现在的仿真工具是如何考虑介质粗糙度的呢？

mengzhuhao · 发表于 2012-3-17 22:22

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本帖最后由 mengzhuhao 于 2012-3-17 22:47 编辑

现在的仿真工具是如何考虑介质粗糙度的呢？

理论上介电常数在1GHz里面的值比较稳定，频率更高的时候就会发现变化了

那么现有的工具都是如何考虑类似的情况呢？

像仿真工具里面使用的介质是不是都是按理想介质考虑的？？

lap · 发表于 2012-3-19 20:45

没接触过仿真，听不懂啊。有待学习

mengzhuhao · 发表于 2012-3-19 18:35

shark4685 发表于 2012-3-19 17:08
% E/ ~) B, d* m铜箔粗糙度的研究，需要考虑很多因素，如：粗糙度的形状，单面粗糙还是双面，VPL的铜箔，普通蚀刻之后会变粗 ...

说的很全面哦稍微理解了些牛

shark4685 · 发表于 2012-3-19 17:08

铜箔粗糙度的研究，需要考虑很多因素，如：粗糙度的形状，单面粗糙还是双面，VPL的铜箔，普通蚀刻之后会变粗糙，需要特殊的蚀刻药水===....仿真方面需要EDA软件商，大力升级！

eins_0 · 发表于 2012-3-19 09:38

我想楼主表达的是铜箔的表面粗糙度；
频率对介电常数的影响很小，基本上不考虑，而介质损耗，是必须要考虑的，在板材特性里有一个介质损耗正切系数。

mengzhuhao · 发表于 2012-3-18 20:46

是不是应该是铜箔粗糙度呢？

介质的介电常数在高频的变化情况是不是也是一个考虑因素呢？

eins_0 · 发表于 2012-3-18 17:09

表面粗糙度本来就是一个统计的概念，按照统计学原理进行设置，很多软件都有这个功能

sunab8 · 发表于 2012-3-18 10:08

介质粗糙度是个什么东西？

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