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浅谈存储器芯片封装技术之挑战

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    2020-9-2 15:07
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    [LV.2]偶尔看看I

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    发表于 2021-1-21 11:09 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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    存储器想必大家已经非常熟悉了,大到物联网服务器终端,小到我们日常应用的手机、电脑等电子设备,都离不开它。作为计算机的“记忆”装置,其主要功能是存放程序和数据。一般来说,存储器可分为两类:易失性存储器和非易失性存储器。其中,“易失性存储器”是指断电以后,内存信息流失的存储器,例如 DRAM(动态随机存取存储器),包括电脑中的内存条。而“非失性存储器”是指断电之后,内存信息仍然存在的存储器,主要有 NOR Flash 和 NAND Flash 两种。
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    4 \$ O5 S7 J4 m5 @- Y' e7 i1 B) }存储器的发展趋势) p+ k- n- L$ X% }- `

    . E2 k  ]+ a) J/ \& C存储器作为电子元器件的重要组成部分,在半导体产品中占有很大比例。根据 IC Insights 统计,即使全球市场持续受到 COVID-19 的影响,存储产品的年增长率仍将突破 12%,达到 124.1B$,并且在数据中心和云服务器应用上发展巨大。根据其预测,在不久的将来,存储的需求将保持 10.8% 的增长率,同时均价也将以 7.3% 的年增长率逐年上升,将成为芯片行业最大增长点之一。
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    8 g5 o+ d8 q9 m$ T# T0 X/ n虽然,大众普遍对于存储器已有初步认知,但对于其制造流程还是不甚了解。根据产业链划分,存储器制造流程的核心环节主要包括四个部分,即 IC 设计、芯片制造、芯片封装、成品测试。其中芯片封装与成品测试属于芯片制造的最后环节,也是决定着产品是否成功的关键步骤。长电科技具备核心封测技术和自 2004 年以来的大量生产经验,能有效把控存储封装良品率,助力存储产品迅速发展。/ B9 Y( {7 `, u7 J, {& Y

      @* q' l* m+ E; p+ z& t目前全球存储器封装技术几经变迁,封装工艺逐渐由双列直插的通孔插装型转向表面贴装的封装形式,其中先进的封装技术是发展主流,包括晶圆级封装(WLP)、三维封装(3DP)和系统级封装(SiP)等。存储器和终端厂商在成本允许的条件下,采用先进封装技术能够提升存储性能,以适应新一代高频、高速、大容量存储芯片的需求。
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    6 Z- q6 t4 D0 G. ?1 [长电解决方案迎击挑战
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    存储器的封装工艺制程主要分为圆片超薄磨划、堆叠装片、打线、后段封装几个环节。其中,“圆片磨划”是存储技术的 3 大关键之一,其主要目的是硅片减薄和切割分离。这对于存储封装的轻量化、小型化发展十分重要,然而更薄的芯片需要更高级别的工艺能力和控制,这使得许多封装厂商面临着巨大的挑战。, \& {' s& ~* @9 b* Q. O

    - S4 B6 \2 V! d+ i9 U' a# i翘曲和碎屑" \. H! `) d" F: u! F

    7 P0 U9 V/ [, @+ v- L随着芯片的厚度越薄,芯片强度越脆,传统的磨划工艺很容易产生芯片裂纹,这是由于传统机械切割会在芯片中产生应力,这将会导致芯片产生一些损伤,如侧崩、芯片碎裂等,而减薄后的圆片,厚度越小,其翘曲度越大,极易造成圆片破裂。5 N8 f8 m% ~' P' B$ [! S
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    在此环节,长电科技摒弃了对芯片厚度有局限性的传统磨划工艺,根据金属层厚度与圆片厚度的不同,分别采用 DAG(研磨后划片)、SDBG(研磨前隐形切割)、DBG(先划后磨)等不同的工艺技术。
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    DBG 工艺是将原来的「背面研磨→划片」的工艺程序进行逆向操作,即:先对晶片进行半切割加工,然后通过背面研磨使晶片分割成芯片的技术。通过运用该技术,可最大限度地抑制分割芯片时产生的侧崩和碎裂,大大增强了芯片的自身强度。$ d: n9 h) I8 j7 U
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    而 SDBG 则是一种激光切割方法,与刀片切割不同,这种方法不会产生机械振动,而是在芯片内部形成变质层之后,以变质层为起点进行分割,最后通过研磨将变质层除去。因此,使用隐形切割工艺时,刀痕宽度几乎为零,这对切割道进一步狭窄化有着很大的贡献。与通常的刀片切割工艺相比,单位圆片可获取的芯片数量有望增加。/ ?. j! c: Y  X9 u+ V9 b
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    / B% q: H5 ]" m$ w( F异物
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    & ^0 z6 a& |, e; t& q当然,除了翘曲和碎裂的问题,在芯片封装过程中,任何一颗细小的颗粒都是致命的,它很可能会导致芯片的碎裂,从而使整个产品报废。因此,在生产过程中对于洁净度控制显得尤为重要。7 }8 R9 S7 X' A/ f; F1 W

    - v% r8 I6 U- f- ?针对这个问题,长电科技不仅为每台贴片机器配置 HEPA 过滤器,并且还为工作人员设置专用、密封的工具进行产品转移,以确保绝对洁净的作业环境。作为全球领先的半导体微系统集成和封装测试服务提供商,长电科技不仅在“圆片磨划”环节有良好的把控,对于整体的封装工艺都有着成熟的技术和先进的设备支持。针对超薄芯片的贴装,长电科技有着多条 SMT 产线、贴装超薄芯片夹具与先进的 molding 工艺,能够帮助客户提供最佳的封装解决方案。
    ; h5 S2 P9 g- U) f5 G& u% Y5 m( T7 Y5 U9 }' d8 u, R0 n

    & q8 w, c6 ~3 W7 U! B专用以及封装工具5 A  j) g0 i. I) i' R  o, v
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    存储芯片完成封装工艺之后,将进入测试阶段,这个阶段主要是为了确认芯片是否能够按照设计的功能正常运作,如 DRAM 产品测试流程包括了老化测试、核心测试、速度测试、后段工艺几个步骤,只有测试合格的产品才可以进行量产和出货。+ R/ T5 Q5 e) a. l8 o

    ( T9 ]/ D/ o" I* J. a1 ?长电科技在测试环节拥有先进的测试系统和能力,能够向客户提供全套测试平台和工程服务,包括晶圆凸点、探针、最终测试、后测试和系统级测试,以帮助客户以最低的测试成本实现最优解。目前长电科技已经和国内外存储类产品厂商之间有广泛的合作。其中,NAND 闪存以及动态随机存储产品已得到海内外客户认可,并已经量产。  ]9 V) P3 E( `+ ~" Q

    ' C: C3 V' [) }1 R+ s& m1 p: n随着芯片不断向微型化发展,工艺制程开始向着更小制程推进,已经越来越逼近物理极限。在此情况下,先进的封测技术是未来存储技术的重要发展方向。长电科技作为中国封测领域的龙头企业,在先进封测领域持续突破创新,致力于为客户提供优质、全面的服务,助力存储产业发展。4 j* T$ r% B7 ?( \

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    : P% [) d% F- X& `3 G3 v0 n9 J

    该用户从未签到

    2#
    发表于 2021-1-21 13:15 | 只看该作者
    存储器制造流程的核心环节主要包括四个部分,即 IC 设计、芯片制造、芯片封装、成品测试
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