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作为电子工程师必须了解的行业——PCB技术发展趋势

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发表于 2019-12-6 10:40 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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* L  D9 x& G5 A, C! H- V8 yPCB产品中无论刚性、挠性、刚挠结合多层板,以及用于IC封装基板的模组基板,为高端电子设备做出巨大贡献。PCB行业在电子互连技术中占有重要地位。+ x: {  D: v: i- f8 O

  a8 a0 _7 Q. F1 f8 C. D; o回忆中国PCB走过五十年的艰难历程,今天它已在世界PCB发展史上写下光辉一页。2006年中国PCB产值近130亿美元,称为全球PCB第一生产大国。0 [# m% H% M" i( V# ^8 U
) R1 d  K8 p- N( n: r1 k$ X2 {7 W
0 O. [# F, u& p  @* g- b! _% r
就当前PCB技术发展趋势:
. a- \3 I, j0 H) D- t; j
" N# h, _' Q0 A- [! ~6 X) V一、沿着高密度互连技术(HDI)道路发展下去
" `. ]) [+ _- d
9 @% b( ~9 Z2 L5 e1 ~由于HDI集中体现当代PCB最先进技术,它给PCB带来精细导线化、微小孔径化。HDI多层板应用终端电子产品中--移动电话(手机)是HDI前沿发展技术典范。在手机中PCB主板微细导线(50μm~75μm/50μm~75μm,导线宽度/间距)已成为主流,此外导电层、板厚薄型化;导电图形微细化,带来电子设备高密度化、高性能化。
' k4 ~- G$ H4 t9 e, m* ]" f$ o; B1 k8 y" N0 u

& W" Y* _0 j: z4 r1 b: @# n! ~二、组件埋嵌技术具有强大的生命力: _2 l- ^1 O. P

7 n) t3 u/ G& z$ f6 Z8 D在PCB的内层形成半导体器件(称有源组件)、电子组件(称无源组件)或无源组件功能"组件埋嵌PCB"已开始量产化,组件埋嵌技术是PCB功能集成电路的巨大变革,但要发展必须解决模拟设计方法,生产技术以及检查品质、可靠性保证乃是当务之急。
2 b$ y$ F& I' S
, y# W( H" W" b4 U7 g4 m2 z, F+ \我们要在包括设计、设备、检测、模拟在内的系统方面加大资源投入才能保持强大生命力。
9 x1 G; ~) _, W/ E! \9 W7 I. F+ e% k

% n- U+ G7 U2 L4 Y
/ ^6 _5 k: N1 }8 u( h& g三、PCB中材料开发要更上一层楼4 ~% H! T2 k& ^* j' J! |6 b3 e# a

$ ~2 s; M. x- t# Q/ B无论是刚性PCB或是挠性PCB材料,随着全球电子产品无铅化,要求必须使这些材料耐热性更高,因此新型高Tg、热膨胀系数小、介质常数小,介质损耗角正切优良材料不断涌现。
5 }( V! @& Y- y, c7 n! D* u  E. y$ O7 U5 w, k! b7 f
/ S$ K. ~7 I9 |; R+ Y* h' j/ C: Z5 B0 G% I
# Y  \6 c( C- }+ z, X
四、光电PCB前景广阔
. B" S2 X; t0 v7 s) g3 N1 z6 ^5 X8 H! \6 ^8 n! Z
它利用光路层和电路层传输信号,这种新技术关键是制造光路层(光波导层)。它是一种有机聚合物,利用平版影印、激光烧蚀、反应离子蚀刻等方法来形成。目前该技术在日本、美国等已产业化。; b3 i$ Z/ L, `+ }, n
3 s5 ?5 {) T- r* A

! l& Z0 U8 `+ y% u5 Y2 @8 J/ Q五、制造工艺要更新、先进设备要引入2 m% {+ u. y; G$ {) j) B6 P
1 P& V4 H4 H5 D/ n% Y/ E
1.制造工艺
5 D* ]) p9 ?! D$ `
' H2 O. h( X" _2 E4 Y, L; F7 n$ r* OHDI制造已成熟并趋于完善,随着PCB技术发展,虽然过去常用的减成法制造方法仍占主导地位,但加成法和半加成法等低成本工艺开始兴起。) Q9 a  k' j6 l! V% d! ^  O) N; L
+ Y! e) @' f7 `; J* e
利用纳米技术使孔金属化同时形成PCB导电图形新型制造挠性板工艺方法。! u# v( X( W, N9 `

2 w/ d6 Q- ]  u3 D高可靠性、高品质的印刷方法、喷墨PCB工艺。/ H/ f. C( N4 g, G8 _
5 z. K. \' X3 X2 b+ i
2.先进设备
0 ~% b( F0 M5 q% r
& w" }9 b& W# G4 p- |生产精细导线、新高分辨率光致掩模和曝光装置以及激光直接曝光装置。9 v, Q* V5 d& O* y" n$ U
# K) }# e/ @3 x* Y/ z) g; c
均匀一致镀覆设备。
8 G' B/ W% x- g+ w. g( f6 D
* H+ e1 d; w. L7 j  Y9 T9 b2 ^生产组件埋嵌(无源有源组件)制造和安装设备以及设施。

+ i# O5 I& r5 \* X  A

2 Y, K: b9 Y, R, x" ?  m! y. j, r& |9 A4 B, u
- W8 j& W& e1 Z, x3 q

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发表于 2019-12-9 19:32 | 只看该作者
谢谢楼主分享
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