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元器件失效分析方法

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发表于 2020-4-7 14:31 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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器件一旦坏了,千万不要敬而远之,而应该如获至宝。. S9 B* i9 \% o9 E% `6 t* L( D
  开车的人都知道,哪里最能练出驾驶水平?高速公路不行,只有闹市和不良路况才能提高水平。社会的发展就是一个发现问题解决问题的过程,出现问题不可怕,但频繁出现同一类问题是非常可怕的。
3 s0 |$ f) Z& c  ]% U' r2 [& u) J7 u" |  失效分析基本概念- p, L" y# n8 B; F$ S# G' @1 {- c& j
  定义:对失效电子元器件进行诊断过程。' `7 C# [  [1 c/ d9 H% ?: I
  1、进行失效分析往往需要进行电测量并采用先进的物理、冶金及化学的分析手段。( W! a* C' x& h- m; S  B
  2、失效分析的目的是确定失效模式和失效机理,提出纠正措施,防止这种失效模式和失效机理的重复出现。
1 `2 R% @7 f# }  3、失效模式是指观察到的失效现象、失效形式,如开路、短路、参数漂移、功能失效等。
7 Z' [+ F5 Y7 e3 @( j% b" d  4、失效机理是指失效的物理化学过程,如疲劳、腐蚀和过应力等。
7 r& n4 g7 M2 [$ ^! B8 w% i  失效分析的一般程序* q; z4 z. L$ F8 q& u1 H
  1、收集现场场数据


) b0 r# |  e+ W, `5 L  2、电测并确定失效模式
. z- y+ s' D% u2 y  3、非破坏检查

       4、打开封装* [) Q+ t' A7 e. g
  5、镜验
# `7 u- p* f* v6 p  G  6、通电并进行失效定位8 n2 q1 Y% ?9 Z8 Z
  7、对失效部位进行物理、化学分析,确定失效机理。
; ^' t( I! z  L! `  c/ k  8、综合分析,确定失效原因,提出纠正措施。7 ^% T/ o! s; n' h8 b% U
  1、收集现场数据:, f# f+ V8 s$ m; Y
  2、电测并确定失效模式
2 t5 [& H( r7 q  电测失效可分为连接性失效、电参数失效和功能失效。8 r' _+ Y' S0 }. G
  连接性失效包括开路、短路以及电阻值变化。这类失效容易测试,现场失效多数由静电放电(ESD)和过电应力(EOS)引起。
, i& {6 W# f/ O" \  _2 I3 O1 i  电参数失效,需进行较复杂的测量,主要表现形式有参数值超出规定范围(超差)和参数不稳定。! m$ B# V# z/ a! A8 I
  确认功能失效,需对元器件输入一个已知的激励信号,测量输出结果。如测得输出状态与预计状态相同,则元器件功能正常,否则为失效,功能测试主要用于集成电路
; I8 E$ R% y3 d  @( }5 O  三种失效有一定的相关性,即一种失效可能引起其它种类的失效。功能失效和电参数失效的根源时常可归结于连接性失效。在缺乏复杂功能测试设备和测试程序的情况下,有可能用简单的连接性测试和参数测试方法进行电测,结合物理失效分析技术的应用仍然可获得令人满意的失效分析结果。
: G2 X1 x2 _' l1 i1 A  3、非破坏检查


2 a6 M/ W9 Z- a2 [4 X  X-Ray检测,即为在不破坏芯片情况下,利用X射线透视元器件(多方向及角度可选),检测元器件的封装情况,如气泡、邦定线异常,晶粒尺寸,支架方向等。


3 ?& h2 U) d5 h9 D  适用情境:检查邦定有无异常、封装有无缺陷、确认晶粒尺寸及layout4 |1 e- g5 w  E
  优势:工期短,直观易分析
/ ^$ y2 E) e& ?: O. |  劣势:获得信息有限) H# H* i- V1 O6 _2 y
  局限性:
  E7 q( P% u5 {0 `6 s  l6 p  1、相同批次的器件,不同封装生产线的器件内部形状略微不同;* J, D( _8 b- A3 ]6 h6 d/ I
  2、内部线路损伤或缺陷很难检查出来,必须通过功能测试及其他试验获得。
$ O5 V0 i. p( y- X/ o# P: s  案例分析:6 k! s1 ~4 Q! ?
  X-Ray 探伤----气泡、邦定线

. k5 a$ N1 F/ A# h* b8 I* o% L
  X-Ray 真伪鉴别----空包弹(图中可见,未有晶粒)


( Z* w4 G* N8 D" P, x: d. x3 H  “徒有其表”

- b* y4 P0 Q4 Y. x; u) B
  下面这个才是货真价实的

( H- }. i: R' Z. T& g6 C
  X-Ray用于产地分析(下图中同品牌同型号的芯片)

/ V2 y: U5 z+ }
  X-Ray 用于失效分析(PCB探伤、分析)


* y. u' s" @. |. l. A  _  D# N  (下面这个密密麻麻的圆点就是BGA的锡珠。下图我们可以看出,这个芯片实际上是BGA二次封装的)

0 d7 o1 o5 n4 h! ^
  4、打开封装
. o$ y+ X% J& u6 B+ q- D  开封方法有机械方法和化学方法两种,按封装材料来分类,微电子器件的封装种类包括玻璃封装(二极管)、金属壳封装、陶瓷封装、塑料封装等。

4 V) i" X1 t+ I) K
  机械开封
0 {8 R8 O7 @# ^% w  化学开封
0 H+ o* w6 k* }* m5 h9 E+ N. t9 |  5、显微形貌像技术& o! S* @9 S$ r8 S! g5 R
  光学显微镜分析技术
7 E0 j' J) _5 h  扫描电子显微镜的二次电子像技术
% s' ^0 \" ?  ~6 _  电压效应的失效定位技术! [2 f! v0 A+ o3 s; s8 \1 \
  6、半导体主要失效机理分析


# |% Q; h+ g$ P9 u- k  电应力(EOD)损伤6 @& W7 T- u) p: D7 a
  静电放电(ESD)损伤2 Z3 f' \$ o9 L1 a; u3 o/ E
  封装失效
: l( p' U- p# h* G9 h9 y% V7 T  引线键合失效
& G. Y* \, N5 y" h) N  芯片粘接不良
2 t7 }' j4 Y# o- q& i5 D  金属半导体接触退化
& ?' F+ s1 j* G7 k8 g& t2 J! z  钠离子沾污失效
, i4 x- B: v- t  氧化层针孔失效


% [- Z; b$ {) H, |& Z% ~2 ]

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发表于 2020-4-7 15:52 | 只看该作者
社会的发展就是一个发现问题解决问题的过程,出现问题不可怕,但频繁出现同一类问题是非常可怕的。
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