|
|
EDA365欢迎您登录!
您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册
x
本帖最后由 mosman 于 2016-3-9 00:57 编辑 ' @& b5 E: U; l6 s
! S5 \+ F1 b7 U+ ^# b- N# x
AC耦合电容组装结构的优化
% O ^& D `" r在高速串行链路中,为了让工作在不同电压下的发送器和接收器能够连接(也许是为了不影响各自buffer模拟电路部分的静态工作点),需要在通路中加入隔直电容,但是隔直电容自身和焊接电容的焊盘会给通路带来阻抗的不连续性。这在设计中都需要仔细考虑,也需要考虑电容是放在发送端还是接收端的问题
: B4 w3 i7 i1 V& ^6 ]! ?% `2 x6 }. ~4 _6 h; j, _( e6 d* K
一个典型的通路作为实例来研究这个问题
+ f$ ]4 B5 s1 \8 F- T/ a
! H! @6 E5 P- T# [
- ~6 d. `; J/ ?% M) }0 e5 L0 H2 ~: `其中电容的模型是C=100nF,ESR=1mOhm,ESL=100mn
& M0 n3 Z; z# h$ {, o! [4 r
* B% d; X8 z. a
+ ~( m& q8 x3 ~8 m
. @* V k) U3 W: `; C, C
当信号传到AC电容处,由于焊盘的面积和电容两端的引脚比较大,这个地方的寄生电容必然很大,最终在TDR图上对应地显示出阻抗偏小。为了让阻抗连续,减少寄生电容,可以在电容的下方将参考平面掏空,如下图9 R' q) d- ]! d% |% K) N" x
2 F- A" O9 A1 R* S6 |
7 }& {+ u1 k/ D e0 h1 v7 s3 e% b" j3 I" j3 j+ g7 n! K
将修改前后的电容结构分别做3D电磁场仿真:. {1 ~- G6 ]+ U; R( a ?
一、回损
' M# [$ {5 @# [+ K2 D* h1)没有掏空
$ }* \2 Y3 Z) _' F" q3 O5 z8 c. |+ n: E8 V9 l
_. A; l& X! q; s# Q8 I4 b" A
1 I3 K6 M! H! @9 p2)掏空
3 N1 u+ Z- r# {7 E# U0 S; M |5 E, F$ K7 i: O0 T$ F
# ~/ ?/ U: y" c0 [$ \6 f0 r; J+ j( ?( }/ h0 C
掏空之后,无论是S11还是S22,都要比原来的改善很多,回波损耗在-30dB以下,这在实际的通路中的响降到最低。从S22>S11可以看出靠近电容的端口回损要大,如果要降低反射,可以将电容放在离发送端远一点的距离上。6 _: p0 r! V4 d4 [, @) N- ` s% I& h
( | g' w: q g D2 X& m
二、插损2 \6 |0 m! ]6 ]' j
1)没有掏空7 A9 Z8 M: [$ t( x2 l* \% h
7 |# Y0 {8 v5 v8 M) E
$ N1 q8 ^$ Y, m) q# L, j4 ?8 \2)掏空
( s& ?7 e6 {5 _7 c% U
1 k) ]1 H3 j. ?. o1 K( @* x0 b
5 {" Q1 T* b+ o电容造成阻抗的不连续带给插损的影响很小。( D8 {9 a" P2 }& Z
* @8 {/ j! P; I9 G2 `8 y
三、TDR' Y* F) d) u6 p2 T
用前面3D电磁场仿真得到的S参数对这两种电路做TDR分析:+ {2 |" T" I4 h
1)没有掏空
2 ^1 c# P3 T9 U0 j8 _+ ]) Z C/ }, m0 s
: L: Y/ O% r3 w0 q) q% o
2)掏空
- o6 }9 k+ G7 `& q( b e6 {; ~1 [
1 f0 O- D$ l0 _- l6 S& Q$ J+ g2 a4 S( K4 F: L( @ k2 w
可以看到未掏空之前阻抗的不连续点很明显,掏空之后的阻抗十分连续,几乎看不到任何的不连续了
, O) ?- Z1 _4 e. Q类似的掏空处理方法还有很多地方可以用到,如大的QFN焊盘下方, DDR4内存条金手指 的信号参考平面。9 g$ | m* n6 Y' r1 ]& p: Q" G
掏空区域的大小要根据软件仿真得到,不能一概而论。4 V m8 p: p! [) F# ^* h n
: J+ m6 }2 q5 W% W
% W. R u! F! o9 X+ U q1 ~; F" A( |* t' u. ?/ }+ |4 S8 c: x- \! d
2 Q5 g& x! z" ?3 S; o: ?. Y
7 ?3 q3 `0 g- H) C& ~' ` X |
评分
-
查看全部评分
|