亚微米CMOS工艺制程技术流程

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1. 衬底选材
2. 清洗
3. 生长初始氧化硅
# `+ ?7 u  g# c/ Q0 \7 t4. 晶圆刻号
5. 清洗
4 [  Y) t/ |0 [6 C, b6. 第零层光刻处理
7. 第零层刻蚀处理
, }; r3 q: N( I, @1 \3 [3 q8. 去光刻胶
5 W: t$ K9 i, h5 l& @2 z9. 去除初始氧化层


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fantasyqqq

CMOS工艺

瞪郜望源_21

不错不错，很是专业和深度，内容全面丰富，学习下