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EDA365电子论坛网»电子社区 › 研发技术版块 › 芯片SIP|封装设计 › 集成电路制造工艺课件
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集成电路制造工艺课件

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Get123

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1#
发表于 2022-11-8 08:56 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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几种常见的光刻方法
: z4 c% C6 {9 [! F, E2 F1 O接触式光刻：分辨率较高，但是容易造成掩膜版和光刻胶膜的损伤。
2 s. J9 z3 @( O) U% ~3 ~' a( V" l5 F接近式曝光：在硅片和掩膜版之间有一个很小的间隙(10～25m)，可以大大减小掩膜版的损伤，分辨率较低" ^! n- O. q+ G( r0 }
投影式曝光：利用透镜或反射镜将掩膜版上的图形投影到衬底上的曝光方法，目前用的最多的曝光方式" |1 ~* p0 k# s" t8 _
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, @8 n; e* n! R. L) l" R7 b5 P" T9 `
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8 z% E! R9 v" Y& K, B% z
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nevadaooo
  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-12-26 15:28

    • 签到天数: 1 天

    [LV.1]初来乍到
    2#
    发表于 2022-11-8 10:47 | 只看该作者
    现在我们的光刻机28nm还没有

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    瞪郜望源_21
  • TA的每日心情
    开心
    2025-11-22 15:53

    • 签到天数: 1221 天

    [LV.10]以坛为家III
    3#
    发表于 2022-11-8 14:57 | 只看该作者
    不错不错，很是稀饭和专业，学习下

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    joyce321

    该用户从未签到
    4#
    发表于 2022-11-16 17:42 | 只看该作者
    看看有没有用
    & `! D7 q$ w- j) S7 a$ d7 M

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    awei1981
  • TA的每日心情
    慵懒
    2021-7-31 15:23

    • 签到天数: 8 天

    [LV.3]偶尔看看II
    6#
    发表于 2022-11-24 12:13 | 只看该作者
    集成电路制造课件

    “来自电巢APP”

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    Andy311

    该用户从未签到
    7#
    发表于 2022-11-24 13:53 | 只看该作者
    学习

    “来自电巢APP”

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