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[Ansys仿真] 关于不同层走线眼图对比

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  • TA的每日心情

    2023-12-13 15:02
  • 签到天数: 7 天

    [LV.3]偶尔看看II

    跳转到指定楼层
    1#
     楼主| 发表于 2023-12-6 14:41 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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    x
    rt;
    ( N+ J" t4 k7 j0 l   1.表层走线 开窗,高速走线有伴随gnd,走线是共面波导模型
    0 E6 u9 k+ }# {# T- G8 \+ I    2.内层走线,相邻2层 走线也是共面波导模型
    * Q7 i7 }, T5 A   1的走线无过孔 2 的走线两次过孔
    ; n" s9 v6 {/ p6 P现实测 :- D1 l+ M( w+ B, S0 F
       2比1的眼图眼高 亮 睁开的好
    # d, w% h: w+ [: K! Q- T请问:
    : k5 J; |9 [5 | 能否从原理给予解释 哪位大神
    , ]" h' x( }8 p+ J- V; Q( X   产品是给予PAM4的光模块测试对比效果
    & L/ ?6 R3 G0 j8 R+ p6 Q, z( W( W) T/ F+ k* [% w# h6 ~' t
  • TA的每日心情

    2024-12-30 15:17
  • 签到天数: 150 天

    [LV.7]常住居民III

    2#
    发表于 2023-12-6 15:13 | 只看该作者
    原理不清楚,可能这就是为什么要求走线走内层不要走表层的原因!至于原理,把实测结果给到大家就行了。很多时候工作不是上学,知道怎么做已经领先90%的人了。当然你知道为什么那就更优秀了。

    该用户从未签到

    3#
    发表于 2023-12-6 16:38 | 只看该作者
    如果是实测的话,PAM4是56G以上光模块吧,一般建议是不走表层,我理解主要是从以下方面考虑,1,表层处理走线的处理方式是蚀刻+plating,因此阻抗控制较内层差,SDD11较差。2,还是因为蚀刻+plating,表层的铜表面粗糙度不可控,一般都会高出内层很多,SDD21插损会比内层的大。3,表层走线串扰会比内层大,相同的对间距,串扰会增加。看看这些是否可以解释:)

    点评

    有点和你想像不太一样的是,在内层铜的制造过程中,化学腐蚀和机械抛光可能会导致一些不均匀的表面和微小的凹凸。而外层铜通过电镀工艺,将铜层均匀地沉积在基板表面,可以更好地控制铜层的厚度和平整度,因此表面相  详情 回复 发表于 2023-12-25 11:26
    优秀----------------  详情 回复 发表于 2023-12-6 17:24
  • TA的每日心情
    慵懒
    2023-12-7 15:49
  • 签到天数: 4 天

    [LV.2]偶尔看看I

    4#
    发表于 2023-12-6 17:24 | 只看该作者
    遗忘小勇 发表于 2023-12-6 16:38
    $ {' y& b  f! w/ @4 @* r& y. C如果是实测的话,PAM4是56G以上光模块吧,一般建议是不走表层,我理解主要是从以下方面考虑,1,表层处理走 ...

    0 ]5 ^6 e; a" v$ z& S4 o5 v+ _优秀----------------
    , l% J$ |' f) y) N

    该用户从未签到

    5#
    发表于 2023-12-8 14:10 | 只看该作者
    你的仿真模型是纯里层仿真,还是从源PAD,到VIA,到走线,到终端的完整仿真?) I: o4 H9 v! I1 z' d
    VIA,背钻,PCB堆叠有按实际模型么?

    点评

    实际板子制造的阻抗匹配是怎么控制的,板子叠层是怎么做的?表层到参考层的距离,和内层到2个参考层的距离。仿真的时候具体过孔参数、叠层参数等是否的完善了?  详情 回复 发表于 2023-12-12 15:01

    该用户从未签到

    6#
    发表于 2023-12-12 15:01 | 只看该作者
    ttgoer 发表于 2023-12-8 14:10
    9 J" q6 B* o7 \' `你的仿真模型是纯里层仿真,还是从源PAD,到VIA,到走线,到终端的完整仿真?, g/ b6 a2 e3 f; Q; ?$ H
    VIA,背钻,PCB堆叠有按实际 ...

    & r# {+ ~1 B" \3 z. B实际板子制造的阻抗匹配是怎么控制的,板子叠层是怎么做的?表层到参考层的距离,和内层到2个参考层的距离。仿真的时候具体过孔参数、叠层参数等是否的完善了?" Y" q+ _5 k+ c* m! _  P

    该用户从未签到

    7#
    发表于 2023-12-25 11:26 | 只看该作者
    遗忘小勇 发表于 2023-12-6 16:38
    , P7 h8 X' Y0 a9 }如果是实测的话,PAM4是56G以上光模块吧,一般建议是不走表层,我理解主要是从以下方面考虑,1,表层处理走 ...
    ' q, D! f! E( q, u6 G+ h) U3 Z* P
    有点和你想像不太一样的是,在内层铜的制造过程中,化学腐蚀和机械抛光可能会导致一些不均匀的表面和微小的凹凸。而外层铜通过电镀工艺,将铜层均匀地沉积在基板表面,可以更好地控制铜层的厚度和平整度,因此表面相对更加平整光滑。
      k' L5 b4 k" p; {8 S

    该用户从未签到

    8#
    发表于 2023-12-27 18:11 | 只看该作者
    ttgoer 发表于 2023-12-25 11:26:43
    1 I# f7 t4 p. Y$ h. ?3 ?& v- O
    , Z' M! C; q$ B# m& A7 T6 i+ `8 D2 V, z
    ! U- H3 E; E) R3 Y* ~. {# W4 j有点和你想像不太一样的是,在内层铜的制造过程中,化学腐蚀和机械抛光可能会导致一些不均匀的表面和微小的凹凸。而外层铜通过电镀工艺,将铜层均匀地沉积在基板表面,可以更好地控制铜层的厚度和平整度,因此表面相对更加平整光滑。
    * d/ \; l# C. \

    : g( |+ j9 R% @7 d1 m: d请问有实测数据吗?按我的认知来说,正常表层铜箔一般是HTE or STD rz一般6-8um甚至更大,而内层铜箔根据板材不同选择rtf(2-4um),hvlp(1.5-2um)等处理过的铜箔类型,就算做蚀刻+表面棕化,其粗糙度也小于表层铜箔。如果表面铜箔按1oz+plating平均厚度2.2mil左右,基铜1.4mil,注意这个平均厚度,按照ipc的刚标验收表层铜箔好像是大于1点几就算OK,也就是说表层的铜厚都有这些误差,如果再引申到粗糙度那应该更大,仅代表个人观点。/ K9 b+ S8 j" N

    “来自电巢APP”

    该用户从未签到

    9#
    发表于 2024-3-25 18:22 | 只看该作者
    阻抗匹配和插损都要看,表层可能插损更大
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