" J9 f' X4 d2 c8 x- U, NTVS的芯片通常是在一定电阻率的P型或N型硅片上先进行磷扩散后进行硼扩散形成的。如果扩散工艺过程中出现硅片电阻率轴向或径向不均匀,杂质浓度不均匀,体内缺陷(位错、层错、微缺陷)或pn结表面不平整等情况,将会造成硅片掺杂不均匀,使硅片各处击穿电压不同,从而使器件击穿时管芯电流分布不均匀,多次浪涌冲击后局部烧毁。 1 b. C `9 @# b& o; [
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4.1 过电应力 , G% g. p; G) A7 P$ i
) N5 P0 k4 W6 u q$ n+ N1 r' _0 q8 N1 r; `5 L
当瞬态脉冲能量超过TVS所能承受能量时会引起TVS器件过电应力损伤,特别是当瞬态脉冲能量达到TVS所能承受能量的数倍时会直接导致TVS器件过电应力烧毁,失效模式表现为短路。过电应力短路失效的TVS芯片在扫描电镜下观察,可发现pn结表面边缘的熔融区域或体内硅片的上表面和下表面的黑斑。 试验表明,发生在结表面边缘过电应力短路失效通常是由持续时间极短(ns 级)的高能量瞬态脉冲所致,例如:EMP、ESD 产生的脉冲;体内过电应力失效通常是由持续时间稍长(μs 级以上)高能量脉冲所致,例如:电快速瞬变,雷电产生的脉冲。如果高能量瞬态脉冲持续时间介于ns级和μs之间,则短路可能发生在结边缘表面,也可能发生在体内。 这一结果可通过热传导速率、硅和电极金属的熔融温度得到解释。如图5所示,pn结边缘到热沉的传热路径比体内长,传热较体内慢,因此结边缘温度比体内高。持续时间极短(ns 级)的高能量瞬态脉冲使边缘温度急剧升高,导致边缘热击穿而烧毁。而持续时间较长(μs 以上)脉冲使边缘热量有足够的时间传至芯片中心周围。随着芯片温度的升高,芯片中心周围产生熔融通道。 当熔融从芯片的一表面延伸到另一表面时,硅片温度超过1400 ℃,处于熔融和非晶状态,成为导体,形成导电通路,使芯片短路。如果脉冲持续时间达到ms级,例如,雷电产生的脉冲,还会使铅锡焊料达到700 ℃以上而发生熔融。 * Z( P" D% I, K. z" J: q3 F0 _5 D' F, p0 }; D