TA的每日心情 | 开心 2019-11-29 15:39 |
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场效应晶体管或FET是晶体管,其中输出电流由电场控制。FET有时被称为单极晶体管,因为它涉及单载波型操作。FET晶体管的基本类型与BJT 晶体管基础完全不同。FET是三端子半导体器件,具有源极,漏极和栅极端子。 1 L3 G4 y/ y" }3 H& ]
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场效应晶体管
3 G6 D1 w* w5 J2 y( O3 Q* l( }9 u
0 D w1 j; i! } _9 q电荷载流子是电子或空穴,它们通过有源沟道从源极流到漏极。从源极到漏极的这种电子流由施加在栅极和源极端子上的电压控制。
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( u d- R8 q# P& v' r8 K6 i" JFET晶体管的类型: z' d$ T3 F; F" U& _, w- X
, i0 a1 j/ n8 \* q ]FET有两种类型--JFET或MOSFET。& X+ z* u& l' u& W
) L9 x# L' T7 Z结FET
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结型FET5 E/ J) V1 E Y* q9 }
% s ~3 N' e- t. j0 I
结FET晶体管是一种场效应晶体管,可用作电控开关。电能流过源极与漏极端子之间的有源沟道。通过向栅极端子施加反向偏压,沟道变形,从而完全切断电流。
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结FET晶体管有两种极性:
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N-沟道JFET7 r9 h2 @8 d: e
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N沟道JFET" q& u* o! d/ i
6 B1 [3 ^5 K# c8 }) N- Q P0 k
N沟道JFET由n型棒构成,在其两侧掺杂有两个p型层。电子通道构成器件的N通道。在N沟道器件的两端形成两个欧姆接触,它们连接在一起形成栅极端子。 @! S# ]5 a1 l
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源极和漏极端子取自棒的另外两侧。源极和漏极端子之间的电位差称为Vdd,源极和栅极端子之间的电位差称为Vgs。电荷流动是由于电子从源极到漏极的流动。' g- D P9 ]& b+ t J2 I! c
4 I: @/ v5 J' @; m7 G( c4 e每当在漏极和源极端子上施加正电压时,电子从源极“S”流到漏极“D”端子,而传统的漏极电流Id流过漏极到源极。当电流流过器件时,它处于导通状态。8 M, Q3 H& c( X
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当负极性电压施加到栅极端子时,在沟道中产生耗尽区。沟道宽度减小,因此增加了源极和漏极之间的沟道电阻。由于栅极源极结是反向偏置的,并且器件中没有电流流动,因此它处于关闭状态。* u, ~" @2 z$ z6 M
# N9 C% b' \2 ]; p+ o因此,基本上如果在栅极端子处施加的电压增加,则较少量的电流将从源极流到漏极。
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N沟道JFET具有比P沟道JFET更大的导电性。因此,与P沟道JFET相比,N沟道JFET是更有效的导体。8 F$ E% Z; }+ u4 p" h; }: U2 w
. B, P3 n* W6 r# y, r& ]' n
P沟道JFET
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& O8 }, x& v, f# P4 qtrzvp2106P沟道JFET由P型棒构成,在其两侧掺杂n型层。通过在两侧连接欧姆接触来形成栅极端子。与N沟道JFET一样,源极和漏极端子取自棒的另外两侧。在源极和漏极端子之间形成由作为电荷载流子的空穴组成的AP型沟道。
% Z6 m0 M4 Q$ ?9 i0 N3 b
, S* b3 z/ M* {* WP沟道JFET棒
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施加到漏极和源极端子的负电压确保从源极到漏极端子的电流流动,并且器件在欧姆区域中操作。施加到栅极端子的正电压确保了沟道宽度的减小,从而增加了沟道电阻。更正的是栅极电压; 流过设备的电流越少。
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4 a6 i. }2 J* `) B/ t3 Bp沟道结型FET晶体管的特性
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下面给出p沟道结型场效应晶体管的特性曲线和晶体管的不同工作模式。! O7 g* T. a! [& X9 B. H( B7 W, s
5 {7 x& k/ D+ k. q# O: V, dp沟道结FET晶体管的特性
% S3 W3 ~* R. z0 D7 x $ d0 N9 {; o, r' q
截止区域:当施加到栅极端子的电压足够正以使沟道宽度最小时,没有电流流动。这导致设备处于切断区域。2 O; y' q- P- H3 u7 j
; c1 ~3 q3 N1 |* R! [欧姆区:流过器件的电流与施加的电压成线性比例,直到达到击穿电压。在该区域中,晶体管显示出对电流的一些阻力。
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6 A$ j1 Z1 l6 P4 r饱和区:当漏源电压达到一个值,使得流过器件的电流随漏源电压恒定并且仅随栅源电压变化,该器件称为饱和区。
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击穿区域:当漏极源极电压达到导致耗尽区域击穿的值,导致漏极电流突然增加时,该器件被称为击穿区域。当栅极源极电压更正时,对于较低的漏极源电压值,可以提前达到该击穿区域。* {( \! ?+ Z) i9 b
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MOSFET晶体管8 _9 d8 r0 O% N4 q1 L. P
1 ~6 J2 ?% \( U: }MOSFET晶体管
9 f: w; Z; d7 O- Q- l+ j9 h$ r $ m- g. S/ D2 V' N7 j# s
MOSFET晶体管顾名思义是p型(n型)半导体棒(具有扩散到其中的两个重掺杂n型区域),其表面上沉积有金属氧化物层,并且从该层取出空穴以形成源极和漏极端子。在氧化物层上沉积金属层以形成栅极端子。场效应晶体管的基本应用之一是使用MOS晶体管作为开关。
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这种类型的FET晶体管具有三个端子,即源极,漏极和栅极。施加到栅极端子的电压控制从源极到漏极的电流流动。金属氧化物绝缘层的存在导致器件具有高输入阻抗。* E' k; P& N, r# `/ E) P U
3 W. j2 ?1 y+ f基于工作模式的MOSFET晶体管类型 r v$ ^* m. q t+ t% |2 C/ F
4 q2 c0 z5 h7 A* ]) h" xMOSFET晶体管是最常用的场效应晶体管类型。MOSFET工作以两种模式实现,基于哪种MOSFET晶体管被分类。增强模式下的MOSFET工作包括逐渐形成沟道,而在耗尽型MOSFET中,它由已经扩散的沟道组成。MOSFET的高级应用是CMOS。7 y# w& x' q8 X) j
\7 S+ e$ r' F4 ~增强型MOSFET晶体管# @! W' i; C/ R# U) u
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当负电压施加到MOSFET的栅极端子时,带正电荷的载流子或空穴在氧化物层附近更多地累积。从源极到漏极端子形成沟道。
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0 R( N( M5 h# C2 B1 ~9 X8 x增强型MOSFET晶体管- N. Q$ A0 d# \1 g% v/ S
0 u& t$ m `* a# }; {0 ^0 H" Q* i随着电压变得更负,沟道宽度增加并且电流从源极流到漏极端子。因此,随着施加的栅极电压的电流“增强”,该器件被称为增强型MOSFET。- n6 s; M- V3 u2 _4 n" ^* b" N4 G/ m! ^
( s: ^+ ^0 x' e. K0 m" I耗尽型MOSFET晶体管& A; r' K# H# w9 q% n
" U* E& t' q" K+ k. U1 {1 ^+ h
耗尽型MOSFET由在漏极 - 源极端子之间扩散的沟道组成。在没有任何栅极电压的情况下,由于沟道,电流从源极流向漏极。5 p- t& M! w. `# N5 V
O! G* c5 _9 t% |3 Y% G
耗尽型MOSFET晶体管
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9 H) K# x! T$ D# ]' V/ i7 j当该栅极电压为负时,正电荷在沟道中累积。3 v8 r; b C$ P
9 ]+ V, x7 {6 M5 w0 U1 V这导致通道中的耗尽区域或不动电荷区域并阻碍电流的流动。因此,当耗尽区的形成影响电流时,该器件称为耗尽型MOSFET。
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涉及MOSFET作为开关的应用
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控制BLDC电机的速度; A, V$ S, _, P3 r8 q4 |" G% p0 }
/ y h$ _% a) A; Y vMOSFET可用作开关以操作DC电机。这里使用晶体管来触发MOSFET。来自微控制器的PWM信号用于接通或断开晶体管。$ Y* W5 j4 y5 t: J- l; S. G! _
- j2 w7 ~8 v: ]% o0 m控制BLDC电机的速度. |0 l% |4 r" ~/ b2 K: P) F
2 {. v# w- ?! H8 m来自微控制器引脚的逻辑低电平信号导致OPTO耦合器工作,在其输出端产生高逻辑信号。PNP晶体管截止,因此MOSFET被触发并接通。漏极和源极端子短路,电流流向电动机绕组,使其开始旋转。PWM信号确保电机的速度控制。7 h! l% @- W; z, P, {1 s: s
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驱动一系列LED: $ G5 M9 ^3 p) }8 m* H4 \0 j5 k! h
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驱动一系列LED
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# [1 G' j3 a1 J0 Z w7 L作为开关的MOSFET操作涉及应用控制LED阵列的强度。这里,由来自外部源(如微控制器)的信号驱动的晶体管用于驱动MOSFET。当晶体管关断时,MOSFET获得电源并接通,从而为LED阵列提供适当的偏置。2 [ l) T( a* Z. h$ N# P
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使用MOSFET开关灯: # c; U+ F8 M) U& a# M
+ ]8 r) Z. F( u A使用MOSFET开关灯
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MOSFET可用作开关来控制灯的开关。此外,MOSFET也使用晶体管开关触发。来自外部源(如微控制器)的PWM信号用于控制晶体管的导通,因此MOSFET接通或断开,从而控制灯的开关。 v* ^ S3 V$ H( ]) G
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