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标题: 刻蚀工艺简介 [打印本页]

作者: geronimo123    时间: 2022-11-1 10:10
标题: 刻蚀工艺简介
刻蚀就是利用光刻胶或其它材料作掩蔽层,对没有保护的区域进行腐蚀,最终实现掩膜版图形变成硅片上图形的图形转移。  [9 f' U& G; n8 k4 k

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作者: 瞪郜望源_21    时间: 2022-11-1 12:08
真是不错,很美味有料和专业,学习下
作者: fantasyqqq    时间: 2022-11-1 13:17
刻蚀是半导体制造的关键步骤之一
作者: panyq    时间: 2022-11-2 09:33
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作者: ang01xin    时间: 2022-11-2 09:45
学习一下~~~
作者: 第五江涛    时间: 2022-11-4 09:18
看看..................
作者: yutaoqi    时间: 2023-1-6 14:19

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作者: 青藤门下一走狗    时间: 2024-10-30 10:33
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