TA的每日心情 | 慵懒 2020-8-28 15:16 |
|---|
签到天数: 1 天 [LV.1]初来乍到
|
EDA365欢迎您登录!
您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册
x
目前倒装芯片逐渐成为主流的封装互连技术。传统的FCBGA的发展趋势如下:
N H6 g* G0 K+ e W7 Y& q5 i1. 凸点节距:- B3 }2 G! e. f* R, m
a. 减小凸点节距能够提高I/O密度;
3 S, o h0 O/ V7 z# Tb. 节距变化趋势:250um逐渐降低至75um,CP bump节距可以做到更低;
. I9 ]; G, Z y! _0 {& m2. 焊锡凸点沉积方法: 蒸镀-->丝网印刷-->电镀;
) n# ^+ e! |2 W& M3. bump焊料组分:高铅-->共晶-->无铅(Sn-Ag)-->Cu柱节距<125um;
& g' D3 s& l, S9 O4. 封装组成: 陶瓷基板-->高密度互连层压基板-->预浸层压基板-->低热膨胀系数层压基板-->无芯基板;! ^) e. D5 H t
5. 封装结构: 密封单片盖(SPL)-->非密封单片盖-->加强筋+盖子-->裸芯片-->模塑. A p$ ~0 V& \$ E! V
& r0 G! N/ K# v% U/ P
现在由于小节距阵列和无铅化要求,晶圆制造中容易出现高应力的凸点结构以及脆弱的层间电解质层。以上材料的特性在封装过程中容易出现可靠性不稳定的情况,如ILD(电介质层)开裂,UBM分层,凸点开裂,或其他与应力有关的问题。解决此类问题,封装工程师需要向晶圆制造商询问硅叠层及其有关强度的情况。以及在以下方面进行调查;0 z& b0 f4 x7 b3 j2 R' _$ F
1. 顶层Cu或Al的厚度;
; q! q- T( l" k2. 非ELK覆盖层数;" l+ L; i8 W0 w/ C
3. 通孔密度;
9 X5 c5 \5 Q" ]4. 硅一侧凸点焊盘开口;& Z- A3 j/ ^4 q! n) B& h
5. 凸点UBM的直径和高度;
5 u) D- R2 D0 q( U6. 在凸点结构下方添加钝化层,如聚酰亚胺(PI)或PBO;' W) c6 G& N* g. X; R8 v' F3 o
7. UBM叠层,如厚度和材料;
2 F. k6 ?% w+ s0 h8. PCB焊盘尺寸及阻焊层开口(SMO);
/ J: q9 f5 ?: @* ]5 `5 Z9. UBM/SMO对比;3 D# h; v) y- ]: w6 C* Z5 U
10. UBM应力;
. e, e) }& O7 D ^$ i0 p# T11. 芯片/封装之比;' X u. ~% O/ K4 G
12.底部填充材料;如高Tg
! m; k. [6 M4 G7 W' d& ^$ }& C13. 回流温度曲线,如缓慢冷却;
2 H! p6 \# \$ ]' s5 O6 P14. 增加密封盖或其他强度更高的结构单元;, S# W5 W5 T7 E, |
15. 基板芯材及厚度;
# A' g4 v$ }+ ]" n z" }16.基板热膨胀系数
% m2 g( @9 I( [$ V0 \
% h6 n. Z }8 t7 \& Q: z* B; n6 ~ |
|