5nm造出1700平方毫米巨无霸！集成96GB内存

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晶体管越来越小，但是高性能计算需求越来越高，有些人就反其道而行之，尝试制造超大芯片。

以前我们就见识过Cerebras Systems打造的世界最大芯片WSE，拥有46225平方毫米面积、1.2万亿个晶体管、40万个AI核心、18GB SRAM缓存、9PB/s内存带宽、100Pb/s互连带宽，功耗则高达15千瓦，而这个庞然大物也得到了美国能源部的青睐和部署。

相比之下，曾被称作怪物的NVIDIA GV100大核心是全球最大的GPU核心，但也不过815平方毫米面积、211亿个晶体管，真是小巫见大巫了，差了足足56.7倍。

台积电、博通联合宣布，双方将利用晶圆上芯片封装(CoWos)技术，打造面积达1700平方毫米的中介层(Interposer)，是芯片蚀刻所用光掩模(光罩)尺寸极限858平方毫米的整整两倍。

这样规模的中介层显然是无法一次性单个制造出来的，台积电实际上是同时在晶圆上蚀刻多个中介层，然后将它们连接在一起，组成一个整体。

工艺上，台积电也用上了最先进的5nm EUV(N5)，它将在今年上半年投入量产。

所谓中介层，用途就是串联不同裸片(Die)的桥梁，因为随着现代芯片日益复杂，制造单个大型SoC的代价越来越大，所以行业普遍开发出了各种新的封装技术，将不同的小芯片、模块整合在一起，构成一颗大芯片。

博通就计划用这个庞大无比的中介层，封装多个SoC芯片，以及六颗HMB2内存，单颗容量16GB，总容量达96GB/s，带宽也高达2.7TB/s。

看这规格，应该是三星最新的HBM2E。

台积电和高通未透露这种庞大芯片的具体规格，只是说将用于高性能计算领域。

另外，台积电还在改进CoWoS封装技术，所以未来不排除面积超过1700平方毫米的更大芯片。

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