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碳化硅(SiC)MOSFET与绝缘栅双极晶体管(IGBT)在应用中的降额标准差异主要体现在温度敏感性、开关损耗特性及导通电阻变化等方面。以下从关键维度对比两者的降额策略差异:
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" H5 Z/ N+ `: L" P/ L' n3 @倾佳电子杨茜致力于推动SiC碳化硅模块在电力电子应用中全面取代IGBT模块,助力电力电子行业自主可控和产业升级!0 s' C6 t1 S3 U5 {2 s
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倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三个必然,勇立功率半导体器件变革潮头:
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倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET模块全面取代IGBT模块的必然趋势!
7 m4 r( g: f" t0 b倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET单管全面取代IGBT单管的必然趋势!
. N+ [/ G0 v$ E) ?0 G- b( p倾佳电子杨茜咬住650V SiC碳化硅MOSFET单管全面取代SJ超结MOSFET和高压GaN 器件的必然趋势!
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### **1. 温度降额:高温稳定性差异** % k! I5 f/ U$ z% m
- **SiC-MOSFET**:
2 A% x: R! g2 M# B7 H - 其导通电阻(\(R_{ds(on)}\))随温度升高的变化幅度较小。例如,在150℃时,SiC-MOSFET的导通电阻增幅比硅基MOSFET低约50%,因此高温下的功率降额需求更低。 + x) C: @" ^$ q* t: |( G% ?! U5 D% l
- 无IGBT的“尾电流”问题,开关损耗在高温下几乎不增加,无需因温度升高额外限制开关频率或电流容量。
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. B- J0 i% ^3 e( k6 E( B- **IGBT**: 2 ]- A, U% a2 J# L( z: Z& t3 j
- 高温下导通压降(\(V_{ce}\))显著增大,且关断时的尾电流随温度升高而加剧,导致开关损耗增加。例如,IGBT在150℃时的关断损耗可能比室温时高20%-30%,需通过降额降低电流或电压以控制温升。 # k9 b! W% r; B, o$ ^
- 通常需设置更严格的温度降额曲线,例如额定结温(\(T_j\))的80%作为实际运行上限。8 R* ]# U+ c M r1 D- W1 u* v6 R& z& I
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4 f' V( \1 i& J0 `### **2. 开关损耗与频率降额**
, u; @, E4 G0 ]9 |- **SiC-MOSFET**:
. m. J$ n6 J: I - 开关损耗仅为IGBT的10%-20%(如与SBD配合时关断损耗降低88%),支持更高开关频率(MHz级)而无需大幅降额。 / J, k0 c# |5 {7 I# Y9 _2 ~8 k3 w
- 高频应用中,可通过优化驱动电阻(\(R_g\))和封装设计进一步减少损耗,降额主要针对寄生参数(如电感)而非频率本身。 7 r( G' m8 s& G
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- **IGBT**:
D9 W# N# }/ C& q - 开关损耗较高且随频率线性增长,尤其在关断时因尾电流导致损耗陡增。例如,在20kHz以上应用中,需将电流或电压降额30%-50%以控制温升和可靠性。
3 U& t" e. e! V0 M - 高频场景下通常需牺牲效率或功率密度以满足降额要求。 C$ j1 ?5 b- K9 Z% B
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### **3. 导通特性与电流降额**
* t) b' d: R! p3 R3 L- **SiC-MOSFET**:
6 ~, r* ~" \. M* V& A5 ` - 导通电阻(\(R_{ds(on)}\))在低电流区呈线性特性,低负载时效率优势显著。例如,在10%额定电流下,其导通损耗比IGBT低50%以上,因此低功率运行时无需额外降额。 * j. a! a% d7 f$ F7 ]1 n1 X+ u% j
- 多芯片并联时需考虑参数分散性,但通过均流设计可减少降额需求。 - L7 L8 i e3 I9 x3 s4 f) o' ^
5 o$ H7 @9 M3 x/ P# m- j- **IGBT**:
2 f" d0 U: z% W' e - 低电流区域导通压降(\(V_{ce}\))非线性显著,导致效率骤降。例如,在额定电流的20%以下时,IGBT效率可能下降5%-10%,需通过降额限制最小工作电流。 8 f: `7 K6 b+ [" s! f
- 大电流应用中,导通压降随电流增大而上升更快,需根据负载曲线动态调整电流限值。
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3 g0 j4 m' I5 ~5 w### **4. 电压与可靠性降额** & Q6 G! L6 O7 Z# o. m1 j, M3 d8 {- H
- **SiC-MOSFET**:
' b% _* D, c9 j9 G5 T6 H - 耐压能力(如650V-1700V)与动态特性优异,雪崩能量耐受性高,通常仅需10%-15%的电压降额(如650V器件按600V设计)。
8 d5 R! f' Y2 j - 栅氧可靠性通过工艺优化提升(如均匀性≤0.5%的栅氧化层),进一步降低电压降额需求。
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- **IGBT**: # B% R/ r7 Y% ^& n) o/ I H
- 高压应用(如1200V以上)需更保守的电压降额(20%-30%),以避免动态雪崩击穿风险。 ' e: e: p/ `2 L. F& A9 L
- 反向恢复电荷(\(Q_{rr}\))较高,需结合FRD(快恢复二极管)降额使用,增加系统复杂度。
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### **总结** 9 x7 q6 T' F2 u8 t& E5 G/ d" Q8 Y/ p
SiC-MOSFET凭借高温稳定性、低开关损耗及线性导通特性,其降额标准较IGBT更为宽松,尤其在高频、高温及宽负载范围场景中优势显著。而IGBT因结构限制需在温度、频率及电流等多个维度实施更严格的降额策略。实际设计中需结合具体应用场景(如新能源汽车、光伏逆变器)和可靠性目标,制定差异化的降额方案。
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