光刻与刻蚀工艺解析

showmaker

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$ g; g0 C/ z/ X& X$ ~- I- E光刻是集成电路工艺中的关键性技术。在硅片表面涂上光刻胶薄层，经过光照、显影，在光刻胶上留下掩模版的图形。
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在集成电路制造中，利用光刻胶图形作为保护膜，对选定区域进行刻蚀，或进行离子注入，形成器件和电路结构。
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Vincent_MH

非常感谢分享
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tutututut

光刻机，刻蚀机

瞪郜望源_21

不错不错，很是深度和专业，学习下

awei1981

学习一下，谢谢分享
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Renlz

非常感谢分享