找回密码
 注册
关于网站域名变更的通知
查看: 610|回复: 1
打印 上一主题 下一主题

制造IC的基础原料:晶圆切割液配方整理

[复制链接]
  • TA的每日心情
    慵懒
    2020-8-28 15:16
  • 签到天数: 3 天

    [LV.2]偶尔看看I

    跳转到指定楼层
    1#
    发表于 2021-3-1 13:07 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

    EDA365欢迎您登录!

    您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册

    x
    晶圆是制造IC的基础原料。硅晶圆的加式过程往往需要基于纯度达到99.999%的纯硅材料,这些纯硅需要被制成硅晶棒,经过照相制版、研磨、抛光、切片等程序,将多晶硅融解拉出单晶硅晶棒,然后切割成一片一片的、薄薄的硅晶圆。; W3 H: p8 i  D/ E

    - H+ H6 L4 P  n; Z7 p' Z5 m基于硅晶圆可以加工制作成各种电路元件,生产有特定电性功能的集成电路产品。
    6 a- j/ ^+ G1 n3 f0 |; t
    1 I4 v6 h- |; G- D& X晶圆划片是整个芯片制造工艺流程中的一道必不可少的工序。% {; l* n6 G0 m: ]* Z2 d$ U) S1 {

    , \# P( h8 V! N& _" T晶圆划片过程中,由于强机械力的作用,晶圆边沿容易出现微裂、崩边和应力集中点,晶圆表面也容易存在应力分布不均和损伤的情况,这些缺陷是造成晶圆制造中产生大量滑移线、外延层错、滑移位错、微缺陷等二次缺陷以及晶圆、芯片易破裂的重要因素。5 }- O  K6 P- ~6 @3 f4 k

    " \9 ~. D2 m5 F! J! H线切割工艺中,克服线锯的晃动、提高其稳定性,对降低硅片表面损伤(尤其是是表面较粗糙的缺陷)具有重要作用,选择性能优良的线切割液是减小或避免这些问题的重要途径。
    ( D  e$ }, l1 ]% o+ F/ w) R) t
      a+ D$ N$ w5 Y  q切割液具有一些特点:" t. C6 [  V) p! D
    ; X) n$ p3 T" c% N# H  W* H8 v
    它会对加工工艺指标影响比较大,主要是加工精度、效率和表面的粗糙程度。
    7 ~9 c3 z9 x" |5 }
    & |7 K: r7 S5 g6 H它可减少硅晶圆切割设备发生锈蚀的问题。9 q+ r" h$ a8 n- [
    ( s# j% d; e% E4 A; e. o
    它有良好的低泡沫性能。
      i) d3 j; g$ m% D$ e' ~) w; o; ^$ ^2 |$ a3 M# [
    由于切割液能降低晶圆表面操作和机械应力,它有利于晶圆加工后续工序的进行。
    7 L, ^, O9 D* }' \* g# A1 x
    - ]# ~! z+ r) A切割液有优异的润滑性能和导热性能,可以降低脆性崩裂和划伤,提高硅晶圆的成品率。: I1 h1 [1 R. n3 F' W7 M. l% d

    9 V- c! x9 S. u# k它能减少表面碎屑和表面金属层残留。; \5 V& @" C0 U5 p

    1 Z' O; i2 c. t) G! Q某公司开发的一款晶圆切割液,它的润滑性和切割效率高,减少了脆性崩裂、划痕、隐裂等问题,能提高硅晶圆的切割效率和成品率。
    + b2 ]4 v* k7 o0 l1 I
    & D6 ?2 n" v  I工艺细节要求:5 Q  M- ~& Q' p$ @. Z) b4 T- Z( C
    " W7 E0 K) y: E( E+ [1 z
    使用软水配制工作液;
    : F0 A- P4 `5 Y1 d8 {) K! a3 B8 s) e
    水稀释15~25倍使用;& o% B/ ^- N/ H" Z& D. p

    , H, O8 j* v1 j长时间使用的话,切割液的耗损量达到切割液总量的1/3~1/2时,要及时补加原液或适当浓度的新工作液;
    1 s/ T8 D: p. l' K/ }# Z. ^- l, W; M8 N: @. ?( k
    参考配方:7 F7 N8 P) W, p! o  `0 i
    ( c3 z, N( K! e$ H( O" U0 ]
    70公斤去离子水+20公斤聚醚(表面活性剂)+5公斤聚乙二醇(表面活性剂)+3公斤炔醇(润湿渗透剂)+0.2公斤封端聚醚(消泡剂)* @2 v, c* z) i) K4 E0 J/ Z! t

    1 {: G5 u) d; N2 Z9 f! ^75公斤去离子水+15公斤脂肪醇聚氧乙烯醚(表面活性剂)+5公斤聚丙二醇(表面活性剂)+5公斤炔醇聚氧乙烯醚(润湿渗透剂)+0.2公斤封端聚醚(消泡剂)1 [* ]* q  K7 u7 ?! ?
    7 Z) t  W& O+ j/ ]
  • TA的每日心情
    开心
    2020-9-8 15:12
  • 签到天数: 2 天

    [LV.1]初来乍到

    2#
    发表于 2021-3-1 13:54 | 只看该作者
    可减少硅晶圆切割设备发生锈蚀的问题
    您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

    本版积分规则

    关闭

    推荐内容上一条 /1 下一条

    EDA365公众号

    关于我们|手机版|EDA365电子论坛网 ( 粤ICP备18020198号-1 )

    GMT+8, 2025-11-24 23:13 , Processed in 0.171875 second(s), 24 queries , Gzip On.

    深圳市墨知创新科技有限公司

    地址:深圳市南山区科技生态园2栋A座805 电话:19926409050

    快速回复 返回顶部 返回列表