 g# i9 L. j+ j
3.两侧Pad焊点均生成了较厚的IMC,厚度近0.4μm的富P层以及连续的Ni-Sn-P层。Ni-Sn-P相与IMC结合力差,可能对焊接强度有影响。
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4.改善建议
! ?0 Q: N& w/ O! @3 \/ S& _! H5 c1.严格控制原物料PCB质量,减轻黑镍现象;9 k# V$ b% H0 _& A( @: g
2.适当降低焊接热量。7 W' f7 c" u. f N
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