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[Ansys仿真] 关于不同层走线眼图对比

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  • TA的每日心情

    2023-12-13 15:02
  • 签到天数: 7 天

    [LV.3]偶尔看看II

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    1#
     楼主| 发表于 2023-12-6 14:41 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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    x
    rt;
    + s' u- i. i0 A3 F. ?! b* b, T   1.表层走线 开窗,高速走线有伴随gnd,走线是共面波导模型0 ~/ f# J4 d* G1 o1 z! f
        2.内层走线,相邻2层 走线也是共面波导模型* @3 X( Z8 ]- u7 ]1 [/ M8 a
       1的走线无过孔 2 的走线两次过孔5 o! @- g5 @( `3 t: D( w) }
    现实测 :1 ^8 |1 R% t3 T; [
       2比1的眼图眼高 亮 睁开的好
    9 I. B4 v& ?" r7 _  Y5 w# a8 T请问:
    5 i! o- c  P+ p+ }5 Y 能否从原理给予解释 哪位大神( d* ^" G" D1 I' C$ h
       产品是给予PAM4的光模块测试对比效果6 V$ J. [# W: j! \
    3 K3 S" z/ E' e& d* g& S
  • TA的每日心情

    2024-12-30 15:17
  • 签到天数: 150 天

    [LV.7]常住居民III

    2#
    发表于 2023-12-6 15:13 | 只看该作者
    原理不清楚,可能这就是为什么要求走线走内层不要走表层的原因!至于原理,把实测结果给到大家就行了。很多时候工作不是上学,知道怎么做已经领先90%的人了。当然你知道为什么那就更优秀了。

    该用户从未签到

    3#
    发表于 2023-12-6 16:38 | 只看该作者
    如果是实测的话,PAM4是56G以上光模块吧,一般建议是不走表层,我理解主要是从以下方面考虑,1,表层处理走线的处理方式是蚀刻+plating,因此阻抗控制较内层差,SDD11较差。2,还是因为蚀刻+plating,表层的铜表面粗糙度不可控,一般都会高出内层很多,SDD21插损会比内层的大。3,表层走线串扰会比内层大,相同的对间距,串扰会增加。看看这些是否可以解释:)

    点评

    有点和你想像不太一样的是,在内层铜的制造过程中,化学腐蚀和机械抛光可能会导致一些不均匀的表面和微小的凹凸。而外层铜通过电镀工艺,将铜层均匀地沉积在基板表面,可以更好地控制铜层的厚度和平整度,因此表面相  详情 回复 发表于 2023-12-25 11:26
    优秀----------------  详情 回复 发表于 2023-12-6 17:24
  • TA的每日心情
    慵懒
    2023-12-7 15:49
  • 签到天数: 4 天

    [LV.2]偶尔看看I

    4#
    发表于 2023-12-6 17:24 | 只看该作者
    遗忘小勇 发表于 2023-12-6 16:38
    $ q8 N1 u7 r8 \( I: [3 m3 s如果是实测的话,PAM4是56G以上光模块吧,一般建议是不走表层,我理解主要是从以下方面考虑,1,表层处理走 ...
    $ D: E+ X2 D" r$ e0 s& G
    优秀----------------
    & E) k/ }' F+ f$ p& V: _: g: G+ ^

    该用户从未签到

    5#
    发表于 2023-12-8 14:10 | 只看该作者
    你的仿真模型是纯里层仿真,还是从源PAD,到VIA,到走线,到终端的完整仿真?( `8 U) l. A3 H
    VIA,背钻,PCB堆叠有按实际模型么?

    点评

    实际板子制造的阻抗匹配是怎么控制的,板子叠层是怎么做的?表层到参考层的距离,和内层到2个参考层的距离。仿真的时候具体过孔参数、叠层参数等是否的完善了?  详情 回复 发表于 2023-12-12 15:01

    该用户从未签到

    6#
    发表于 2023-12-12 15:01 | 只看该作者
    ttgoer 发表于 2023-12-8 14:10
    0 e% B4 `) T) y* z# e- h你的仿真模型是纯里层仿真,还是从源PAD,到VIA,到走线,到终端的完整仿真?
    5 t. |8 Q  ?: fVIA,背钻,PCB堆叠有按实际 ...
    * s3 g: O6 v2 `* U6 M
    实际板子制造的阻抗匹配是怎么控制的,板子叠层是怎么做的?表层到参考层的距离,和内层到2个参考层的距离。仿真的时候具体过孔参数、叠层参数等是否的完善了?
    9 G: @  t4 m: d+ K- ^4 X+ p

    该用户从未签到

    7#
    发表于 2023-12-25 11:26 | 只看该作者
    遗忘小勇 发表于 2023-12-6 16:38
    2 H5 N5 J( z* Z$ t! h: {/ R0 W如果是实测的话,PAM4是56G以上光模块吧,一般建议是不走表层,我理解主要是从以下方面考虑,1,表层处理走 ...

    % y& [8 A1 J' ?有点和你想像不太一样的是,在内层铜的制造过程中,化学腐蚀和机械抛光可能会导致一些不均匀的表面和微小的凹凸。而外层铜通过电镀工艺,将铜层均匀地沉积在基板表面,可以更好地控制铜层的厚度和平整度,因此表面相对更加平整光滑。
    % X1 J. ]% J+ H) B, a" i7 }

    该用户从未签到

    8#
    发表于 2023-12-27 18:11 | 只看该作者
    ttgoer 发表于 2023-12-25 11:26:43& W2 L0 C" ^: U% I! u. ~) h
    5 J4 g8 C! ]/ Q- ?; H/ r5 [  Y
    . j9 K$ D6 _+ |/ q/ W$ ~. c# n
    有点和你想像不太一样的是,在内层铜的制造过程中,化学腐蚀和机械抛光可能会导致一些不均匀的表面和微小的凹凸。而外层铜通过电镀工艺,将铜层均匀地沉积在基板表面,可以更好地控制铜层的厚度和平整度,因此表面相对更加平整光滑。

    2 H& ?! p2 Z5 ?/ W3 w6 w0 g$ P# E! a
    请问有实测数据吗?按我的认知来说,正常表层铜箔一般是HTE or STD rz一般6-8um甚至更大,而内层铜箔根据板材不同选择rtf(2-4um),hvlp(1.5-2um)等处理过的铜箔类型,就算做蚀刻+表面棕化,其粗糙度也小于表层铜箔。如果表面铜箔按1oz+plating平均厚度2.2mil左右,基铜1.4mil,注意这个平均厚度,按照ipc的刚标验收表层铜箔好像是大于1点几就算OK,也就是说表层的铜厚都有这些误差,如果再引申到粗糙度那应该更大,仅代表个人观点。
    + }& }' H+ v& L' `4 v3 X

    “来自电巢APP”

    该用户从未签到

    9#
    发表于 2024-3-25 18:22 | 只看该作者
    阻抗匹配和插损都要看,表层可能插损更大
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