TA的每日心情 | 开心
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前言
2 w& S! z+ K: K6 n% e7 n& o 当今半导体工业，正在不断地努力提高电路的密度、可靠性和小型化的程度。从扁平封装的集成电路向中规模和大规模集成电路的过渡，就体现了这种趋势。为了适应半导体器件的发展步伐，并与其保持必要的相互依赖关系，印制电路工业近几年也有了很大的发展，并相应研究开发了不少的先进工艺。对印制线路板来说，其尺寸公差和材料的技术参数，技术条件均变得更加严格，这就为多层互连电路板和挠性印制电路板的发展提供了基础。据统计我国近几年来，挠性印制电路板的年增率为40%以上，远高于刚性印制电路板的年增速度，这必将更有力的促进挠性覆箔层压材料的大发展。
' Y) m9 [) s) z9 I8 f 挠性印制线路板广泛地应用于计算机、电话机、继电器、陀螺仪、导弹、汽车仪表等电子设备中。随着电子装置不断地向轻、薄、短、小发展，对高性能的挠性基材提出更严格的要求，既要保证材料具有良好的化学稳定性和加工相容性，又要不损失其原有的电性能、耐热性能和机械性能。要满足这些日益苛刻的要求，必须不断地改进覆箔层压材料的性能。挠性覆箔层压材料是由金属导电材料和介电基片材料，通过粘结剂粘合起来的复合材料。这种复合层压材料可以卷绕成卷，而不会折断其中的金属导电材料或介电基片。在一般情况下，要求基材的挠曲次数要能够达到百万次以上。在加工过程中也需要材料有挠曲性，以便适应卷对卷的连续生产，进行钻孔、电镀、蚀刻等工艺过程。- Q g* ^0 d, b/ B( L/ [" V$ p# ?
挠性电路板是连接活动部件最有效的方法。挠性印制线路板还可减少手工装配的工作量，缩短整机组装时间、提高整机的可靠性。应用挠性印制线路还可减少电子装置的体积和重量，在生产上，大量的采用连续地卷对卷的生产方式，也比板状或片状的加工工艺更加经济有效。挠性覆箔层压材料必须要满足这种生产工艺的要求。
- ~2 J* g& W+ _2 `2 I C9 o$ H 挠性覆箔层压材料的组成和性能0 X: Z9 V0 K3 I1 P1 f4 i, h2 C
用于挠性印制线路的覆箔层压材料是由金属导体、介质基片，中间采用粘结剂经热压粘合而成的。其组成如下：
5 D5 o u8 D- o5 ]3 O' N9 r/ P( E4 U ·金属箔导体
$ ^# ~' ~; k, f ·介电基片（绝缘体）. H6 a) y& q& X, y: V, Y& G
·粘结剂
0 r2 f2 J% B l4 a6 U# X# z 一、金属箔导体6 j- c _7 }/ g; A' R; u
电解铜箔& x9 F: b6 h: v! N( S, C+ j
·铜箔
9 r3 R8 L7 R9 H, V; p. t 压延铜箔
+ f6 u! d2 l) S- Z, R, L- ^ ·铝箔( L; l8 m( a/ p& y
·铜铍合箔" k* t2 V* j5 V" Z' L1 ]
作为导体使用的典型的金属箔是铜箔，它分为电解铜箔和压延铜箔两种。铝箔和铜铍合金箔有时也被使用。在选择金属箔时，要考虑其导电性能，组合件的挠曲性能，电路的连接形式，工作温度，以及在加工过程中的耐化学性能。同时还要考虑该金属在使用过程中的物理性能和化学性能。
) u$ B7 V! U1 s- q3 _' _6 } 1.铜箔的种类：+ X- H# x- N1 V1 o$ P' e' r
·压延铜箔
0 C( v$ } C E+ `& O3 }" J3 X [ ·电解铜箔
; q' k' K6 N7 w' P4 K ·电解高延展性铜箔) E# K" m) M& F. ?- R
·HTE高温拉伸铜箔
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发表于 2020-3-20 09:14
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