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标题: 亚微米CMOS工艺制程技术流程 [打印本页]
作者: zxcvbvbnmn    时间: 2022-10-10 13:23
标题: 亚微米CMOS工艺制程技术流程
1. 衬底选材
: x6 O; K/ w, l! Y: D2. 清洗
4 B! U% M2 w/ R* z5 P, t* K3. 生长初始氧化硅
4 d: T: ~/ ^! F* E( p4 v4. 晶圆刻号- A7 k9 c! D. c0 I1 H1 L
5. 清洗1 O  w8 p# _4 _  c7 E9 [7 h1 z
6. 第零层光刻处理
* M% v/ Z, i" c. ^: d8 U7. 第零层刻蚀处理% d% C5 a9 c/ N4 Z8 H, f$ ]
8. 去光刻胶+ d1 b/ N7 N. C+ n) e) ]
9. 去除初始氧化层/ v% X4 v. h! G$ ~' z6 v! x

& O! C  z- Q; N1 V. @5 O: @) S) ~8 M; ]8 v1 k, L' a

3 M: k/ ]# Y2 h8 o. p9 ~9 R& y4 a8 d  K# G- m8 ?4 x8 u3 }
3 ~0 B: U9 h1 A0 F2 U
# p% w% o) {+ W; n% h- y+ w4 P
作者: fantasyqqq    时间: 2022-10-10 15:45
CMOS工艺
作者: 瞪郜望源_21    时间: 2022-10-11 11:46
不错不错，很是专业和深度，内容全面丰富，学习下



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