亚微米CMOS工艺制程技术流程

zxcvbvbnmn

1. 衬底选材
- p4 n4 ?, K, L/ H& _2. 清洗
8 A) i% I1 Y2 R/ q% Z; N( P3. 生长初始氧化硅
4. 晶圆刻号
* }! O) B3 \& L, A- P9 |5. 清洗
6. 第零层光刻处理
7 u; M) P3 }' D; ^0 W( K7. 第零层刻蚀处理
. T) [5 v3 g2 t; w8. 去光刻胶
9 V- u5 e7 d8 N; o7 W5 Q# @9. 去除初始氧化层


0 t1 B! n* ^0 [3 }4 R2 V4 F+ r
" O6 f5 j$ F/ U6 Q) k" C  ^
8 a) S1 t1 H; a

游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

9 T) V0 [. Z6 w

瞪郜望源_21

不错不错，很是专业和深度，内容全面丰富，学习下

fantasyqqq

CMOS工艺