识别和防止7nm工艺失效经验总结

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发布时间: 2021-4-7 10:49

/ j+ Y- [4 J8 } 器件的良率在很大程度上依赖于适当的工艺规格设定和对制造环节的误差控制，在单元尺寸更小的先进节点上就更是如此。过去为了识别和防止工艺失效，必须要通过大量晶圆的制造和测试来收集数据，然后 ...

three 发表于 2021-4-12 15:55

虚拟制造可广泛应用于各种良率提升研究，而这些研究的结果将推动半导体工艺和技术的发展。

enhgf65 发表于 2021-4-7 13:19

主要通过虚拟制造提高良率学习一下

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