光刻与刻蚀工艺解析

showmaker · 发表于 2022-9-29 13:44

您需要登录才可以下载或查看，没有帐号？注册

x

光刻是集成电路工艺中的关键性技术。在硅片表面涂上光刻胶薄层，经过光照、显影，在光刻胶上留下掩模版的图形。

在集成电路制造中，利用光刻胶图形作为保护膜，对选定区域进行刻蚀，或进行离子注入，形成器件和电路结构。

游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

Vincent_MH · 发表于 2022-9-29 14:06

非常感谢分享

tutututut · 发表于 2022-9-29 17:39

光刻机，刻蚀机

瞪郜望源_21 · 发表于 2022-9-30 12:35

不错不错，很是深度和专业，学习下

awei1981 · 发表于 2022-10-26 22:50

学习一下，谢谢分享

Renlz · 发表于 2023-7-27 00:24

非常感谢分享

帐号		自动登录	找回密码
密码			注册

推荐内容 /1