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本帖最后由 alexwang 于 2018-7-3 09:29 编辑 3 o3 G3 H/ m4 T
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表面粗糙度详解（四）Which roughness model is better? 1 g; ?: K# d- C
' }& Z. k- `; H/ ?' f% ~! D
! S( z/ l _! w1 W& n1. 表面粗糙度( su RFace roughness)介绍. 3. 表面粗糙度( surface roughness)的仿真. 4.仿真与测试的比对，Which roughness model is better?
7 T5 S2 o( M8 n
, B& Q- v. R) K8 L' E5 B8 Z4 J- \( C6 t2 t% J* f* A
关与Suface roughness铜箔表面粗糙度是指铜箔表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。铜箔表面粗糙度越小，则表面越光滑，反之相反。表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有密切关系。表面粗糙度起因于材料加工过程
4 U. [, h e; O, U. HWhich roughness model is better?1.Which roughness model is better? , ?. I, b4 G, Q& F# O/ B
A1：Hammerstad与Huray model的效果差不多，而roughnessmodel的参数都是透过量测S parameter correlation后fitting出来的。 , x W$ J2 v. W# m" w+ `8 ]3 k
A2：(Classic)Hammerstad只适用于粗糙度HRMS<2um，而Huraymodel无此限制，简言之，Groisse或Hammerstad model仅限于光滑表面使用，而一般制程与SI(宽带)应用，则用Huray model。另外Hammerstadmodel在较高频时(30G~)，K曲线斜率会变缓(渐渐饱和)。 " ` }5 h, U5 Y/ v( h
下面这张图则是说明只要适当的参数配置，两种model(对于较光滑的表面)可以达到非常接近的效果
8 a; N3 L8 r" M1 p i, }! E
- X1 m+ ]. z8 `$ `% A6 M6 i+ V 上图从0~60GHz，两种model的效果都很接近的主因是：请注意左边坐标轴K系数<1.5，这表示此例属于low profile roughness ! i" }$ T1 r6 N
2. Howto simulate the resonance absorption peak at 35GHz？
; M0 L8 m# A0 r2 D( g1 G/ qA：Itis caused from glassweaver effect.
! B* Y k! v: Z4 ^, o4 M2 T
( V: \1 Q/ V+ m: `' Q7 {# n3.Measurement v.s. Simulation
]* I4 s$ r3 U1 [Huray Model需要定义颗粒大小a (nodule radius)，与单位面积颗粒数目N/Af (Insiwave, Huray Surface Ratio=4*pi*a2*N/Af) $ y9 D. l' }# C
4.Why does characteristic impedance Zo increase to infinity while frequency decreases to zero $ u H* t" {0 ^/ O
0 Y5 R/ Y& @. l; O. cA：特征阻抗
(G是介质损耗所造成，通常很小)
. c3 B9 h S- P1 ?6 h- b高频时
(这式子也适用于无损的传输线特征阻抗表示)
/ z! ~. ?2 Y3 \0 }低频时
当频率趋近于0 (w®0)，Zo趋近无限大 # ^: m) P2 W3 B
2 C& B) _: _7 e8 w
-----全文完-----
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发表于 2016-5-13 15:56
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