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本帖最后由 gift325 于 2022-1-12 14:39 编辑 & y1 m& p0 n9 w4 f1 C5 \
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一般来说，集成电路在研制、生产和使用过程中失效不可避免，随着人们对产品质量和可靠性要求的不断提高，失效分析工作也显得越来越重要，通过芯片失效分析，可以帮助集成电路设计人员找到设计上的缺陷、工艺参数的不匹配或设计与操作中的不当等问题。
: [# y0 x; F7 E! y8 n4 b2 ]' S" b 失效分析的意义主要表现& V8 h/ @: t. w/ T0 D2 L% h( T
具体来说，失效分析的意义主要表现在以下几个方面： 2 I! y t+ j% Y3 O M( A4 F
失效分析是确定芯片失效机理的必要手段。 : a+ O- c" y" Q( f; X
失效分析为有效的故障诊断提供了必要的信息。 % a) K. `% O$ s% @. y& J- K
失效分析为设计工程师不断改进或者修复芯片的设计，使之与设计规范更加吻合提供必要的反馈信息。
. ]& @$ V" e! H5 U3 A0 s 失效分析可以评估不同测试向量的有效性，为生产测试提供必要的补充，为验证测试流程优化提供必要的信息基础。
3 Z. Q- V; ^# o2 C 失效分析主要步骤和内容4 E C y: u- J
芯片开封：去除IC封胶，同时保持芯片功能的完整无损，保持 die，bond pads，bond wires乃至lead-frame不受损伤，为下一步芯片失效分析实验做准备。
% I! C; u' K- KSEM 扫描电镜/EDX成分分析：包括材料结构分析/缺陷观察、元素组成常规微区分析、精确测量元器件尺寸等等。
; [6 l" m3 K7 A! e3 r, W) W6 _探针测试：以微探针快捷方便地获取IC内部电信号。镭射切割：以微激光束切断线路或芯片上层特定区域。
6 @" s# u9 B! E7 {/ K7 ~" l/ S: WEMMI侦测：EMMI微光显微镜是一种效率极高的失效分错析工具，提供高灵敏度非破坏性的故障定位方式，可侦测和定位非常微弱的发光（可见光及近红外光），由此捕捉各种元件缺陷或异常所产生的漏电流可见光。; B4 @& Z! Z& [1 n+ X" A; |$ R
OBIRCH应用（镭射光束诱发阻抗值变化测试）：OBIRCH常用于芯片内部高阻抗及低阻抗分析，线路漏电路径分析。利用OBIRCH方法，可以有效地对电路中缺陷定位，如线条中的空洞、通孔下的空洞。通孔底部高阻区等，也能有效的检测短路或漏电,是发光显微技术的有力补充。
7 r$ r! L: a& t. n; m* Z7 lLG液晶热点侦测：利用液晶感测到IC漏电处分子排列重组，在显微镜下呈现出不同于其它区域的斑状影像，找寻在实际分析中困扰设计人员的漏电区域（超过10mA之故障点）。/ y" p, _ }5 v6 t! s6 B
定点/非定点芯片研磨：移除植于液晶驱动芯片 Pad上的金凸块， 保持Pad完好无损，以利后续分析或rebonding。
, h; \2 H: Y R5 Z+ l a9 g/ }/ O1 ]X-Ray 无损侦测：检测IC封装中的各种缺陷如层剥离、爆裂、空洞以及打线的完整性，PCB制程中可能存在的缺陷如对齐不良或桥接，开路、短路或不正常连接的缺陷，封装中的锡球完整性。1 c6 a! `- u8 q+ }1 N. l- _
SAM (SAT)超声波探伤可对IC封装内部结构进行非破坏性检测, 有效检出因水气或热能所造成的各种破坏如：o晶元面脱层，o锡球、晶元或填胶中的裂缝，o封装材料内部的气孔，o各种孔洞如晶元接合面、锡球、填胶等处的孔洞。 |
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发表于 2022-1-12 14:36
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