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标题: 关于不同层走线眼图对比 [打印本页]

作者: 专业pcb设计接单    时间: 2023-12-6 14:41
标题: 关于不同层走线眼图对比
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- Y; s! `' t+ d0 ]6 `8 t3 ?% e   1.表层走线 开窗,高速走线有伴随gnd,走线是共面波导模型; n# b2 G; o' p0 I. Q  X
    2.内层走线,相邻2层 走线也是共面波导模型
; J. a; ?; D7 |1 d   1的走线无过孔 2 的走线两次过孔
5 s2 s, K; J( v1 O" S0 D# _2 p, u% D现实测 :+ T/ c- }. @  s3 i
   2比1的眼图眼高 亮 睁开的好; V$ {6 ~4 B( W; ^
请问:
& N: u/ F4 {: U$ M* \. N% t2 B3 } 能否从原理给予解释 哪位大神
% C  r5 J7 S) h3 [( I+ h9 g   产品是给予PAM4的光模块测试对比效果
0 f; j+ a5 e  d  d- U" G
4 A9 v( J6 |; Z
作者: EagleJi    时间: 2023-12-6 15:13
原理不清楚,可能这就是为什么要求走线走内层不要走表层的原因!至于原理,把实测结果给到大家就行了。很多时候工作不是上学,知道怎么做已经领先90%的人了。当然你知道为什么那就更优秀了。
作者: 遗忘小勇    时间: 2023-12-6 16:38
如果是实测的话,PAM4是56G以上光模块吧,一般建议是不走表层,我理解主要是从以下方面考虑,1,表层处理走线的处理方式是蚀刻+plating,因此阻抗控制较内层差,SDD11较差。2,还是因为蚀刻+plating,表层的铜表面粗糙度不可控,一般都会高出内层很多,SDD21插损会比内层的大。3,表层走线串扰会比内层大,相同的对间距,串扰会增加。看看这些是否可以解释:)
作者: mggimg    时间: 2023-12-6 17:24
遗忘小勇 发表于 2023-12-6 16:38/ R3 A  S: D( t. ?& D/ m9 ?
如果是实测的话,PAM4是56G以上光模块吧,一般建议是不走表层,我理解主要是从以下方面考虑,1,表层处理走 ...

2 Z* _9 T/ |0 s优秀----------------) C1 p0 Z4 u$ N" @5 d/ \

作者: ttgoer    时间: 2023-12-8 14:10
你的仿真模型是纯里层仿真,还是从源PAD,到VIA,到走线,到终端的完整仿真?  ~7 |8 d9 [& g( c2 n* M
VIA,背钻,PCB堆叠有按实际模型么?
作者: 15201018930    时间: 2023-12-12 15:01
ttgoer 发表于 2023-12-8 14:10, H4 ^8 F" \9 A1 [8 f) O2 O
你的仿真模型是纯里层仿真,还是从源PAD,到VIA,到走线,到终端的完整仿真?3 o3 b7 }1 ~8 U
VIA,背钻,PCB堆叠有按实际 ...

7 H4 u: K* O: [; m+ C实际板子制造的阻抗匹配是怎么控制的,板子叠层是怎么做的?表层到参考层的距离,和内层到2个参考层的距离。仿真的时候具体过孔参数、叠层参数等是否的完善了?0 m7 N0 }  Q& g; D: t

作者: ttgoer    时间: 2023-12-25 11:26
遗忘小勇 发表于 2023-12-6 16:38) {! G) L  E8 t: A* |5 v4 o0 i% A1 O
如果是实测的话,PAM4是56G以上光模块吧,一般建议是不走表层,我理解主要是从以下方面考虑,1,表层处理走 ...
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有点和你想像不太一样的是,在内层铜的制造过程中,化学腐蚀和机械抛光可能会导致一些不均匀的表面和微小的凹凸。而外层铜通过电镀工艺,将铜层均匀地沉积在基板表面,可以更好地控制铜层的厚度和平整度,因此表面相对更加平整光滑。
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作者: 遗忘小勇    时间: 2023-12-27 18:11
ttgoer 发表于 2023-12-25 11:26:43. P3 }5 u( w! n- m1 E& s3 d
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) [6 R" S) b5 N+ W有点和你想像不太一样的是,在内层铜的制造过程中,化学腐蚀和机械抛光可能会导致一些不均匀的表面和微小的凹凸。而外层铜通过电镀工艺,将铜层均匀地沉积在基板表面,可以更好地控制铜层的厚度和平整度,因此表面相对更加平整光滑。
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请问有实测数据吗?按我的认知来说,正常表层铜箔一般是HTE or STD rz一般6-8um甚至更大,而内层铜箔根据板材不同选择rtf(2-4um),hvlp(1.5-2um)等处理过的铜箔类型,就算做蚀刻+表面棕化,其粗糙度也小于表层铜箔。如果表面铜箔按1oz+plating平均厚度2.2mil左右,基铜1.4mil,注意这个平均厚度,按照ipc的刚标验收表层铜箔好像是大于1点几就算OK,也就是说表层的铜厚都有这些误差,如果再引申到粗糙度那应该更大,仅代表个人观点。
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作者: 嚼出西哈范    时间: 2024-3-25 18:22
阻抗匹配和插损都要看,表层可能插损更大




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