干法刻蚀和湿法刻蚀的优缺点有哪些？

grand

干法刻蚀和湿法刻蚀的优缺点有哪些？

青藤门下一走狗

2222

cscscwww

各有优劣吧，选择性高、均匀性好、对硅片损伤少，几乎适用于所有的金属、剥离、塑料等材料。  缺点：图形保真度不强，刻蚀图形的最小线宽受到限制

duck

各有优劣，看你适用于腐蚀哪种膜，以及与前期工艺的兼容性等。 湿法腐蚀：选择性高、均匀性好、对硅片损伤少，几乎适用于所有的金属、剥离、塑料等材料。  缺点：图形保真度不强，刻蚀图形的最小线宽受到限制。 干法腐蚀：能实现各向异性刻蚀，即纵向的刻蚀速率远大于横向刻蚀的速率，保证了细小图形转移后的高保真性。 缺点：设备昂贵

dull

我又来了，各有优劣吧，选择性高、均匀性好、对硅片损伤少，几乎适用于所有的金属、剥离、塑料等材料。  缺点：图形保真度不强，刻蚀图形的最小线宽受到限制

dull

● 干法刻蚀优点:各向异性好，选择比高， 可控性、灵活性、重复性好，细线条操作 安全，易实现自动化，无化学废液，处理 过程未引入污梁，洁净度高。 ● 干法刻蚀缺点:成本高，设备复杂。 ● 湿法刻蚀优点:选择性好、重复性好、生 严效率高、设备简单、成本底。 ● 湿法刻蚀缺点:钻刻严重、对图形的控制 性较差不能用于小的特征尺寸，会产生 大量的化学废液。

grand

Yassminee 发表于 2020-5-11 12:08
: m$ g; L/ G3 v8 ^9 K8 u/ v6 W( {) ^各有优劣，看你适用于腐蚀哪种膜，以及与前期工艺的兼容性等。
" R! g$ T  N& e湿法腐蚀：选择性高、均匀性好、对硅片损伤 ...

: c4 S. ?# X! o$ R5 E2 D- {谢谢你的答案，受益匪浅
4 j5 u; ~' N. u  `

grand

Yassminee 发表于 2020-5-11 12:06
; H/ J# W% R& t. S各有优劣吧，选择性高、均匀性好、对硅片损伤少，几乎适用于所有的金属、剥离、塑料等材料。  缺点：图形保 ...

/ R4 a- o; v( e: V4 {& `# C谢谢你的回复，我了解了

ounce

● 干法刻蚀优点:各向异性好，选择比高， 可控性、灵活性、重复性好，细线条操作 安全，易实现自动化，无化学废液，处理 过程未引入污梁，洁净度高。 ● 干法刻蚀缺点:成本高，设备复杂。 ● 湿法刻蚀优点:选择性好、重复性好、生 严效率高、设备简单、成本底。 ● 湿法刻蚀缺点:钻刻严重、对图形的控制 性较差不能用于小的特征尺寸，会产生 大量的化学废液。

Yassminee

各有优劣，看你适用于腐蚀哪种膜，以及与前期工艺的兼容性等。
湿法腐蚀：选择性高、均匀性好、对硅片损伤少，几乎适用于所有的金属、剥离、塑料等材料。  缺点：图形保真度不强，刻蚀图形的最小线宽受到限制。
干法腐蚀：能实现各向异性刻蚀，即纵向的刻蚀速率远大于横向刻蚀的速率，保证了细小图形转移后的高保真性。
9 w: I& G9 T( c/ J) q8 O缺点：设备昂贵
' I6 W  u; P+ X

Yassminee

各有优劣吧，选择性高、均匀性好、对硅片损伤少，几乎适用于所有的金属、剥离、塑料等材料。  缺点：图形保真度不强，刻蚀图形的最小线宽受到限制