|
EDA365欢迎您登录!
您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册
x
本帖最后由 mosman 于 2016-3-9 00:57 编辑 . G3 z9 N" d3 @' C! M# w
, u& L% L4 u: X6 J, f2 VAC耦合电容组装结构的优化( O( \% c7 V6 Z7 W
在高速串行链路中,为了让工作在不同电压下的发送器和接收器能够连接(也许是为了不影响各自buffer模拟电路部分的静态工作点),需要在通路中加入隔直电容,但是隔直电容自身和焊接电容的焊盘会给通路带来阻抗的不连续性。这在设计中都需要仔细考虑,也需要考虑电容是放在发送端还是接收端的问题
; {, c8 Q% G( e& z2 H" ~) R/ |0 k5 w
一个典型的通路作为实例来研究这个问题' ~0 f" G' M6 Y! D+ o
* C/ l5 T6 B1 j$ f4 a
, ?( A/ J& c+ v i. h( L E4 _0 d其中电容的模型是C=100nF,ESR=1mOhm,ESL=100mn
4 a# t! H8 R9 I: m/ ? c$ _' r6 {! U$ p( V8 d- e4 y
) M9 p3 |5 V' J/ e
. K$ g2 E1 [ i% }" [* J) x4 B$ D当信号传到AC电容处,由于焊盘的面积和电容两端的引脚比较大,这个地方的寄生电容必然很大,最终在TDR图上对应地显示出阻抗偏小。为了让阻抗连续,减少寄生电容,可以在电容的下方将参考平面掏空,如下图) X H" k- {! {# p+ ^
3 c6 n' e( g x
' |" K# p1 W! H4 d
3 Y! O' F4 O1 v+ E/ b3 t将修改前后的电容结构分别做3D电磁场仿真:
- _9 ?. v) Q2 k8 c9 s一、回损
- J/ X Z. g- n% `) |0 c1)没有掏空
0 W/ O& v. a4 t5 }' e. o( J: k d% l4 C" z6 c. D# l
/ r. L6 D9 i; T2 W
+ t3 V8 ?3 Q R) E4 M2)掏空* `( A1 T) u0 O# l l
! H$ }6 _3 ^3 S" Y! s( e9 G% Y9 R
6 d7 Y% q0 C1 f' M4 i. u8 L
+ O5 u; z# _ j, c- J' V4 b掏空之后,无论是S11还是S22,都要比原来的改善很多,回波损耗在-30dB以下,这在实际的通路中的响降到最低。从S22>S11可以看出靠近电容的端口回损要大,如果要降低反射,可以将电容放在离发送端远一点的距离上。4 x6 {; P( r$ K2 h( v+ C1 S
7 M5 |% W1 m5 y k. @- k0 w
二、插损
8 v1 X: i& ]1 B+ S5 z! j1)没有掏空 L5 ?: V+ v& d: ^3 c9 ~
$ V4 ^. C: ^4 g0 `8 O6 R
% r2 N1 V+ I+ K# N( G) d2)掏空' _( V9 R" x2 p# G1 e5 Z% m* l; E
! O1 z U* ~( H' F$ j* d2 z# D7 D7 j! G
电容造成阻抗的不连续带给插损的影响很小。0 h8 B! T# S; u/ M
! N* q5 t" g( @3 a6 @三、TDR/ g2 {8 e0 n: j9 P
用前面3D电磁场仿真得到的S参数对这两种电路做TDR分析:* f0 E8 M# K; T5 u5 ~
1)没有掏空! L; v" x( s2 U9 ?" f
" s2 N/ S, q6 B7 p3 f; q# A, ^
, E, r! Z9 _1 `) g4 a
2)掏空) p9 \0 k3 J( K4 W) |7 Q
' ~% e/ f: ?3 W" Y6 p D+ ] c5 g. T$ N; i8 x, U' p" ?' n# G
可以看到未掏空之前阻抗的不连续点很明显,掏空之后的阻抗十分连续,几乎看不到任何的不连续了
L$ F- d! W/ A. T类似的掏空处理方法还有很多地方可以用到,如大的QFN焊盘下方, DDR4内存条金手指 的信号参考平面。
, K" V' g# U0 z" z( l1 e( t9 ?掏空区域的大小要根据软件仿真得到,不能一概而论。
4 h0 e" N" L5 o
R! t" z8 o+ N/ G+ e' I2 t" A& a* F6 `6 E6 {
$ j0 b6 C5 |4 y# v3 G
# b6 j% G( `) v7 x8 R. K
`% _9 J' V, Q4 Z% E
|
评分
-
查看全部评分
|