纳米级工艺对物理设计的影响

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当前超大规模集成电路特征尺寸已缩至深亚微米，给集成电路的发展带来了许多巨大的挑战。器件特征尺寸的不断缩小，已经逐步进入纳米尺度的范围，微电子技术的发展模式也已经逼近了材料、技术、器件，以及其他宏观物理规律的适用极限，使集成电路芯片的制造和设计遇到了很多难题。业界之所以不惜高昂代价持续开发纳米级工艺，主要的目的是为了降低单位功能部件所占面积和功耗，从而为进一步提高集成电路的性价比开辟空间。

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制造工艺

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28nm基本可覆盖