找回密码
 注册
关于网站域名变更的通知
查看: 505|回复: 2
打印 上一主题 下一主题

亚微米CMOS工艺制程技术流程

[复制链接]

该用户从未签到

跳转到指定楼层
1#
发表于 2022-10-10 13:23 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

EDA365欢迎您登录!

您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册

x
1. 衬底选材
1 I' H3 j0 v5 F6 I. Q9 o: L) R2. 清洗& l' Y4 `. Z+ P
3. 生长初始氧化硅
& T0 U: z; k6 X; @  F/ P: ?4. 晶圆刻号
% C, ]% J, C* G9 K! x5 A, Z& r5. 清洗3 {) h/ y3 h& @+ o0 b- R7 j
6. 第零层光刻处理
; l4 U6 |2 S3 I8 R5 r) f. _4 z7. 第零层刻蚀处理# T8 h& m$ A. `2 P5 }) q
8. 去光刻胶
8 n5 Y: P( m: }9. 去除初始氧化层0 ^5 P+ j: ~* q! s. {; `$ f; r+ `

4 z8 A1 z: G: W

* D* J: c7 f4 e/ D; [: G$ l" t' x9 _3 Q  p) ^

' O* c* m/ m3 X; c
游客,如果您要查看本帖隐藏内容请回复
& F, V9 C! C6 I3 B: Y  P) }
( W: }; v; `2 z3 {( h; p
  • TA的每日心情
    开心
    2025-11-24 15:18
  • 签到天数: 1222 天

    [LV.10]以坛为家III

    3#
    发表于 2022-10-11 11:46 | 只看该作者
    不错不错,很是专业和深度,内容全面丰富,学习下
    您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

    本版积分规则

    关闭

    推荐内容上一条 /1 下一条

    EDA365公众号

    关于我们|手机版|EDA365电子论坛网 ( 粤ICP备18020198号-1 )

    GMT+8, 2025-11-24 16:22 , Processed in 0.203125 second(s), 26 queries , Gzip On.

    深圳市墨知创新科技有限公司

    地址:深圳市南山区科技生态园2栋A座805 电话:19926409050

    快速回复 返回顶部 返回列表