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失效分析主要步骤和内容?

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发表于 2022-1-17 16:02 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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1. 芯片开封:去除IC封胶,同时保持芯片功能的完整无损,保持 die,bondpads,bond wires乃至lead-frame不受损伤,为下一步芯片失效分析实验做准备。
+ g' t3 {6 h, w% z  @9 X2. SEM 扫描电镜/EDX成分分析:包括材料结构分析/缺陷观察、元素组成常规微区分析、精确测量元器件尺寸等等。
7 V. g0 Z  r) \! ]5 y- a5 k3. 探针测试:以微探针快捷方便地获取IC内部电信号。镭射切割:以微激光束切断线路或芯片上层特定区域。
7 q& r: h5 _" ^4 ]4. EMMI侦测:EMMI微光显微镜是一种效率极高的失效分错析工具,提供高灵敏度非破坏性的故障定位方式,可侦测和定位非常微弱的发光(可见光及近红外光),由此捕捉各种元件缺陷或异常所产生的漏电流可见光。. ~% ]) b- z+ b! k% X
5. OBIRCH应用(镭射光束诱发阻抗值变化测试):OBIRCH常用于芯片内部高阻抗及低阻抗分析,线路漏电路径分析。利用OBIRCH方法,可以有效地对电路中缺陷定位,如线条中的空洞、通孔下的空洞。通孔底部高阻区等,也能有效的检测短路或漏电,是发光显微技术的有力补充。$ L# A, D, }+ a0 z0 W* K
6. LG液晶热点侦测:利用液晶感测到IC漏电处分子排列重组,在显微镜下呈现出不同于其它区域的斑状影像,找寻在实际分析中困扰设计人员的漏电区域(超过10mA之故障点)。
: Q% {7 E: k' h# Q; R7. 定点/非定点芯片研磨:移除植于液晶驱动芯片 Pad上的金凸块, 保持Pad完好无损,以利后续分析或rebonding。
. B: ?# l/ e6 x" v1 x0 B8. X-Ray 无损侦测:检测IC封装中的各种缺陷如层剥离、爆裂、空洞以及打线的完整性,PCB制程中可能存在的缺陷如对齐不良或桥接,开路、短路或不正常连接的缺陷,封装中的锡球完整性。$ y  U+ i2 B9 z  F( k1 K
9.  SAT超声波探伤可对IC封装内部结构进行非破坏性检测, 有效检出因水气或热能所造成的各种破坏如:o晶元面脱层,o锡球、晶元或填胶中的裂缝,o封装材料内部的气孔,o各种孔洞如晶元接合面、锡球、填胶等处的孔洞1 U+ m5 J* {1 I& C) X( c
# c' M. @2 I4 N0 c

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2#
发表于 2022-1-17 16:55 | 只看该作者
失效分析有8个步骤其中移除植于液晶驱动芯片 Pad上的金凸块Pad完好无损便于后续分析或rebonding。

该用户从未签到

3#
发表于 2022-1-17 17:41 | 只看该作者
扫描电镜/EDX成分分析包括材料结构分析/缺陷观察
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    [LV.10]以坛为家III

    4#
    发表于 2022-1-20 13:43 | 只看该作者
    excellent prefessional precious datas !!!  thanks for your sharing !!!
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