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[毕业设计] 水厂二氧化氯控制系统的设计

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发表于 2019-12-30 19:26 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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* F' D4 p  o& }. |
摘要:为了充分发挥二氧化氯的消毒功能,必须研制一种能自动、安全、适量生产二氧化氯消毒剂的控制系统;基此,设计了一种: L4 e  C% R) y
以AVR单片机为核心的二氧化氯控制系统,给出了其工作原理、硬件组成和软件结构,重点介绍了该系统的控制算法;由于水净化过" U$ H  ]# R% y
程具有很长滞后时间以及不确定性,提出了以流量前馈加仿人智髓模糊的控制算法;现场应用表明,该控制系统界面友好,控制精度较
% L6 V7 I* d- H' c高、抗干扰能力强、能连续稳定运行。+ ?) A9 w+ M* d1 d! \/ f* X
0 F5 B' o$ b0 I+ Q( [: K; f
水处理过程中液氯对饮用水及其它工业用水进行消毒除菌
& g/ D- x+ L6 I* N. g  ~/ }时,会产生致癌物质和其它副产品,而二氧化氯作为新型消毒
% t2 T3 k2 s5 G$ i. h& Q剂,具有广谱、高效、快速的消毒效果,对大肠杆菌、葡萄球. L3 ?/ S4 @# @! {" |
菌等具有很好的杀灭作用,还可以除去水中色度、臭味、藻类* e7 H+ E7 f: t- X" I
等,并且其副产物少,不生成三氯甲烷等卤化物。加之其杀菌4 N7 B# o! `$ j# R8 p' Y
效果基本不受PH值与氨的影响,具有持久的抑菌效果,是国
+ ]! P2 U" Z8 w1 `际上公认的氯气消毒剂最理想的替代产品[1]。但二氧化氯不稳
% g$ ]( U4 ^/ _定的性质决定了其必须现场制备,因此要想发挥二氧化氯的作- V& d: @" M9 ?( E6 x
用,必须研制一种能自动、安全、适量生产二氧化氯消毒剂的
7 V3 H5 u; _- w) o控制系统。本文所介绍的以AVR单片机为核心的二氧化氯控
0 `+ u6 c: c; D! v制系统就是在水处理过程中用于制备二氧化氯和自动投加二氧% C4 |1 A4 f; |. K  s
化氯的自动化系统。- b. ?+ l% ^+ V3 k7 P0 s
ATMEGAl6是一款高性能、低功耗的8位AVR单片机,0 z; Z5 t: D5 O0 t& z5 j2 I
具有先进的RISC结构,8路10位ADC;16K字节的系统内7 ?' T) B9 ^# L+ E% ~
可编程Flash;512字节的EEPROM[2]。我们设计的以AVR
- Z& z+ t. D8 `5 O4 y2 y9 }0 L, |单片机为核心二氧化氯控制系统具有恒温控制、余氯量控制、
% B2 g) ^, H- o& Z$ ~1 b' l; A缺水检测、欠压检测、手动/自动切换以及与上位机的通信功6 ^0 Y4 t: }+ E6 ^  A+ q6 g
能,该系统界面友好,运行稳定,具有广阔的应用前景。* ~. |" [0 D4 g& Q3 p# P! H
1 系统结构与硬件设计
8 ~% X8 A* ]" ~( |3 l, C6 ^5 P1.1 系统控制要求及软硬件设计思路
' e7 j3 E9 m& b3 U) q  _# o+ _
; H8 [- O4 Z  f, G% b; M2 j7 A制备二氧化氯的常用方法之一是氯酸钠和盐酸反应生成,
" c$ ^* J& Z! V' g6 D! l6 Q. [- H原料通过计量泵加入反应罐内。系统的控制要求有二:其一是$ {" a; O$ F, m6 G% s
实现反应罐内恒温控制;其二是实现清水池出水口处的二氧化. x8 q/ X1 F# V% p& {
氯含量控制。根据功能实现的要求,设计了以ATmegal6单
5 b9 c: v, F& `1 a. Z+ C/ O片机为处理核心的硬件系统。对于恒温控制部分,由AD590
+ p, L- h( ^  ]. A4 U  S5 O半导体温度传感器采集回来的信号经放大后,送人AVR单片' ]( S; ~5 s2 T) P$ X/ x0 u
机的A/D端,转换后与给定的温度进行比较,按仿人智能
! c: Y4 r8 R3 @  b3 RPID调节算法[31计算出该时刻的值,经光电隔离和功率放大9 B- S4 J9 ^/ E) r
后,控制双向可控硅调压模块来达到恒温控制。对于出水口余
4 V( O  `/ ^: M% Y氯量的控制,由余氯传感器采集信号经处理后,由AVR单片% w% I4 r- {# S1 n9 P3 u/ \4 @
机采用仿人智能模糊控制加出水口流量前馈控制算法对计量泵$ c3 q. e+ l: j+ G- ~( u) X
的频率进行调节,从而改变二氧化氯的投加量,使出水口处的
, J' Y* ]6 \% ~7 Z% \) ?1 U0 D- Q5 h余氯量保持在允许范围内。系统的整个框图如图1所示。: x( h5 I" a* z+ m

3 F5 c( `8 {6 w; y! `1.2系统硬件结构
" f7 p5 k% @! n7 l( O: j0 Z根据以上设计思路,采用的硬件结构如下:
4 v/ y& f' l) E6 s/ P( @& r/ i/ J(1)数字量采集:数字量采集由单片机的I/O口完成,主: W3 ^# U8 Q' ^1 S
要检测反应罐的工作环境,比如:反应罐的水位,自来水的水, W+ X' E  A2 o, L% }. V+ N
压等。数字量只是一些开关量,开关闭合后,TP521的发光管, F7 E4 {+ N% k6 Q* ?& [

4 U+ F# |8 a2 w/ P& W4 Y7 k工作,光电隔离输出低电平,单片机检测这个信号即可判断反6 l- H) c* F7 l! T# ^1 A7 {- T
应罐内的工作情况。
# U0 u) a+ l, [2 Q(2)模拟量采集:本系统采用的MAX192是Maxim公司./ z. j1 z/ z$ I. G. f+ p$ k( L
开发的8路10位SPI接口的A/D转化器,和单片机连接仅需, k3 A4 R: V$ X6 E8 }
要4个I/O口。为了提高控制器的可靠性和抗干扰能力,对模0 U. c3 L* c7 `0 a9 D
拟量输人进行了光电隔离。  n9 E8 f) ~) W" k; S3 Q
(3)液晶显示器:液晶显示器采用北京青云创新科技发展: M( j8 k* i* O; q) A
有限公司的带中文字库图形液晶显示模块。LCM12864ZK中$ r$ `& z( T7 r* s( t7 }9 z8 A
文液晶显示模块的液晶屏幕为128* 64,可显示四行,每行可" a7 _: _6 V- I, q! Z1 w
显示8个汉字。与单片机等微控器的接口界面灵活(三种模式: R% O* Q* D7 U( C. Z
并行8位/4位串行3线/2线),可实现汉字、ASCII 码、点阵
  N+ E. {, o/ f* ]图形的同屏显示。
0 r7 g3 F/ N" c9 H/ W(4)数字量输出:数字量输出包括继电器的开关输出和控
/ A- R9 `0 v+ y3 |2 o" o. 制计量泵的脉冲输出。继电器输出有两路,分别控制计量泵的
# p6 m5 `, w1 ?1 O电源和外部电磁阀。单片机通过光隔把信号输出给ULN2803
9 {7 f5 O0 m5 x3 L+ ^来驱动继电器。.! q; K1 A" }7 T+ j% i, T
由于计量泵的脉冲频率比较高,一般在0~360次/min,3 h% A) ^; \8 j( @
在这种场合继电器不能满足要求,通过试验证实:直接用
$ u' k* \# x* f( o7 rTP521可以驱动计量泵工作,但是接线要求区分正负极性。
8 a8 [4 j  I2 T6 Y. B. j  A(5)模拟量输出:反应罐内的温度一般要求恒定在78C,$ S1 _( D  N6 U0 L$ p1 P  d
必须要有一-个温度控制系统。传感器采用AD590,该器件为
% F! a$ l* D; f半导体温度传感器,0C时输出为273 μA,每升高1C电流增
( m( c# ?# f0 R8 V加1 μA,在一50~150C之间都可以保持读数的线性,完全符. W# k. Z0 @# g3 a' P
合控制的需要。0 c  t, T9 `# P# v! S
- G6 ~. l& c, K
0 u$ c7 r% ^; f/ W3 z

! v. l- G# M1 K) U/ I8 G$ {- o0 e7 j- D3 c8 v- r( u
  w  V" S4 o& I( X; y: L: X8 s
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附件下载:& O- Y. b0 V2 r2 G( J* h$ d
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