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集成电路制造工艺课件

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Get123

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1#
发表于 2022-11-8 08:56 | 只看该作者 回帖奖励 |正序浏览 |阅读模式

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几种常见的光刻方法+ }& k0 ?2 z. r. v8 a' T( T; g
接触式光刻：分辨率较高，但是容易造成掩膜版和光刻胶膜的损伤。9 O2 J8 X: `  B$ V' L
接近式曝光：在硅片和掩膜版之间有一个很小的间隙(10～25m)，可以大大减小掩膜版的损伤，分辨率较低/ a* G  g/ L  M# d: e
投影式曝光：利用透镜或反射镜将掩膜版上的图形投影到衬底上的曝光方法，目前用的最多的曝光方式
% i# b/ R# |% a9 A% h/ J3 r- T4 ^; I3 Z8 a1 w5 Z6 O4 I$ `' P) |

* y2 V) P. C$ F  }5 z; K1 z% J2 N' Q/ C) Q& ]1 U
9 t9 v; F7 j& y/ O
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Andy311

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7#
发表于 2022-11-24 13:53 | 只看该作者
学习

“来自电巢APP”

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awei1981
  • TA的每日心情
    慵懒
    2021-7-31 15:23

    • 签到天数: 8 天

    [LV.3]偶尔看看II
    6#
    发表于 2022-11-24 12:13 | 只看该作者
    集成电路制造课件

    “来自电巢APP”

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    joyce321

    该用户从未签到
    4#
    发表于 2022-11-16 17:42 | 只看该作者
    看看有没有用
    $ Q* w! v$ I7 C% |# ?

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    瞪郜望源_21
  • TA的每日心情
    开心
    2025-11-24 15:18

    • 签到天数: 1222 天

    [LV.10]以坛为家III
    3#
    发表于 2022-11-8 14:57 | 只看该作者
    不错不错，很是稀饭和专业，学习下

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    nevadaooo
  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-12-26 15:28

    • 签到天数: 1 天

    [LV.1]初来乍到
    2#
    发表于 2022-11-8 10:47 | 只看该作者
    现在我们的光刻机28nm还没有

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