|
|
EDA365欢迎您登录!
您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册
x
1、 微分析法
7 @/ p9 s8 ]* e% W) b. @(1) 肉眼观察是微分析技术的第一步,对电子元器件进行形貌观察、线系及
3 g. a8 B t/ S8 E4 b6 s其定位失准等,必要时还可以借助仪器,例如:扫描电镜和透射电子显微镜等进
+ D( |* b8 l3 g- j( m行观察;6 e6 C1 K/ n; O: n0 H* s1 Z6 E `
(2) 其次,我们需要了解电子元器件制作所用的材料、成分的深度分布等信
; n8 c: l' v5 O息。而 AES、SIMS 和 XPS 仪器都能帮助我们更好的了解以上信息。不过,在 " e; f7 W0 H* u+ Z6 U( |7 `8 \
作 AES 测试时,电子束的焦斑要小,才能得到更高的横向分辨率;
2 ~, F. [9 V" ^: A1 v& F2 H. w(3) 最后,了解电子元器件衬底的晶体取向,探测薄膜是单晶还是多晶等对
4 F4 `% v" X; q0 C% g2 k* X- M4 b5 x其结构进行分析是一个很重要的方面,这些信息主要由 XRD 结构探测仪来获取。
: M6 S4 T: V& O2、 光学显微镜分析法
, \% Z/ J. }( s& z- k进行光辐射显微分析技术的仪器主要有立体显微镜和金相显微镜。将其两
% B& _: k/ f' e+ C/ k7 X者的技术特点结合使用,便可观测到器件的外观、以及失效部位的表面形状、结
" ^% w$ H" _, P& Z4 r构、组织、尺寸等。亦可用来检测芯片击穿和烧毁的现象。此外我们还可以借助
8 g& ~6 g" N# ^具有可提供明场、暗场、微干涉相衬和偏振等观察手段的显微镜辅助装置,以适 - c: v/ [# c8 |( V6 o+ L
应各种电子元器件失效分析的需要。 % W: q+ k6 U! P$ h9 A1 ]: A4 I
7 [* g" f1 V8 o% T) _% f9 N9 p
2 D* d( S" o. n- ?/ i Z9 w; u, d; Y. S. S% ?
! Y2 V1 X) l0 I; F0 R7 g# y1 v1 l: U0 ]* A# I: B' q
附件:
典型电子元器件失效分析方法.pdf
(86.49 KB, 下载次数: 2)
+ l5 q3 t1 e. R4 j
2 A# I2 n$ t2 g. w& k( e# R
% W1 f! ]6 m9 }* a" t; }
7 g' o3 b V- v9 J; t
|
|