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常用积层(build-up) 式基板共有哪几种类型, 分别给出其制作工艺流程。

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发表于 2020-5-12 10:22 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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常用积层(build-up) 式基板共有哪几种类型,分别给出其制作工艺流程。0 m7 z& E& m  k4 T5 v; n

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发表于 2020-5-12 11:14 | 只看该作者
铜箔掩膜激光制孔-全面电镀方式(涂树脂铜箔方式(RCC) ) :芯板(多 层板).一铜箔粘压→光刻法刻蚀铜箔成孔做掩膜(或直接)激光制孔>去除 孔壁树脂残留化学镀铜全面镀铜-表面电路图形蚀刻成形- +制成两层导体层 ● 激光蚀孔图形电镀法(热固性树脂方式) :芯板(多层板) -→热固性树脂涂 布或粘压-→激光蚀孔- +表面粗化化学镀铜-→由电镀阻挡层形成待镀图形、图 形电镀铜- +电镀阻挡层蚀刻>完成两层导体层积层 光刻蚀孔板面电镀法(感光性树脂方式) :芯板. (多层板) - →感光性树脂涂 布或粘压-→曝光显像- +粗化处理镀铜全面镀铜- +光刻制作表面电路图形- >完 成两层导体板积层 ● 转印法:金属板平面镀铜→待镀电路图形制作图形电镀- >粗适处理-→激光蚀 孔制作通孔- +化学镀铜电镀铜- >添加第二层涂层-→制作第二层的层间互连孔 ALIVH法:芳酰胺不织布半固化片- >激光蚀孔- +空中填充导电浆料与铜箔叠 层一加压积层→光刻制作表面图形- >按次序叠层-→加压积层- >光刻制作表面 图形重复实现多层积层 BBit法: 多次印制形成导电浆料凸块-→凸块穿透半固化片- →积层粘附、压接 光刻形成表面图形- >层间连接凸块

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谢谢你的回复,我学会了  详情 回复 发表于 2020-5-13 14:42

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3#
发表于 2020-5-12 13:14 | 只看该作者
转印法:金属板平面镀铜→待镀电路图形制作图形电镀- >粗适处理-→激光蚀 孔制作通孔- +化学镀铜电镀铜- >添加第二层涂层-→制作第二层的层间互连孔 ALIVH法:芳酰胺不织布半固化片- >激光蚀孔- +空中填充导电浆料与铜箔叠 层一加压积层→光刻制作表面图形- >按次序叠层-→加压积层- >光刻制作表面 图形重复实现多层积层 BBit法: 多次印制形成导电浆料凸块-→凸块穿透半固化片- →积层粘附、压接 光刻形成表面图形- >层间连接凸块

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谢谢你的回复  详情 回复 发表于 2020-5-13 14:42
  • TA的每日心情

    1596524877
  • 签到天数: 1 天

    4#
    发表于 2020-5-12 13:48 | 只看该作者
    激光蚀孔图形电镀法(热固性树脂方式) :芯板(多层板) -→热固性树脂涂 布或粘压-→激光蚀孔- +表面粗化化学镀铜-→由电镀阻挡层形成待镀图形、图 形电镀铜- +电镀阻挡层蚀刻>完成两层导体层积层 光刻蚀孔板面电镀法(感光性树脂方式)

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    5#
    发表于 2020-5-12 13:51 | 只看该作者
    铜箔掩膜激光制孔-全面电镀方式(涂树脂铜箔方式(RCC) ) :芯板(多 层板).一铜箔粘压→光刻法刻蚀铜箔成孔做掩膜(或直接)激光制孔>去除 孔壁树脂残留化学镀铜全面镀铜-表面电路图形蚀刻成形- +制成两层导体层

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    6#
    发表于 2020-5-12 13:53 | 只看该作者
    芯板(多层板) -→热固性树脂涂 布或粘压-→激光蚀孔- +表面粗化化学镀铜-→由电镀阻挡层形成待镀图形、图 形电镀铜- +电镀阻挡层蚀刻>完成两层导体层积层 光刻蚀孔板面电镀法(感光性树脂方式)

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    谢谢你的回复,我学会了  详情 回复 发表于 2020-5-13 14:44
  • TA的每日心情
    开心
    2020-8-4 15:07
  • 签到天数: 1 天

    [LV.1]初来乍到

    7#
    发表于 2020-5-13 13:58 | 只看该作者
    转印法:金属板平面镀铜→待镀电路图形制作图形电镀- >粗适处理-→激光蚀 孔制作通孔- +化学镀铜电镀铜- >添加第二层涂层-→制作第二层的层间互连孔 ALIVH法:芳酰胺不织布半固化片- >激光蚀孔- +空中填充导电浆料与铜箔叠 层一加压积层→光刻制作表面图形- >按次序叠层-→加压积层- >光刻制作表面 图形重复实现多层积层 BBit法: 多次印制形成导电浆料凸块-→凸块穿透半固化片- →积层粘附、压接 光刻形成表面图形- >层间连接凸块
  • TA的每日心情

    1596524877
  • 签到天数: 1 天

    8#
    发表于 2020-5-13 14:40 | 只看该作者
    激光蚀孔图形电镀法(热固性树脂方式) :芯板(多层板) -→热固性树脂涂 布或粘压-→激光蚀孔- +表面粗化化学镀铜-→由电镀阻挡层形成待镀图形、图 形电镀铜- +电镀阻挡层蚀刻>完成两层导体层积层 光刻蚀孔板面电镀法(感光性树脂方式) :

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    9#
     楼主| 发表于 2020-5-13 14:42 | 只看该作者
    grand 发表于 2020-5-12 11:143 a7 a& i. n9 N+ U, F# s, I
    铜箔掩膜激光制孔-全面电镀方式(涂树脂铜箔方式(RCC) ) :芯板(多 层板).一铜箔粘压→光刻法刻蚀铜箔成孔做 ...

    1 h  I) {& z0 {谢谢你的回复,我学会了
    3 U& _! j- Q( s

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    10#
     楼主| 发表于 2020-5-13 14:42 | 只看该作者
    cscscwww 发表于 2020-5-12 13:14. U, \( ]. O$ I7 @8 Q  X4 a
    转印法:金属板平面镀铜→待镀电路图形制作图形电镀- >粗适处理-→激光蚀 孔制作通孔- +化学镀铜电镀铜- >添 ...
    7 H. M0 A. h3 S: G
    谢谢你的回复( E2 h1 Z- D3 h# n

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    11#
     楼主| 发表于 2020-5-13 14:44 | 只看该作者
    plug 发表于 2020-5-12 13:53
    3 I( [7 N: _3 {! L! i5 e芯板(多层板) -→热固性树脂涂 布或粘压-→激光蚀孔- +表面粗化化学镀铜-→由电镀阻挡层形成待镀图形、图  ...
    2 `+ A* k1 A! c' x1 C5 J
    谢谢你的回复,我学会了
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