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基于潮流所趋,世界各地环境保护意识日渐浓烈,各方人士对于环境污染的来源尤其关注,而于线路板生产过程中,一般传统沉铜流程都会产生大量污染物及消耗大量洗水。
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因此直接电镀法的出现,对于传统沉铜的缺点都能够作出极大改善,而其中由美国电化公司所制造的黑影制程(Shadow Process)便是众多直接金属化(Direct Metallization Process)中一门表表者。 / m4 [! x! _- M9 } g
黑影法(Shadow)最主要利用石墨(Graphite)作为导电物体。由于石墨分子结构中,有大量游离电子,因此石墨的导电性能比一般碳黑化为高。而电镀速度与涂层导电性能是成正比例的,所以涂层导电性能越高,电镀速度越快。
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黑影直接金属化流程(Shadow Direct Metallization Process)简单,主要分为五个化学槽: 9 {) h/ ]0 A) O- A; g
1、清洁/整孔槽 (Cleaner/Conditioner); ^- f k* a! H/ |/ D& X
2、黑影槽 (Conductive Colloid) M* Q$ L5 U4 s4 }7 o& [ C& F
3、定影槽 (Fixer)" T4 }1 X" u5 r! m: x* `4 ]7 o8 I# s3 k
4、 微蚀槽 (Micro-Etch)4 b+ `# e- z7 d, t [3 x, g
5、抗氧化槽 (Anti-Tarnish)
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其中抗氧化槽更是选择性的,需视乎生产板放置时间而决定需要与否。 6 Z M M# m; R$ u. \9 Y( @! E
黑影法分别拥有水平式(Conveyor)及垂直式(Vertical)生产方式,但是由于垂直生产方式生产时间较长,不及水平式生产简单。 黑影流程化学剂种类
3 e0 S3 j- ~. |7 L5 R, U- @(1) 清洁/整孔剂 (Cleaner/Conditioner)
( a( v% M$ `: ^6 r- ~& L$ f清洁/整孔剂是一种微碱性的液体,主要功用是用来清洁孔壁表面以及作为一种整孔剂(Conditioner)调节玻璃纤维及环氧树脂的表面适合导电胶体拥有足够吸附力。; o! W& Z- v2 G( E3 w; b d; x
(2) 黑影剂 (Conductive Colloid)
) Z8 I, t @) s, {) n: s! Z黑影剂是一种微碱性液体,成份含有独特的添加剂及导电胶状物质,使孔壁上形成导电层。
8 `& Q3 X& e/ G( @(3) 定影剂 (Fixer)+ E5 R# V+ M3 l: W( Q& Y
除去孔壁上多余的黑影剂,使黑影导电层更能平均分布于孔壁上。& ?1 c- g( b2 I4 Y; F, I# W, v
(4) 微蚀剂 (Micro-Etch)
2 B2 [ I- o1 j1 J微蚀剂的主要成份是过硫酸钠和硫酸。微蚀剂的主要作用是透过侧蚀作用,除去铜面上的黑影。由于树脂及玻璃纤维是惰性的,所以微蚀剂不能够除去板料上的黑影。
/ ~0 T/ y* {9 U D! q) l. X(5) 防氧化剂 (Anti-Tarnish)
7 {0 r' a% Y8 F/ t" j4 `防氧化剂是微酸的液体,用途为保护铜面,使它不致容易氧化. m0 u$ c- ^; [% z0 G6 O* h: t5 R
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